JPS585737A - 感光性混合物 - Google Patents
感光性混合物Info
- Publication number
- JPS585737A JPS585737A JP57106974A JP10697482A JPS585737A JP S585737 A JPS585737 A JP S585737A JP 57106974 A JP57106974 A JP 57106974A JP 10697482 A JP10697482 A JP 10697482A JP S585737 A JPS585737 A JP S585737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- naphthoquinone
- group
- formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Measuring Or Testing Involving Enzymes Or Micro-Organisms (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本実−は感光性化合物として、Cメーヒ10キシフェニ
ルアルカンの1,2−ナツトキノン−2−−アジ−スル
ホン駿エステルを含有スるIジチブ眉感光性温舎物に調
する。同温金物は411に千履劇作用に使用される。
ルアルカンの1,2−ナツトキノン−2−−アジ−スル
ホン駿エステルを含有スるIジチブ眉感光性温舎物に調
する。同温金物は411に千履劇作用に使用される。
上記の履0$JJt性化会物はMiPイツ■善許明細書
j1872154号から全知である。それらはナツトキ
ノンシア?)tスルホン酸でエステル化される2、2−
ビス−(4−ヒPロキシ7エエル)−プロノぐン又嬬♂
スー(4−ヒycI411ジフェニル)−メタンである
。それらの化合物は比較的高い感光度を有し、真好な印
刷結at生じるが、他方l[#の被積層に常用される有
an剤、例えばダリコール部分エーテル又はカルーン酸
アルキルエステル例えば酢酸ジチル中への協解直が、多
くoii的にとってあt染にも健いという欠点がある・
更に水不溶性で参るがアルカリ性水**剤中にはIII
聯する有刹なAインダー、例えdノーラックと一緒に形
成する層は、未露光状態KThv%て、常用Oアルカリ
wIl現像箪に対する抵抗性が不十分でTob−又それ
らの層線、インキがアルコールを會有すゐ鳩舎、オフセ
ット印刷機での印刷O関あるIll直侵蝕される―メチ
レンを介して2傭のべ/4ンlが縮食し、脂肪族置換基
を有するある一定のビス−フェノール誘導体のす7トキ
ノンジアジPスルホノ酸エステルを含有する1合物が酉
?イツー畳許会−会報第282803’r勺から全知で
ある。それら化合物の有機溶剤中への濤解直は高い、し
かしアルカリ性現像箪並びに食アルコールインキに対す
み抵抗性は壜だ最□適ではない。
j1872154号から全知である。それらはナツトキ
ノンシア?)tスルホン酸でエステル化される2、2−
ビス−(4−ヒPロキシ7エエル)−プロノぐン又嬬♂
スー(4−ヒycI411ジフェニル)−メタンである
。それらの化合物は比較的高い感光度を有し、真好な印
刷結at生じるが、他方l[#の被積層に常用される有
an剤、例えばダリコール部分エーテル又はカルーン酸
アルキルエステル例えば酢酸ジチル中への協解直が、多
くoii的にとってあt染にも健いという欠点がある・
更に水不溶性で参るがアルカリ性水**剤中にはIII
聯する有刹なAインダー、例えdノーラックと一緒に形
成する層は、未露光状態KThv%て、常用Oアルカリ
wIl現像箪に対する抵抗性が不十分でTob−又それ
らの層線、インキがアルコールを會有すゐ鳩舎、オフセ
ット印刷機での印刷O関あるIll直侵蝕される―メチ
レンを介して2傭のべ/4ンlが縮食し、脂肪族置換基
を有するある一定のビス−フェノール誘導体のす7トキ
ノンジアジPスルホノ酸エステルを含有する1合物が酉
?イツー畳許会−会報第282803’r勺から全知で
ある。それら化合物の有機溶剤中への濤解直は高い、し
かしアルカリ性現像箪並びに食アルコールインキに対す
み抵抗性は壜だ最□適ではない。
本発明OI的繻、感光性化食物として新規な1.2−ナ
フトキノン−2−ジアジ−スルホンlll−ステルを會
有し、その印刷−及び複写**が?coco会知O最畳
の混合物のそれと少なくとも匹敵し、かつアルカリ性水
Ik狐像箪並びにオフーット印11KII層畜れる當ア
ルーールイン*に対すゐ紙抗4!Iがよ)高く、−瞭な
階調、有機溶剤中への高いSS*韮びに良好な親油性を
有し、単一化学物質として簡単な方法で属進出来為感光
!に4ジテデM温舎物を提供することで参つ九。
フトキノン−2−ジアジ−スルホンlll−ステルを會
有し、その印刷−及び複写**が?coco会知O最畳
の混合物のそれと少なくとも匹敵し、かつアルカリ性水
Ik狐像箪並びにオフーット印11KII層畜れる當ア
ルーールイン*に対すゐ紙抗4!Iがよ)高く、−瞭な
階調、有機溶剤中への高いSS*韮びに良好な親油性を
有し、単一化学物質として簡単な方法で属進出来為感光
!に4ジテデM温舎物を提供することで参つ九。
本発明は感光性化合物として、ピスーヒン■キシ7エエ
ルアルカンの1.2−ナツト中ノンー2−−アジ?一番
−スルホン酸−又は1.2−ナフFキノンー2−ジアジ
¥−6−スルホン酸エステルを含有する感光性混合物に
関する。
ルアルカンの1.2−ナツト中ノンー2−−アジ?一番
−スルホン酸−又は1.2−ナフFキノンー2−ジアジ
¥−6−スルホン酸エステルを含有する感光性混合物に
関する。
本実11による混合物は一般式I:
RR’
〔式中=Dは1.2−す7トキノンー2−ジアジター6
−スルホニル基又は1.2−す7トキノン−2−一アジ
?−養−ス^ホエル基、有刹には1.2−ナツト中ノン
ー2−ジアジP−6−スルホニル基を表わし、R及びR
′は水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は式:
DOO基を表わし、nti6〜18.有利には8〜1番
の数を示す〕のナフト牟ノンジアジPスルホン駿エステ
ルを含有する・ 有利には基R及びR′の少なくとも一方がり。
−スルホニル基又は1.2−す7トキノン−2−一アジ
?−養−ス^ホエル基、有刹には1.2−ナツト中ノン
ー2−ジアジP−6−スルホニル基を表わし、R及びR
′は水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は式:
DOO基を表わし、nti6〜18.有利には8〜1番
の数を示す〕のナフト牟ノンジアジPスルホン駿エステ
ルを含有する・ 有利には基R及びR′の少なくとも一方がり。
基であ)、又−紋に、R及びR′は有利に同じものを表
わす。
わす。
本発明による混合物中に含有される中ノンジアジ1は新
規な物質である会それは公知法と同様のや9方で、出発
物質多価フェノールの7エノール性ヒyロヤ”1nto
−キノンシアー)rスルホン駿又はその反応*gs導体
例えば塩化スルホニルでエステル化することにより製造
される。
規な物質である会それは公知法と同様のや9方で、出発
物質多価フェノールの7エノール性ヒyロヤ”1nto
−キノンシアー)rスルホン駿又はその反応*gs導体
例えば塩化スルホニルでエステル化することにより製造
される。
椙幽する先駆物質1例えばポリメチレンビスフェノール
嬬長鎖脂肪族ジオールをフェノール24ルと明細に脱水
剤例えば三弗化硼素又は塩化鳳鉛の存在下で3〜7時間
120〜170℃に加電することにより調造1れる・ζ
otiio化合物は米閣善許[1書第2321620号
及びジャーナル オブ ジ アメリカン ケζカルソt
イエティ(J、 Am、 CMm、 8oc、 ) 1
940年籐6241)413頁に記載されている・椙幽
するアルキレンビスフェノール4/リメテレydケ)フ
ェノールの2個Oケト基のフレメンぜ/11元によ〉有
1/@に製造することが出来る。同出発物質イリメチレ
ンジケトフェノールハ高級ノ#ツフインジカルIン酸と
フェノールとの反応によc得られゐ(シエーζツシエ
ベリヒf (Chew。
嬬長鎖脂肪族ジオールをフェノール24ルと明細に脱水
剤例えば三弗化硼素又は塩化鳳鉛の存在下で3〜7時間
120〜170℃に加電することにより調造1れる・ζ
otiio化合物は米閣善許[1書第2321620号
及びジャーナル オブ ジ アメリカン ケζカルソt
イエティ(J、 Am、 CMm、 8oc、 ) 1
940年籐6241)413頁に記載されている・椙幽
するアルキレンビスフェノール4/リメテレydケ)フ
ェノールの2個Oケト基のフレメンぜ/11元によ〉有
1/@に製造することが出来る。同出発物質イリメチレ
ンジケトフェノールハ高級ノ#ツフインジカルIン酸と
フェノールとの反応によc得られゐ(シエーζツシエ
ベリヒf (Chew。
Ber、) 1941年g7411772頁)、1゜1
−ビス(4−ヒPロキ7フエエル)−アルカンは、フェ
ノール2篭ルを高級脂肪族アルデヒy1モルと塩酸の存
在下で縮合反応させることによりII4造される。椙幽
する化合物はジャーナル オブ ジ アメリカン ケき
カル ソサイエテイ(J、人m、 Chem、 Soc
、 ) 1932年$1544)4325頁に記載さ
れている。
−ビス(4−ヒPロキ7フエエル)−アルカンは、フェ
ノール2篭ルを高級脂肪族アルデヒy1モルと塩酸の存
在下で縮合反応させることによりII4造される。椙幽
する化合物はジャーナル オブ ジ アメリカン ケき
カル ソサイエテイ(J、人m、 Chem、 Soc
、 ) 1932年$1544)4325頁に記載さ
れている。
感光膜中のfIirtAナフトキノンジアジPスルホン
酸エステルO1!度は比較的広範閣内で変化させること
が出来る・一般にその割合は、感光性拠金物中0Iii
I体分の重量に対して3〜δO1有*には7〜25−で
ある・ 本発明による感光性混合物は有′sK%本実鴫による温
金物用on剤中に可溶で又アルカリ水濤筐中にも可溶で
あるか又は少なくとも廖潤し得る水不滲性樹腫様高分子
/lインI−も含有する・ す7トキノン?アジft−4−スとする多くの4ジチデ
複写材用に適轟であることが立IEされているノーラッ
ク縮合樹脂が、新規す7トキノ/ジアジ?スルホン酸エ
ステルを含有する本実11による混合物への添加物とし
ても411に有用卸有利であることが判明した。それは
現儂0IIliに感光膜中の露光域と未露光域間の明確
な差異を助長する。この効果は、ホルムアルデヒPと縮
合するフェノールが置換フェノール例えにクレゾールで
ある。よp高度に縮合し九樹脂を使用する場合、41に
得られる。アルカリ中に可溶であゐか、又はアルカリ中
で廖潤し得る別(D’インダーとしては、天―樹脂例え
ばセラック及び四ジン、及び含酸樹脂例えばスチレンと
鍼水Tレイン酸とからの共重合体又はアクリル酸又はメ
タタシル酸と、41にアタリルー又はメタタリル瞭エス
テルとからO共重合体が挙げられゐ・アルカ9111m
Ikml脂の性質及び量は使用間約に応じて変えること
が出来る。そO量は金一体會量に対して、有利IC95
〜50重量−1轡に有利には95〜60重量−である・
それに加えて多くの別の樹脂、有利には工4キシP及び
Cニル重合体例えばIす♂ニルアセテート、4リアクリ
レート、/1ノビニルアセタール、−り♂ニルエーテル
及びIす♂ニルピロリPン、及びそれら重合体を構成す
るモノマーからO共重合体を付加的に使用することも可
能である。それらの樹脂の最も有利な使用割合は、*求
される技術的性能及び現象条件に及ぼす効果に依存し、
一般にアルカリ溶解性樹脂に対し20重量−より多くな
い。特別な要求1例えば可撓性、付着性、光沢1色及び
変色等に対し要求がある場合に蝶1本発明による感光性
混合物に少量の物質、例えばIリグリコール、セル嚢−
スー導体例えばエチルセル四−ス、温潤剤、染料、付着
促進剤及び微粉状顔料及び、所望の場合には、紫外−1
llIL剤を付加的に含有させることも出来る。
酸エステルO1!度は比較的広範閣内で変化させること
が出来る・一般にその割合は、感光性拠金物中0Iii
I体分の重量に対して3〜δO1有*には7〜25−で
ある・ 本発明による感光性混合物は有′sK%本実鴫による温
金物用on剤中に可溶で又アルカリ水濤筐中にも可溶で
あるか又は少なくとも廖潤し得る水不滲性樹腫様高分子
/lインI−も含有する・ す7トキノン?アジft−4−スとする多くの4ジチデ
複写材用に適轟であることが立IEされているノーラッ
ク縮合樹脂が、新規す7トキノ/ジアジ?スルホン酸エ
ステルを含有する本実11による混合物への添加物とし
ても411に有用卸有利であることが判明した。それは
現儂0IIliに感光膜中の露光域と未露光域間の明確
な差異を助長する。この効果は、ホルムアルデヒPと縮
合するフェノールが置換フェノール例えにクレゾールで
ある。よp高度に縮合し九樹脂を使用する場合、41に
得られる。アルカリ中に可溶であゐか、又はアルカリ中
で廖潤し得る別(D’インダーとしては、天―樹脂例え
ばセラック及び四ジン、及び含酸樹脂例えばスチレンと
鍼水Tレイン酸とからの共重合体又はアクリル酸又はメ
タタシル酸と、41にアタリルー又はメタタリル瞭エス
テルとからO共重合体が挙げられゐ・アルカ9111m
Ikml脂の性質及び量は使用間約に応じて変えること
が出来る。そO量は金一体會量に対して、有利IC95
〜50重量−1轡に有利には95〜60重量−である・
それに加えて多くの別の樹脂、有利には工4キシP及び
Cニル重合体例えばIす♂ニルアセテート、4リアクリ
レート、/1ノビニルアセタール、−り♂ニルエーテル
及びIす♂ニルピロリPン、及びそれら重合体を構成す
るモノマーからO共重合体を付加的に使用することも可
能である。それらの樹脂の最も有利な使用割合は、*求
される技術的性能及び現象条件に及ぼす効果に依存し、
一般にアルカリ溶解性樹脂に対し20重量−より多くな
い。特別な要求1例えば可撓性、付着性、光沢1色及び
変色等に対し要求がある場合に蝶1本発明による感光性
混合物に少量の物質、例えばIリグリコール、セル嚢−
スー導体例えばエチルセル四−ス、温潤剤、染料、付着
促進剤及び微粉状顔料及び、所望の場合には、紫外−1
llIL剤を付加的に含有させることも出来る。
感光性混合物は一般に、遣幽壜感光属支持体上に被覆す
るために溶剤中に溶かす *剤の選択は被覆法、膜厚及
び乾燥秦件に合せて行わなければならない・本発明によ
る感光!ks舎物用O適轟な溶剤はケトン例えばメチル
エチルケトぺ塩素化炭化水素例えばトリクロロエチレン
及び1.1.1−)リクロロエタン、アルコール例えば
n−プロノ々ノール、エーテル例えばテ)9ヒ一ロフラ
ン、アルコール−エーテルHLIdエチレンクリコール
モノエチルエーテル及ヒエステル例えば酢酸ブチルであ
る。特別な目的のためにアセトニトリル、ジオキサン又
はジメチルホル五アifの如き溶剤も付加的に含有する
感光性混合物を使用することも可能である。原理的には
感光膜中O成分と不可逆的に反′応しないいかなる溶剤
を使用することも出来るe/リプールの部分エーテル
41にエチレン/9:f−にモノメチルエーテルが特別
に有利である・殆どの場合に、絢10 swr以下O膜
厚層O感党膜支持体として金属が使用される。オフセッ
ト印刷版用には以下Oものを使用することが出来る:圧
延され1機械的又は電気化学的vc@面にされ又、適切
である場合には、陽@鵡理され丸アル(=ラム板−これ
は付加的に、例えば4リビニルホスホン瞭、珪酸塩、燐
酸塩、ヘキナッルオI2ジルコン酸塩又は加水分jl[
れたナト2エチルオルト珪酸塩で化学的に鎗処鳳されて
いることも出来る;及び例えばアルixりム/銅/タロ
ム又は真(1&/り四人から構成される多−金属板、凸
版tm作するためには本発明による感光性混合物用の層
材として鵞Ml鉛板又はマダネシクムat使用すること
が出来、又単工鴨腐蝕法用には市販の上記金属の微晶質
合金及び腐蝕可能なプラスチック例えばIリオキシメテ
レンを使用することが出来る・本発明による感光性混合
物は銅属及びニッケル面上への良好な付着性及び耐蝕性
を有するために、グラ♂ア印刷鳳又はスクリーン印刷版
用に適する。更に本発明による感光4!に混合物は印刷
回路板の製作及び蝕刻におけるホトレジストとして使用
することも出来る・別の使用−的のためには、別の支持
体例えば木、鋲、セツミック、繊維製品及び他の金属も
適轟である・ lOμ票以上の膜厚用に有利な支持体はプラスチックフ
ィルムであり、これは膜をトランス7tする友めの仮支
持体として使用される・4リエステルフイルム1例えば
ぼりエチレンテレフタレートからなるフィルムがこの■
釣用及び色試験フィルム用に有利である・しかしポリオ
レフィンフィルム例えばIリプロピレンも適する。
るために溶剤中に溶かす *剤の選択は被覆法、膜厚及
び乾燥秦件に合せて行わなければならない・本発明によ
る感光!ks舎物用O適轟な溶剤はケトン例えばメチル
エチルケトぺ塩素化炭化水素例えばトリクロロエチレン
及び1.1.1−)リクロロエタン、アルコール例えば
n−プロノ々ノール、エーテル例えばテ)9ヒ一ロフラ
ン、アルコール−エーテルHLIdエチレンクリコール
モノエチルエーテル及ヒエステル例えば酢酸ブチルであ
る。特別な目的のためにアセトニトリル、ジオキサン又
はジメチルホル五アifの如き溶剤も付加的に含有する
感光性混合物を使用することも可能である。原理的には
感光膜中O成分と不可逆的に反′応しないいかなる溶剤
を使用することも出来るe/リプールの部分エーテル
41にエチレン/9:f−にモノメチルエーテルが特別
に有利である・殆どの場合に、絢10 swr以下O膜
厚層O感党膜支持体として金属が使用される。オフセッ
ト印刷版用には以下Oものを使用することが出来る:圧
延され1機械的又は電気化学的vc@面にされ又、適切
である場合には、陽@鵡理され丸アル(=ラム板−これ
は付加的に、例えば4リビニルホスホン瞭、珪酸塩、燐
酸塩、ヘキナッルオI2ジルコン酸塩又は加水分jl[
れたナト2エチルオルト珪酸塩で化学的に鎗処鳳されて
いることも出来る;及び例えばアルixりム/銅/タロ
ム又は真(1&/り四人から構成される多−金属板、凸
版tm作するためには本発明による感光性混合物用の層
材として鵞Ml鉛板又はマダネシクムat使用すること
が出来、又単工鴨腐蝕法用には市販の上記金属の微晶質
合金及び腐蝕可能なプラスチック例えばIリオキシメテ
レンを使用することが出来る・本発明による感光性混合
物は銅属及びニッケル面上への良好な付着性及び耐蝕性
を有するために、グラ♂ア印刷鳳又はスクリーン印刷版
用に適する。更に本発明による感光4!に混合物は印刷
回路板の製作及び蝕刻におけるホトレジストとして使用
することも出来る・別の使用−的のためには、別の支持
体例えば木、鋲、セツミック、繊維製品及び他の金属も
適轟である・ lOμ票以上の膜厚用に有利な支持体はプラスチックフ
ィルムであり、これは膜をトランス7tする友めの仮支
持体として使用される・4リエステルフイルム1例えば
ぼりエチレンテレフタレートからなるフィルムがこの■
釣用及び色試験フィルム用に有利である・しかしポリオ
レフィンフィルム例えばIリプロピレンも適する。
支持体は公知法でスピンコーティング、スプレー、浸漬
、又蝶ロール、スーツ)/イ又Fi?クターゾレーPに
よる塗布又はス調ットIイコーテイングにより被覆する
・例えば印m回路板。
、又蝶ロール、スーツ)/イ又Fi?クターゾレーPに
よる塗布又はス調ットIイコーテイングにより被覆する
・例えば印m回路板。
ガラス又はセツミック及びシリコン板を被覆するために
は、仮支持体から膜をトランスファーすることによって
も行うことが出来る=露光は常用の光源を用いて行う・
電子照射又はレーザーも使用可能である・ 有利KIO〜14c)−値を有し、少量の有機溶剤又は
温調剤を含有してもよいアルカリ性水III液で現像す
ることにより、露光部分が除去され、原図O−ジテブ画
纏が形成1れる・本発明による感光am舎物は印刷版、
すなわち41にオツセット販、オートタイプ凸鳳及びス
クリーン印刷J[O製作用に、並びにホトレジスト配金
物及びr2イレジスト中に有利Kl!!用される。
は、仮支持体から膜をトランスファーすることによって
も行うことが出来る=露光は常用の光源を用いて行う・
電子照射又はレーザーも使用可能である・ 有利KIO〜14c)−値を有し、少量の有機溶剤又は
温調剤を含有してもよいアルカリ性水III液で現像す
ることにより、露光部分が除去され、原図O−ジテブ画
纏が形成1れる・本発明による感光am舎物は印刷版、
すなわち41にオツセット販、オートタイプ凸鳳及びス
クリーン印刷J[O製作用に、並びにホトレジスト配金
物及びr2イレジスト中に有利Kl!!用される。
本実−による新規化合物を使用して劇作されゐ印刷版は
実際上の高い感光度及びアルカリ性111111に対す
る改譬され大抵抗Ikを有する。同化合物自体は、常用
OS剤中への非常KjL好な溶堺性、高い親油性、耐ア
ルコール性及び感光膜中のそO他の成分との良好な相和
性という利点を有する・ 本発明は以下の実施例によυ詳述される・例中重量部と
容量部はl対側と同じ割合である。
実際上の高い感光度及びアルカリ性111111に対す
る改譬され大抵抗Ikを有する。同化合物自体は、常用
OS剤中への非常KjL好な溶堺性、高い親油性、耐ア
ルコール性及び感光膜中のそO他の成分との良好な相和
性という利点を有する・ 本発明は以下の実施例によυ詳述される・例中重量部と
容量部はl対側と同じ割合である。
倫に記載のない限りtsは重量による・例1
電解法で粗面化及び陽極処理された、3.O1/−の酸
化物層を有するアルミニウム榎を以下の組成の溶液で被
覆し大工 エチレングリコール毫ツメチルエーテル 40重量1
B及び テトラヒrロフラン 50重量部中の 1.10−ビス−(4−ヒPロキシフェニル)−デカン
1モルと1.2−ナフトキノン−2−シアJ))’−5
−スルホニルクロライy2モルとからのエステル化生成
物 1.10重量部DIN (fイツエlIk規
格)53181に規定されている軟化点105〜12(
It有するクレゾール/ホルムアルデヒr )Iラック 6.10 重量部 キシ−4ンぜンジアゾニクム ヘキtフルオロホスフェ
ート 0.12 重量部クリスタル
ヴアイオレット 0.06 重量部。
化物層を有するアルミニウム榎を以下の組成の溶液で被
覆し大工 エチレングリコール毫ツメチルエーテル 40重量1
B及び テトラヒrロフラン 50重量部中の 1.10−ビス−(4−ヒPロキシフェニル)−デカン
1モルと1.2−ナフトキノン−2−シアJ))’−5
−スルホニルクロライy2モルとからのエステル化生成
物 1.10重量部DIN (fイツエlIk規
格)53181に規定されている軟化点105〜12(
It有するクレゾール/ホルムアルデヒr )Iラック 6.10 重量部 キシ−4ンぜンジアゾニクム ヘキtフルオロホスフェ
ート 0.12 重量部クリスタル
ヴアイオレット 0.06 重量部。
感光膜を設けb前に、陽極処mされたアルZ二りム支持
体を、西Pイツ国特許明細書第1621478号に記載
されている様に、ポリ−ニルホスホン酸の水湊液で鵬環
した。
体を、西Pイツ国特許明細書第1621478号に記載
されている様に、ポリ−ニルホスホン酸の水湊液で鵬環
した。
そ0IIK製作されえ、感光膜重量loo&/−ノプレ
センシタイメ材會透明彦4ジチブ原図の下で露光し、下
記の*tで現像した:水
91.O重量部中の メタ珪酸ナトリクム” Qa、o 5.3 重
量部第三燐酸ナトリウム・12n宜o 3.4
重量部無水燐酸二水嵩ナトリクム 0.3 重量
部。
センシタイメ材會透明彦4ジチブ原図の下で露光し、下
記の*tで現像した:水
91.O重量部中の メタ珪酸ナトリクム” Qa、o 5.3 重
量部第三燐酸ナトリウム・12n宜o 3.4
重量部無水燐酸二水嵩ナトリクム 0.3 重量
部。
現IIO曽呆、露光され九膜部分が除去され。
未露光owi−域が支持体上に残った。その橡に製作さ
れ丸印刷版をオフセット機に使用して。
れ丸印刷版をオフセット機に使用して。
申分のない印刷が約200000枚刷られ丸。印刷ステ
ンシルは極めてすぐれた親油性、耐アルコール性及び支
持体への付着性という利点を有し九。
ンシルは極めてすぐれた親油性、耐アルコール性及び支
持体への付着性という利点を有し九。
7一様の結果をも九らし良別の感光液を下記の一施例中
に記述するφ特別に記載のない限り。
に記述するφ特別に記載のない限り。
印刷版の劇作及び作業条件は例1に記載と同様である・
例2
電解法で粗面化及び陽極処理をされ、更にポリビニルス
ルホン酸の水溶液で後魁履されたアル電ニウム板を下記
の溶液で被覆した:エチレングリコール毫ツメチルエー
テル 30重量11テトラヒr−フラン
40重量部及び 酢酸ブチル 10 重量部中の 1.10−ビス−(2,4−ジヒPロキシ7工二ル)−
デカン1モルと1.2−す7トキノンー2−一アジP−
6−スルホニルクロライy4モルとからのエステル化生
成物 1.00重量部例IK記載のノーラック
&70 重量部1.2−ナフトキノン−2−ジアジP−
養−スルホニルクロラバr 0.1
2 重量部クリスタルヴアイオレット 0.07
重量部例3 電解法で粗面化及び陽極処理され友アル建ニウム板を下
記の溶液で被覆した: エチレングリコール毫ツメチルエーテル 40 重量
部及び テトラヒドロフッ/ 50 重量部中の 1.1−♂ノー(4−とPロキシー2−メチルフェニル
) −p デカン1モルと1.2−1−1トキノン−2
−ジアジ)′−5−スルホニルクCI2イy2モルとか
らのエステル化生成物 1.20 重量部 例1に記載のノーラック 6.20重量部番−(
p−トリルメルカゾト)−2,5−ジェトキシ−ベンぜ
ンジアゾニウムへキサフルオロホスフェート
0.13 重量部クリスタルヴアイオレット
007重量部・飼養 電膳法で粗面化及び陽極処理され、更にポリ−ニルホス
ホン酸の水siiで後処理されたアル4=ウム板を下記
の溶液で被覆した; エチレングリコールモノメチルエーテル 30 重
量1gテトラヒPロッテy 40 重
量部及び 酢酸ブチル 10 重量部中の 1.12−ビス−(4−ヒPロキシー2−メチルフェニ
ル;−’I’テカン1モルと1.2−1−7トキノンー
2−ジアジy−5−スルホ;ルクロライ12モルとから
のエステル化生成物1.10 重量部 例1に記載のノーラック 6.10重量部2t3
14−)!JヒPロキシペンゾフエノン o、oa
重量s♂ニルゾチラール単位69〜71慢、ビニルアル
コール単位24〜27−及びビニルアセテ−クリスタル
ヴアイオレット 0.07 重量S@)、
ルホン酸の水溶液で後魁履されたアル電ニウム板を下記
の溶液で被覆した:エチレングリコール毫ツメチルエー
テル 30重量11テトラヒr−フラン
40重量部及び 酢酸ブチル 10 重量部中の 1.10−ビス−(2,4−ジヒPロキシ7工二ル)−
デカン1モルと1.2−す7トキノンー2−一アジP−
6−スルホニルクロライy4モルとからのエステル化生
成物 1.00重量部例IK記載のノーラック
&70 重量部1.2−ナフトキノン−2−ジアジP−
養−スルホニルクロラバr 0.1
2 重量部クリスタルヴアイオレット 0.07
重量部例3 電解法で粗面化及び陽極処理され友アル建ニウム板を下
記の溶液で被覆した: エチレングリコール毫ツメチルエーテル 40 重量
部及び テトラヒドロフッ/ 50 重量部中の 1.1−♂ノー(4−とPロキシー2−メチルフェニル
) −p デカン1モルと1.2−1−1トキノン−2
−ジアジ)′−5−スルホニルクCI2イy2モルとか
らのエステル化生成物 1.20 重量部 例1に記載のノーラック 6.20重量部番−(
p−トリルメルカゾト)−2,5−ジェトキシ−ベンぜ
ンジアゾニウムへキサフルオロホスフェート
0.13 重量部クリスタルヴアイオレット
007重量部・飼養 電膳法で粗面化及び陽極処理され、更にポリ−ニルホス
ホン酸の水siiで後処理されたアル4=ウム板を下記
の溶液で被覆した; エチレングリコールモノメチルエーテル 30 重
量1gテトラヒPロッテy 40 重
量部及び 酢酸ブチル 10 重量部中の 1.12−ビス−(4−ヒPロキシー2−メチルフェニ
ル;−’I’テカン1モルと1.2−1−7トキノンー
2−ジアジy−5−スルホ;ルクロライ12モルとから
のエステル化生成物1.10 重量部 例1に記載のノーラック 6.10重量部2t3
14−)!JヒPロキシペンゾフエノン o、oa
重量s♂ニルゾチラール単位69〜71慢、ビニルアル
コール単位24〜27−及びビニルアセテ−クリスタル
ヴアイオレット 0.07 重量S@)、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、感光性化合物として、一般式I: 〔式中:Dは1,2−ナフトキノン−2−シアジf−5
−スルホ具ル基又は1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
P−蚤−スルホ蔦ル基1mわし、R及びR′は水素原子
、炭素原子数1〜4のアル中ル基又は式: Do (こ
こでDは上記のtのを表わす)の基を真わし、1!は6
〜180数を示す〕を有する、ビスーヒP口中ジフェニ
ルアルカンの1.2−ナフトキノン−2−ジアジr一番
一スルホyl!にステル又は1,2−す7トキノンー2
−シアジr−6−スルホン駿エステルを含有することt
4I徴とする感光性化合物。 2一般式I: 〔式中=Dは1.2−ナツトキノン−2−s)アジy−
6−スルホニル基叉紘1,2−ナツト命ノy−2−ジア
ジt−養−スルホ品ル基を表わし、R及びR′は水素原
子、炭素原子数1〜40アル中に基又線式:DO(ζこ
でDは上記o4ot*わす)の基を真わし、nは6〜1
8の数を示す〕を有する。ビスーヒpmキVフェニルア
ルカンの1.2−ナフトキノン−2−ジアジP−養−ス
ルホ/酸エステル又紘1,2−す7トキノンー2−シア
ジー−5−スルホン歇エステルである感光性化合物及び
、アルカリ性水濠液中に可鋳であるか。 又は少なくとも廖潤し得る水不溶性Aインダーを含有す
ることを特機とする感光am会物。 & す7トキノンジアi)Pスルホン駿エステルを、非
揮発性成分の含量に対して、3〜50重量−含有する特
許請求の範11j11項記載の感光性混合物。 転 基R及びR′の中の少なくとも1つがDo基を表わ
す式10化会物を會有すゐ特許請求の範■j11項記載
の感光性混合物・ δ、 nが8〜12の数である式ID化合物を會有す為
特許請求の範囲第1項記載OIa光性温金物・ 6、一般式I: RR’ (式中:Dは1.2−ナフトキノン−2−ジアジP−5
−スルホニル基又は1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
P−養−スルホエル基を表わし、R及びR′は水素原子
、炭jIJ[子数1〜番のアル中ル基又は式: Do
(ここでpは上記Oものを表わす)tllわし%nは6
〜18の数を示す〕を有する。ビスーヒrロキシ7エエ
ルアルカ/の1,2−ナフトキノン−2−ジアジ?スル
ホン酸エステルを含有する感光膜と膜支持体とから構成
される感光性複写材・ 7、膜支持体がアル建具クムから構成される特許請求0
1118第6項記載の感光性複写材・
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813124936 DE3124936A1 (de) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3124936.1 | 1981-06-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS585737A true JPS585737A (ja) | 1983-01-13 |
JPH0339301B2 JPH0339301B2 (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=6135331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57106974A Granted JPS585737A (ja) | 1981-06-25 | 1982-06-23 | 感光性混合物 |
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---|---|
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EP (1) | EP0068346B1 (ja) |
JP (1) | JPS585737A (ja) |
AT (1) | ATE10141T1 (ja) |
AU (1) | AU8509082A (ja) |
BR (1) | BR8203685A (ja) |
CA (1) | CA1213600A (ja) |
DE (2) | DE3124936A1 (ja) |
ES (1) | ES8404065A1 (ja) |
FI (1) | FI822257L (ja) |
ZA (1) | ZA824004B (ja) |
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JP2552891B2 (ja) * | 1988-01-26 | 1996-11-13 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JP2700918B2 (ja) * | 1989-04-26 | 1998-01-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5196517A (en) * | 1989-10-30 | 1993-03-23 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use as photoactive compounds |
US5019478A (en) * | 1989-10-30 | 1991-05-28 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5219714A (en) * | 1989-10-30 | 1993-06-15 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures |
US5618932A (en) * | 1995-05-24 | 1997-04-08 | Shipley Company, L.L.C. | Photoactive compounds and compositions |
US6461794B1 (en) * | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945325A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-04-30 | ||
JPS5463818A (en) * | 1977-09-22 | 1979-05-23 | Hoechst Ag | Photosensitive copying composition |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL76414C (ja) * | 1949-07-23 | |||
BE508016A (ja) * | 1950-12-23 | |||
NL247588A (ja) * | 1959-01-21 | |||
US3647443A (en) * | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
DE2828037A1 (de) * | 1978-06-26 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
DE3040157A1 (de) * | 1980-10-24 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtemopfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3043967A1 (de) * | 1980-11-21 | 1982-06-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
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1981
- 1981-06-25 DE DE19813124936 patent/DE3124936A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-06-04 CA CA000404463A patent/CA1213600A/en not_active Expired
- 1982-06-08 ZA ZA824004A patent/ZA824004B/xx unknown
- 1982-06-18 EP EP82105342A patent/EP0068346B1/de not_active Expired
- 1982-06-18 DE DE8282105342T patent/DE3261128D1/de not_active Expired
- 1982-06-18 AT AT82105342T patent/ATE10141T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-06-22 AU AU85090/82A patent/AU8509082A/en not_active Abandoned
- 1982-06-23 US US06/391,005 patent/US4517275A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-06-23 FI FI822257A patent/FI822257L/fi not_active Application Discontinuation
- 1982-06-23 ES ES513403A patent/ES8404065A1/es not_active Expired
- 1982-06-23 JP JP57106974A patent/JPS585737A/ja active Granted
- 1982-06-24 BR BR8203685A patent/BR8203685A/pt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945325A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-04-30 | ||
JPS5463818A (en) * | 1977-09-22 | 1979-05-23 | Hoechst Ag | Photosensitive copying composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0068346A1 (de) | 1983-01-05 |
DE3261128D1 (en) | 1984-12-06 |
BR8203685A (pt) | 1983-06-21 |
AU8509082A (en) | 1983-01-06 |
ES513403A0 (es) | 1984-04-01 |
JPH0339301B2 (ja) | 1991-06-13 |
ZA824004B (en) | 1983-03-30 |
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ATE10141T1 (de) | 1984-11-15 |
CA1213600A (en) | 1986-11-04 |
FI822257L (fi) | 1982-12-26 |
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US4517275A (en) | 1985-05-14 |
DE3124936A1 (de) | 1983-01-20 |
ES8404065A1 (es) | 1984-04-01 |
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