JPS5859444A - 露光されたポジチブ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液 - Google Patents
露光されたポジチブ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液Info
- Publication number
- JPS5859444A JPS5859444A JP57135835A JP13583582A JPS5859444A JP S5859444 A JPS5859444 A JP S5859444A JP 57135835 A JP57135835 A JP 57135835A JP 13583582 A JP13583582 A JP 13583582A JP S5859444 A JPS5859444 A JP S5859444A
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- JP
- Japan
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- lithium
- developer
- sodium metasilicate
- amount
- weight
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、／ジチブ作用を有する複写層のための現像液
、又は更に評言すれば霧光されたポジチブ作用を有する
平版印刷板の非画儂部を除去するための現像液に関する
。
、又は更に評言すれば霧光されたポジチブ作用を有する
平版印刷板の非画儂部を除去するための現像液に関する
。
従来は、印刷板を現像する種々の方法が使用されている
。このような方法の一つは、インゾ關ビルアルコール、
ブチルアルコール、ベンジルアルコール及ヒエチレング
リコールモノエチルエーテルのような溶剤を用いて印刷
板の非画偉部を除去することである。このような溶剤は
、比較的費用がかかり、現像の間に非ｍ儂部と一緒に若
干の画儂も除去してしまうために不利である。
。このような方法の一つは、インゾ關ビルアルコール、
ブチルアルコール、ベンジルアルコール及ヒエチレング
リコールモノエチルエーテルのような溶剤を用いて印刷
板の非画偉部を除去することである。このような溶剤は
、比較的費用がかかり、現像の間に非ｍ儂部と一緒に若
干の画儂も除去してしまうために不利である。
他の方法は、燐酸三ナトリウム、水酸化ナトリウム又は
メタ珪酸ナトリウムのような無機苛性アルカリ化合物を
使用した。しかしこれらの化合物は取扱いが危険であっ
て、感光膜がその上に施された基材を侵食する高い傾向
性を有することがある。これは特に、大部分の平版印刷
板の支持体として用いられるアルオニ９ム及び／又は酸
化アル２ニウムに関しては確実である。
メタ珪酸ナトリウムのような無機苛性アルカリ化合物を
使用した。しかしこれらの化合物は取扱いが危険であっ
て、感光膜がその上に施された基材を侵食する高い傾向
性を有することがある。これは特に、大部分の平版印刷
板の支持体として用いられるアルオニ９ム及び／又は酸
化アル２ニウムに関しては確実である。
米国特許第３８９１４３９号及び同第４１４７５４５号
（＝−西独国特許出願公開第２３５３９９２号）は現像
液として安息香酸リチウムのような有機クチ９ム塩の水
溶液を使用する。しかし該現像液は現像時間が比較的遅
いという欠点を有し、ネガチブ作用を有する印刷板にの
み作用するとＨ己載されている。
（＝−西独国特許出願公開第２３５３９９２号）は現像
液として安息香酸リチウムのような有機クチ９ム塩の水
溶液を使用する。しかし該現像液は現像時間が比較的遅
いという欠点を有し、ネガチブ作用を有する印刷板にの
み作用するとＨ己載されている。
先行技術の前記現像液はいくつかの欠点を有している。
メタ珪酸ナトリウム又は燐酸三ナトリウムの溶液は水酸
化ナトリウムでｐＨ約１３に調節して高い現像速度を得
る場合には、現像液はアルミニウム支持体の酸化物層に
対して極めて腐食性になる。水酸化ナトリウムの量を減
らしてアルミニウム支持体の酸化物層に対する腐食作用
を最小にすると、ｆｊ４ｇＩ！速度は実際の任意の目的
にとっては遅過ぎることになる。
化ナトリウムでｐＨ約１３に調節して高い現像速度を得
る場合には、現像液はアルミニウム支持体の酸化物層に
対して極めて腐食性になる。水酸化ナトリウムの量を減
らしてアルミニウム支持体の酸化物層に対する腐食作用
を最小にすると、ｆｊ４ｇＩ！速度は実際の任意の目的
にとっては遅過ぎることになる。
また、アルカリ性現像化合物と、例えば珪酸アルはニウ
ムの形でのアルきニウム支持体との反応生成物は大体に
おいて現像液中で不溶である。現像液中のこのような沈
緻物は、現像を妨害し、現像装置の損傷の原因となるこ
ともあるので現像装置で使用するには不利である。
ムの形でのアルきニウム支持体との反応生成物は大体に
おいて現像液中で不溶である。現像液中のこのような沈
緻物は、現像を妨害し、現像装置の損傷の原因となるこ
ともあるので現像装置で使用するには不利である。
本発明の目的は、どんなアルミニウム基−材の酸化層に
対して４大体において腐食作用なしに極めて高い現像速
度を得かつ不溶沈殿物が現像を妨害しないか又は現侭装
置の損傷の原因とならない平版印刷版用改良現像液を提
供することである。 ・ 従って本発明は、少なくとも一種の無機リチウム化合物
及びメタ珪酸・ナトリウムから成ることを特徴とする、
露光された？ジチゾ作用を有する感光性複写層、特に平
版印刷板及びフォトレジスト用水性アルカリ性現像液を
提供する。
対して４大体において腐食作用なしに極めて高い現像速
度を得かつ不溶沈殿物が現像を妨害しないか又は現侭装
置の損傷の原因とならない平版印刷版用改良現像液を提
供することである。 ・ 従って本発明は、少なくとも一種の無機リチウム化合物
及びメタ珪酸・ナトリウムから成ることを特徴とする、
露光された？ジチゾ作用を有する感光性複写層、特に平
版印刷板及びフォトレジスト用水性アルカリ性現像液を
提供する。
前記組成物は速い現像速度、基材腐食の大体の減少をも
たらすことが判明し、感光膜のａｗｅ形成部′を有効現
像時間内で現像液による除去に抵抗させる６４？に該組
成物は印刷板又はフォトレジストの現像に有効である。
たらすことが判明し、感光膜のａｗｅ形成部′を有効現
像時間内で現像液による除去に抵抗させる６４？に該組
成物は印刷板又はフォトレジストの現像に有効である。
適当な無機リチウム化合物は全部でないが塩化リチウム
、臭化リチウム、硝酸リチウム、水酸化リチウム、炭酸
リチウム及び硫酸リチウムを包含する。゛ ポジチブ作用を有する印刷板及びフォトレジストの製造
では、０−ナフトキノンジアジド（米国特許第３０４６
１１０〜３０４６１１９号；Ｍ第３０４ｅ１１２１号；
同第３０４６１２４号；同第３１０６４６δ号；閤第３
１４８９８３号；同第３１８０７３３号及び同−第３１
８８２１０号に開示）が感光性複写層として広範に使用
される。＃０−す７トキノンジアジｒは一般には或種の
有機溶剤には可溶であるが、水、弱酸及び弱アルカリ溶
液には不溶である。コーチング溶液は、適用される感光
膜を構成する有機溶剤中の０−ナフトキノンジアジドの
一種以上を用いて製造することができ、次にこの溶液を
適当か基材、例えばアル１ニウム、亜鉛、銅、プラスチ
ック、紙等に塗布する。基材の選択は構造の用途に依存
する。一層の感光膜の塗布された基材を例えば透明原因
を通して露光させると、露光部のＧ−す７トキノンジア
ジドは例えばアルカリ溶液に可溶のインデンカルＩン酸
に分解されると考えられる。従って光の作用によって露
光部と未無光部との間に溶解度の差が生じる。次に例え
ば適当なアルカリ性現像液で処理し、可溶化された非［
６部を除去することによって現像して［１６を得ること
ができる。
、臭化リチウム、硝酸リチウム、水酸化リチウム、炭酸
リチウム及び硫酸リチウムを包含する。゛ ポジチブ作用を有する印刷板及びフォトレジストの製造
では、０−ナフトキノンジアジド（米国特許第３０４６
１１０〜３０４６１１９号；Ｍ第３０４ｅ１１２１号；
同第３０４６１２４号；同第３１０６４６δ号；閤第３
１４８９８３号；同第３１８０７３３号及び同−第３１
８８２１０号に開示）が感光性複写層として広範に使用
される。＃０−す７トキノンジアジｒは一般には或種の
有機溶剤には可溶であるが、水、弱酸及び弱アルカリ溶
液には不溶である。コーチング溶液は、適用される感光
膜を構成する有機溶剤中の０−ナフトキノンジアジドの
一種以上を用いて製造することができ、次にこの溶液を
適当か基材、例えばアル１ニウム、亜鉛、銅、プラスチ
ック、紙等に塗布する。基材の選択は構造の用途に依存
する。一層の感光膜の塗布された基材を例えば透明原因
を通して露光させると、露光部のＧ−す７トキノンジア
ジドは例えばアルカリ溶液に可溶のインデンカルＩン酸
に分解されると考えられる。従って光の作用によって露
光部と未無光部との間に溶解度の差が生じる。次に例え
ば適当なアルカリ性現像液で処理し、可溶化された非［
６部を除去することによって現像して［１６を得ること
ができる。
前記米国特許に記載された化合物（その中の多くは他所
でも報告されている）は、キノン及び０−ナフトキノン
ジアジＰの低分子エステル及び酸ア建ドである。このよ
うな化合物を単独に例えば平版印刷板の製造に使用する
と、同化合物は結晶の形で析出され、この結晶゛の形の
ために得られた画像の機械的強さが減退され、長い印刷
運転を得ることが困難になる。従って核感光性化合物に
対する添加物として通常適当な重合樹脂材料を使用して
該感光性物質の結晶化を妨止し、機械的強さの減ｉを補
償する。この目的のために使用される適当な重合材料が
、七ラック、スチレン−無水！レインぼコポリマー、疎
水性熱可塑性／ＩＪウレタン（米国特許第３６６０（１
７号）のようなアルカリ可溶性樹脂、特にフェノールと
ホルムアルデヒｒとの低分子量縮合生成物、所Ｍ＠ノゼ
ラック”（米国特許票３１４６９８３号及び同第３１８
８２１０号）である。
でも報告されている）は、キノン及び０−ナフトキノン
ジアジＰの低分子エステル及び酸ア建ドである。このよ
うな化合物を単独に例えば平版印刷板の製造に使用する
と、同化合物は結晶の形で析出され、この結晶゛の形の
ために得られた画像の機械的強さが減退され、長い印刷
運転を得ることが困難になる。従って核感光性化合物に
対する添加物として通常適当な重合樹脂材料を使用して
該感光性物質の結晶化を妨止し、機械的強さの減ｉを補
償する。この目的のために使用される適当な重合材料が
、七ラック、スチレン−無水！レインぼコポリマー、疎
水性熱可塑性／ＩＪウレタン（米国特許第３６６０（１
７号）のようなアルカリ可溶性樹脂、特にフェノールと
ホルムアルデヒｒとの低分子量縮合生成物、所Ｍ＠ノゼ
ラック”（米国特許票３１４６９８３号及び同第３１８
８２１０号）である。
フェノール−ホルムアルデヒドＩｔｌｆｉの特定の例に
はヘキスト（Ａｏ＊ｃｈａｔ ） ＡＧ （西独国）に
よって製造されるような着干のアルノーはル（Ａｌｎ６
ｖｏ ｌ ：商品名）型が含まれる。
はヘキスト（Ａｏ＊ｃｈａｔ ） ＡＧ （西独国）に
よって製造されるような着干のアルノーはル（Ａｌｎ６
ｖｏ ｌ ：商品名）型が含まれる。
感光性化合物の例には全部ではないが以下の本のが包含
される： ２．２−ビス〔ナフトキノン−（１，２）−ジアジｒ−
（２）−スルホニル−ヒドロキシ−（５）〕−〕ジナフ
チルー１．１’）−メタン、２．３−ビス〔ナフトキノ
ン−（１，２）−ジアジｙ−２（２）−スルホニルヒド
ロキシー（５））ニジヒｒロキシベンゾフエノン、ナフ
トキノン−（１，２）−ジアジ）’−（２）−スルホン
酸−（５）と１．２．３−）リヒドロキシベンゾフェノ
ンとのエステル、 ナフトキノン−（１、２） −、）アジド（４辷−スル
ホン酸クロリド、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−スルホ
ニルヒドロキシ−（４）−フェニルクメン。
される： ２．２−ビス〔ナフトキノン−（１，２）−ジアジｒ−
（２）−スルホニル−ヒドロキシ−（５）〕−〕ジナフ
チルー１．１’）−メタン、２．３−ビス〔ナフトキノ
ン−（１，２）−ジアジｙ−２（２）−スルホニルヒド
ロキシー（５））ニジヒｒロキシベンゾフエノン、ナフ
トキノン−（１，２）−ジアジ）’−（２）−スルホン
酸−（５）と１．２．３−）リヒドロキシベンゾフェノ
ンとのエステル、 ナフトキノン−（１、２） −、）アジド（４辷−スル
ホン酸クロリド、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−スルホ
ニルヒドロキシ−（４）−フェニルクメン。
前記樹脂は望ましぐは感光性化合物１重量部当り少なく
と４０．１重量部の量、好ましくは感光性化合物１重量
部当り０．５〜約５重量部の量で使用する。
と４０．１重量部の量、好ましくは感光性化合物１重量
部当り０．５〜約５重量部の量で使用する。
本発明の現像液は、複写層の現像に直撃有効な水中・濃
度で処方されていてもよいし、また当初は濃縮液、つま
り活性成分が現像液として使用するのに必要とするより
４高い濃度で存在する水性溶液として処方されていても
よい。この濃縮液、を使用前に水で希釈して好ましい使
用濃度にする。
度で処方されていてもよいし、また当初は濃縮液、つま
り活性成分が現像液として使用するのに必要とするより
４高い濃度で存在する水性溶液として処方されていても
よい。この濃縮液、を使用前に水で希釈して好ましい使
用濃度にする。
またｆＡ儂液中に、現像を促進縣かつ鷹逃理を準備する
付加的成分を含有するのも望ましい。゛このような成分
は例えば溶剤、ｍｓ剤又は界面活性剤、金属クリーナー
等である。
付加的成分を含有するのも望ましい。゛このような成分
は例えば溶剤、ｍｓ剤又は界面活性剤、金属クリーナー
等である。
−ｇ１組成物中には、メタ珪酸ナトリ９ム好ましくは′
夕珪酸す）！ｊ＋７Ａ五水和物又は珪−ナトリウム九水
和物が、最高給３０重量係、好ましくはｌ、〜２０重量
−１更に有利に社３〜１０重量係の量で存在していても
よい。無機リチウム化合物は約０．、ｌＮ１０重量％、
好ましくは０、 ｌＮ３１重量％、更悴有利には０．２
〜１重量優の量で存在して、やてよく、残余は水である
。各リチウム化−物の有利な量は範囲内で変化する度に
依存して当業者によって容挑に決定しうる。
夕珪酸す）！ｊ＋７Ａ五水和物又は珪−ナトリウム九水
和物が、最高給３０重量係、好ましくはｌ、〜２０重量
−１更に有利に社３〜１０重量係の量で存在していても
よい。無機リチウム化合物は約０．、ｌＮ１０重量％、
好ましくは０、 ｌＮ３１重量％、更悴有利には０．２
〜１重量優の量で存在して、やてよく、残余は水である
。各リチウム化−物の有利な量は範囲内で変化する度に
依存して当業者によって容挑に決定しうる。
メタ珪酸ナトリウムは、特定の理論に拘束されることな
く、それ自体；は腐食性であるけれども、無機リチウム
化合物によって、後続侵食に対する遮断層たる基材上の
珪酸アル＜ニウム保−膜を形成するように調節されると
考えられる・士発明社・瞥にア″建＝ウム／酸化アー″
ｉ二つ！表面を侵食すること′なくメタ珪酸アルミ二９
ムの現像腐食性を維持することを意図している。
く、それ自体；は腐食性であるけれども、無機リチウム
化合物によって、後続侵食に対する遮断層たる基材上の
珪酸アル＜ニウム保−膜を形成するように調節されると
考えられる・士発明社・瞥にア″建＝ウム／酸化アー″
ｉ二つ！表面を侵食すること′なくメタ珪酸アルミ二９
ムの現像腐食性を維持することを意図している。
次の実施例及び比較例ですべての現像液を、次の手順に
より製造された板を現像することによって評価するニ ブラッシングした陰極酸化湿潤アルミニタム箔に、回転
塗布機でノゼラツク樹脂６．５１量部、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル１００重量部中の感光性化合物
（ナフトキノン−（ｌ、２）−ジアジド−（２）−スル
ホン酸−（５塗布した。同箔の°塗膜は約３９／ビであ
った。
より製造された板を現像することによって評価するニ ブラッシングした陰極酸化湿潤アルミニタム箔に、回転
塗布機でノゼラツク樹脂６．５１量部、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル１００重量部中の感光性化合物
（ナフトキノン−（ｌ、２）−ジアジド−（２）−スル
ホン酸−（５塗布した。同箔の°塗膜は約３９／ビであ
った。
次にこの塗布箔を乾燥しかつポジチブ原図下で露光した
。次に露光板を表示の水性アルカリ性現像液中で、現像
速度を決定するために２０秒間、次に現ｆｌＲ液による
酸化物侵食を観察するために７分間現俸した。
。次に露光板を表示の水性アルカリ性現像液中で、現像
速度を決定するために２０秒間、次に現ｆｌＲ液による
酸化物侵食を観察するために７分間現俸した。
本発明にとって有用な現儂液社、望ましくは２０秒の現
像後にはスタツファ−（５ｔｏｕｒｒｅｒ）グレースケ
ールの養段階の読みを与えるのに十分な現像速度を有す
るが、同時に同・現像液によるアルミニウムの侵食は大
体において生じない。
像後にはスタツファ−（５ｔｏｕｒｒｅｒ）グレースケ
ールの養段階の読みを与えるのに十分な現像速度を有す
るが、同時に同・現像液によるアルミニウムの侵食は大
体において生じない。
商業的に許容可能な板は約２０秒で現像できると考えら
れる。、７分の現像試験は現像温度の効果を試験するた
めに実施する。露光板が７分後に酸化物侵食を受けなけ
れば、同板は通常の商業的条件下での使用に安全である
と結論することができる。
れる。、７分の現像試験は現像温度の効果を試験するた
めに実施する。露光板が７分後に酸化物侵食を受けなけ
れば、同板は通常の商業的条件下での使用に安全である
と結論することができる。
比較例Ｃ１〜Ｃ４
メタ珪酸ナトリウム（五水和物）を含有する現像液
り 塗膜奉−４上の激しい酸化物侵食によりグレースケ
ールは前記グレースケール下では得られなかった。
ールは前記グレースケール下では得られなかった。
比較例０５〜Ｃ８
水酸化す） ＩＪウムを含有する現像液Ｉ）塗膜の完全
な除去及び激しい酸化物侵食が観察される。
な除去及び激しい酸化物侵食が観察される。
比較例０９〜Ｃ１２
水酸化リチウムを含有する現像液
り 激しい酸化物侵食によりグレースケールは得られな
かった。
かった。
比較例Ｃ１３〜Ｃ１６
メタ珪酸ナトリウム（五水和物）／水酸化ナトリウムを
含有する現像液 ＊）塗膜の完全除去及び激しい酸化物侵食が観察される
。
含有する現像液 ＊）塗膜の完全除去及び激しい酸化物侵食が観察される
。
林）塗膜の完全除去が観察される。
メタ珪酸ナトリウム（五水和物）／安息香酸リチウムを
含有する現壕液 リ 現像速度が遅すぎて標準商業的条件下で使用できな
い。
含有する現壕液 リ 現像速度が遅すぎて標準商業的条件下で使用できな
い。
ＩＩ） ｍ膜の完全除去が観察される。
例１〜４
メタ珪酸ナトリウム（五水和物）／水酸化リチリ ｍ＊
の完全な除去は観察されたが、酸化物侵食は観察されな
い。
の完全な除去は観察されたが、酸化物侵食は観察されな
い。
例６〜１２及び比較例０２０及びＣ２１メタ珪酸ナトリ
ウム五水和物（８ＭＳ ） ／無機リチワム埴を含有す
る現僚液 り 塗膜は完全に除去された。
ウム五水和物（８ＭＳ ） ／無機リチワム埴を含有す
る現僚液 り 塗膜は完全に除去された。
傘＊） 塗膜の完全除去の他に、激しい酸化物侵食及
び重いチョーク状析出物が観察された。
び重いチョーク状析出物が観察された。
“微少″酸化物侵食の報告された前記各側で・は、同酸
化物侵食は肉眼によっては見えない程少量である。この
反応生成物からの沈殿物の堆積によって前述欠点が生じ
る。
化物侵食は肉眼によっては見えない程少量である。この
反応生成物からの沈殿物の堆積によって前述欠点が生じ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１種の無機リチウム化合物及びメタ珪酸
ナトリウムから成ることを特徴とする露光されたＩジチ
ゾ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液。 ２ 前記無機リチウム化合物が水酸化リチウム、塩化リ
チウム、臭化リチウム、硝酸リチウム、炭酸リチウム及
び／又、は硫酸リチウムである特許請求の範囲第１項記
載の現像液。 ３、 メタ珪酸ナトリウムが最高３０重量慢の量で存在
する特許請求の範囲第１項記載の現像液。 ４、 メタ珪酸ナトリウムが１〜２０１１量嘔の量で存
在する特許請求の範囲第１ＪＪ記載の現像液。 ５、 メタ珪酸ナトリウムが３〜１０重量−〇量で存在
する特許請求の範囲第１項記載の現像液。 ６、無機リチウム化合物が０．１〜ｌＯ重量−の量で存
在する特許請求の範囲第１項記載の現像液。 ７、無機リチウム化合物が０．１〜３重量嗟の量で存在
する特許請求の範囲第１項記載の現像液。 ８、無機リチウム化合物が０．２〜１重量−の量で存在
する特許請求の範囲第１項記載の現像液。 ９、少なくとも１種の無機リチウム化合物及びメタ珪酸
ナトリウムから成り、！！Ｋ１種以上の成分を、有機溶
剤、湿潤剤、界面活性剤′及び金属クリーナーとして包
含することを特徴とする露光されたｄジチブ作用を有す
る感、光複写層用水性アルカリ現像液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/290,634 US4366224A (en) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | Inorganic lithium developer composition |
| US290634 | 1981-08-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859444A true JPS5859444A (ja) | 1983-04-08 |
Family
ID=23116909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57135835A Pending JPS5859444A (ja) | 1981-08-06 | 1982-08-05 | 露光されたポジチブ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4366224A (ja) |
| EP (1) | EP0071823B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5859444A (ja) |
| AT (1) | ATE19697T1 (ja) |
| DE (1) | DE3270990D1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5942368A (en) * | 1996-04-23 | 1999-08-24 | Konica Corporation | Pigment dispersion composition |
| EP1584984A1 (en) | 2004-04-06 | 2005-10-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for replenishing developer in an automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate |
| EP2381312A2 (en) | 2000-08-25 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4786582A (en) * | 1985-08-02 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Organic solvent free developer for photosensitive coatings |
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| EP0071823A3 (en) | 1983-03-23 |
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