JPS58210912A - 光架橋性、水溶性ポリマ−、その製造方法及びその用途 - Google Patents
光架橋性、水溶性ポリマ−、その製造方法及びその用途Info
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- JPS58210912A JPS58210912A JP58088345A JP8834583A JPS58210912A JP S58210912 A JPS58210912 A JP S58210912A JP 58088345 A JP58088345 A JP 58088345A JP 8834583 A JP8834583 A JP 8834583A JP S58210912 A JPS58210912 A JP S58210912A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、マレイミジル基および第４級アンモニウム基
を含有する光架橋性、水溶性ポリマーおよびコポリマー
、並びにそれらの写真記録物質としての用途に関する。
を含有する光架橋性、水溶性ポリマーおよびコポリマー
、並びにそれらの写真記録物質としての用途に関する。
感光性ポリマーは、現像液として有機溶媒および水性塩
基または酸を使用する写真記録物質として使用されてい
る。この種の感光性ポリマーの処理は、排気装置を使用
しなければならないこと、および現像の仕方が技術的に
非常に複雑であるという欠点を有している。
基または酸を使用する写真記録物質として使用されてい
る。この種の感光性ポリマーの処理は、排気装置を使用
しなければならないこと、および現像の仕方が技術的に
非常に複雑であるという欠点を有している。
米国物、ｖ−Ｆ第４２２９５１９号明細書および欧州特
許出願第２９４５８号明細書には、第４級アンモニウム
基およびエチレン性不飽和基を含有する感光性ポリマー
からなる水溶性で、水−現像６ｆ能の光架橋性組成物が
開示されている。これらの感光性ボ１１．７−は、非経
済的な２段階（重合段階および４級化段階）の方法によ
ってのみ製造されている。それに加えて、充分な光感受
性をイ！Ｉるために特別の光重合開始システムの使用が
必要とされている。更に、この種の物質（ま暗所におけ
る充分な貯蔵安定性を得るために重合禁止剤を必要とし
ている。
許出願第２９４５８号明細書には、第４級アンモニウム
基およびエチレン性不飽和基を含有する感光性ポリマー
からなる水溶性で、水−現像６ｆ能の光架橋性組成物が
開示されている。これらの感光性ボ１１．７−は、非経
済的な２段階（重合段階および４級化段階）の方法によ
ってのみ製造されている。それに加えて、充分な光感受
性をイ！Ｉるために特別の光重合開始システムの使用が
必要とされている。更に、この種の物質（ま暗所におけ
る充分な貯蔵安定性を得るために重合禁止剤を必要とし
ている。
本発明の目的は、光感受性が公知の光重合開始剤で増大
させるＣとができ、そして一段階の方法で製造すること
ができる水−現像可能の感光性ポリマーを提供すること
にある。
させるＣとができ、そして一段階の方法で製造すること
ができる水−現像可能の感光性ポリマーを提供すること
にある。
したがって、本発明は、マレイミジル基お上び第４級ア
ンモニウム塩を含有し、そして少くとも１０００の分子
量を有する、次式１〔式中、 ｌ＜は水素原子ま１こはメチル基を表わし、Ｙは酸素原
子または−ＮＨ基を表わし、Ａは直鎖または枝分れの炭
素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 Ｒ’およびｌり２は互いに独立して炭素原子数１ｔ６Ｌ
いし４のアルキル基を表わすか、−緒になりてテトラメ
チレン基、ペンタメチレン基ま１こは６−オキ甘ベンチ
レン基を表わし、ｌ）は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基または次式 （式中、１（３はアルキレン基、メキサアルキレン基ま
たはベンシレン基を表わし ｌ（４は水素原子または炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ５は炭素
原子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香
族炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環
式基を表わし、Ｒ”は１（５で定義した意味を有するか
ま１こは次式＝ （式中、ｘ（ｊｌないし２９の値を弄わし、Ｒ４は水素
原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
）で表わされる基を表わし、′Ｉ゛１および１゛２は互
いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
すか、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換のトリメチ１／ンまたはテトラメチ
レン基を表わＴ）の基を表わし、 ｚｅはアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
子数１ないし４のアルキル基の場合、次式。
ンモニウム塩を含有し、そして少くとも１０００の分子
量を有する、次式１〔式中、 ｌ＜は水素原子ま１こはメチル基を表わし、Ｙは酸素原
子または−ＮＨ基を表わし、Ａは直鎖または枝分れの炭
素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 Ｒ’およびｌり２は互いに独立して炭素原子数１ｔ６Ｌ
いし４のアルキル基を表わすか、−緒になりてテトラメ
チレン基、ペンタメチレン基ま１こは６−オキ甘ベンチ
レン基を表わし、ｌ）は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基または次式 （式中、１（３はアルキレン基、メキサアルキレン基ま
たはベンシレン基を表わし ｌ（４は水素原子または炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ５は炭素
原子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香
族炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環
式基を表わし、Ｒ”は１（５で定義した意味を有するか
ま１こは次式＝ （式中、ｘ（ｊｌないし２９の値を弄わし、Ｒ４は水素
原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
）で表わされる基を表わし、′Ｉ゛１および１゛２は互
いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
すか、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換のトリメチ１／ンまたはテトラメチ
レン基を表わＴ）の基を表わし、 ｚｅはアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
子数１ないし４のアルキル基の場合、次式。
Ｉ（
（式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和七ツマ−の
構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
性不飽和コ七ツマ−から誘導された別の構造単位をまた
存在させることができる、 ポモポリマーまたはコポリマーに関するものである。
を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和七ツマ−の
構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
性不飽和コ七ツマ−から誘導された別の構造単位をまた
存在させることができる、 ポモポリマーまたはコポリマーに関するものである。
分子量は、１．０００ないし２００．０００ 、奸才し
くは１０．０００ないし１００，０００、最も好ましく
は１ｆＪ、０００ないしｓｏ、ｏｏｏであり得る。コポ
リマーが好ましい。
くは１０．０００ないし１００，０００、最も好ましく
は１ｆＪ、０００ないしｓｏ、ｏｏｏであり得る。コポ
リマーが好ましい。
１１鎖または枝分れアルキレン基としてのＡは好ましく
は炭素原子２ないし４個を含有するもので、例えば１．
６−．１．５−．１．４−．１．３−または１．２−ヘ
キシレン、１．５− または１．６−もしくは１，２
−へキシレン、１．５−または１．３−ベンチレン、１
．４−．１．３−または１．２−プロピレンおよびエチ
レンであり得る。
は炭素原子２ないし４個を含有するもので、例えば１．
６−．１．５−．１．４−．１．３−または１．２−ヘ
キシレン、１．５− または１．６−もしくは１，２
−へキシレン、１．５−または１．３−ベンチレン、１
．４−．１．３−または１．２−プロピレンおよびエチ
レンであり得る。
Ａは好ましくはプロピレン基であり、最も好ましくはエ
チレン基である。
チレン基である。
アルキル基としてのＲ１およびＲ２は、直鎖または枝分
れであって、好ましくは１個または２個の炭素原子を含
有するものであり得る。例示としてはｎ〜ブチル、イン
ブチル、第３ブチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、エ
チルおよびメチル基である。ｌ（ｌおよびＲ２はまた未
置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基置換、
特にメチル基置換テトラメチレン、ペソタメチレ７まｆ
ｃ（−ｉ６−オキサペンチレン基であっても良い。
れであって、好ましくは１個または２個の炭素原子を含
有するものであり得る。例示としてはｎ〜ブチル、イン
ブチル、第３ブチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、エ
チルおよびメチル基である。ｌ（ｌおよびＲ２はまた未
置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基置換、
特にメチル基置換テトラメチレン、ペソタメチレ７まｆ
ｃ（−ｉ６−オキサペンチレン基であっても良い。
炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのＤは、Ｒム
およびＲ′で選択した意味をもつものであり得、好まし
くはメチルまだはエチル基である。
およびＲ′で選択した意味をもつものであり得、好まし
くはメチルまだはエチル基である。
アルキレン基としてのＲ３は、直鎖才たは枝分れの、炭
素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２そして
最も好ましくは２ないし６を含有するものであり得、そ
してオキサアルキレン基としては炭素原子数２ないし６
、好ましく（’ｌ ２ ｆｊいし４を含有１−るもので
あってよい。例示としては、エチレン、１．２−または
１．３−プロピレン、１．４−または１．６−ブチレン
、ベンチレン、ヘキシレン、メクチレン、デシレン、ド
デンレン、オクタデシレン、デシルエチレン、テトラデ
シルエチレン、ヘキサデシルエチレンおよび６−オキサ
ペンナレン基である。
素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２そして
最も好ましくは２ないし６を含有するものであり得、そ
してオキサアルキレン基としては炭素原子数２ないし６
、好ましく（’ｌ ２ ｆｊいし４を含有１−るもので
あってよい。例示としては、エチレン、１．２−または
１．３−プロピレン、１．４−または１．６−ブチレン
、ベンチレン、ヘキシレン、メクチレン、デシレン、ド
デンレン、オクタデシレン、デシルエチレン、テトラデ
シルエチレン、ヘキサデシルエチレンおよび６−オキサ
ペンナレン基である。
アルキル基としてのＲ４は直鎖または枝分れであっても
よい。Ｒ４は好ましくは水素原子である。
よい。Ｒ４は好ましくは水素原子である。
基Ｒ５は、好ましくは炭素原子数１２までを含有する。
脂肪族基としてのＲ５は、好ましくは直鎖または枝分れ
アルキレン基で、このものは、例えばＵ 、 ８および
ＮＲ４のようなヘテロ原子で中断されていてもよい。こ
の場合におけるＲ５の好ましい意味は、炭素原子数１な
いし１２を含有するアルキレンおよびオキサアルキレン
基である。環式脂肪族基としてのＲ５は、好ましくは５
もしくは６員環炭素原子を含有し、特に未置換もしくは
１ないし４個の炭素原子数１ないし４のアルキル基、例
えばメチル基でＩｆｍされたシクロペン千しンおよびシ
クロヘキシレン基である。１，５−シクロヘキシレンお
よび１．４−シクロヘキシレン基が特に好ましい。
アルキレン基で、このものは、例えばＵ 、 ８および
ＮＲ４のようなヘテロ原子で中断されていてもよい。こ
の場合におけるＲ５の好ましい意味は、炭素原子数１な
いし１２を含有するアルキレンおよびオキサアルキレン
基である。環式脂肪族基としてのＲ５は、好ましくは５
もしくは６員環炭素原子を含有し、特に未置換もしくは
１ないし４個の炭素原子数１ないし４のアルキル基、例
えばメチル基でＩｆｍされたシクロペン千しンおよびシ
クロヘキシレン基である。１，５−シクロヘキシレンお
よび１．４−シクロヘキシレン基が特に好ましい。
芳香族炭化水素基としてのＲ’は、例えば好ましくは炭
素原子数６ないし１６を含有するカルボン酸芳香族基、
または好ましくは炭素原子数７ないし１６を含有する芳
香−脂肪族基であり得る。例示としては、’＋２−１１
１５−および１．４−フェニレン、１．３−トルイレン
、１．７−〔式中、Ｑはｉｋ接結合、−Ｕ−、−８−、
−８Ｕ−。
素原子数６ないし１６を含有するカルボン酸芳香族基、
または好ましくは炭素原子数７ないし１６を含有する芳
香−脂肪族基であり得る。例示としては、’＋２−１１
１５−および１．４−フェニレン、１．３−トルイレン
、１．７−〔式中、Ｑはｉｋ接結合、−Ｕ−、−８−、
−８Ｕ−。
記の意味を表わす）、炭素原子数１ないし６のアルキレ
ン基、炭素原子数２ないし６のアルキリデン基または５
もしくは６負環炭素原子を含自する環式アルキリデン基
を表わす〕の基である。４，４′−位に結合がないもの
が好ましい。
ン基、炭素原子数２ないし６のアルキリデン基または５
もしくは６負環炭素原子を含自する環式アルキリデン基
を表わす〕の基である。４，４′−位に結合がないもの
が好ましい。
複素環式−脂肪族または複素環式−芳香族基としてのｉ
＜ｂは炭素原子数４ないし１２を含有するものであって
よい。このような基は、好ましくは、例えばへもしくは
Ｏのようなヘテロ原子を１個もしくは２個含有する５−
もしくは６−員環である。
＜ｂは炭素原子数４ないし１２を含有するものであって
よい。このような基は、好ましくは、例えばへもしくは
Ｏのようなヘテロ原子を１個もしくは２個含有する５−
もしくは６−員環である。
ポリオキサアルキレン基ＲＪＣおいて、Ｘは好ましくは
１ないし１２の値、最も好ましくは１ないし６の値であ
り、Ｒ４がｌ素原子もしくはメチル基である。
１ないし１２の値、最も好ましくは１ないし６の値であ
り、Ｒ４がｌ素原子もしくはメチル基である。
Ｉｌｌ 、およびＩｌｌ 、は好ましくはメチル基およ
びテトラメイレン基である。
びテトラメイレン基である。
Ｚｏは、好ましくは、例えばＦ 、 ＣＩ 、 Ｂｒ
、 ８０４゜炭素原子数１ないし４のアルキル−０ＳＵ
３ お工びスルホネートのような４級化試柴のアニオ
ンである。スルボネートアニオンは、例えば脂肪族、環
式脂肪族および芳香族スルホン酸、即ちメチルスルホン
酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブチルス
ルホン酸、ペンチルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、
シクロヘキシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ベン
ジルスルホン酸、トルイルスルホン酸またはナフチルス
ルホン酸から誘導することができる。
、 ８０４゜炭素原子数１ないし４のアルキル−０ＳＵ
３ お工びスルホネートのような４級化試柴のアニオ
ンである。スルボネートアニオンは、例えば脂肪族、環
式脂肪族および芳香族スルホン酸、即ちメチルスルホン
酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブチルス
ルホン酸、ペンチルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、
シクロヘキシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ベン
ジルスルホン酸、トルイルスルホン酸またはナフチルス
ルホン酸から誘導することができる。
式Ｉの構造単位の好ましいサブグループは、式中Ｙが＃
ｌ素原子であり、Ａが直鎖の炭素原子数２ないし４のア
ルキレン基、好ましくはエチレン基であり、Ｒ１および
Ｒ２が炭素原子数１または炭素原子数２のアルキル基、
特にメチル基であり、Ｄが次式： （式中、Ｒｂはエチレン基、６−オキサベンチレン基ま
たは１．５−プロピレン基を表わし、′ｌ′１はメチル
基を表わす。）で表わされる基であり、そしてＺθが・
・ライドアニオン、好ましくは塩素アニオンのものであ
る。
ｌ素原子であり、Ａが直鎖の炭素原子数２ないし４のア
ルキレン基、好ましくはエチレン基であり、Ｒ１および
Ｒ２が炭素原子数１または炭素原子数２のアルキル基、
特にメチル基であり、Ｄが次式： （式中、Ｒｂはエチレン基、６−オキサベンチレン基ま
たは１．５−プロピレン基を表わし、′ｌ′１はメチル
基を表わす。）で表わされる基であり、そしてＺθが・
・ライドアニオン、好ましくは塩素アニオンのものであ
る。
若し本発明のポリマーがコポリマーである場合、コポリ
マーはマレイミド基を所有する鎖部分に加えて、マレイ
ミド基を含有しない以下のコモノマーから誘導される鎖
部分を好ましく含有する。コモノマー：α−オレフィン
、ビニル・・ライド、例えば臭化ビニル、塩化ビニルお
よびフッ化ビニル；ビニリデン、例えば塩化ビニリデン
：α、β−不飽和酸のニトリル、例えばフクリロニトリ
ルまたはメタクリロニトリル：α、β−不飽和酸、それ
らのエステルまたはノ・ロゲン銹導体２例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート、２
−エチル−ヘキシルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、インプロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート
、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート
まタハクロルメチルメタクリレート；α、β−不飽和力
ルホキ甘せミドおよびそれらの誘導体、例えばアクリル
アミド、メタクリルアミド；芳香族ビニル化合物、例え
ばスチレン、メチルスチレン、ビニルトルエンマタはα
−クロルスチレン、ビニルケトソ、例えばメチルビニル
ケトン：ビニルエステル、例、ｔはビニルアセテート：
複素環式ビニル化合物、例えばビニルビ＋１ジン、ビニ
ルピロリドン：およびビニルエーテル。
マーはマレイミド基を所有する鎖部分に加えて、マレイ
ミド基を含有しない以下のコモノマーから誘導される鎖
部分を好ましく含有する。コモノマー：α−オレフィン
、ビニル・・ライド、例えば臭化ビニル、塩化ビニルお
よびフッ化ビニル；ビニリデン、例えば塩化ビニリデン
：α、β−不飽和酸のニトリル、例えばフクリロニトリ
ルまたはメタクリロニトリル：α、β−不飽和酸、それ
らのエステルまたはノ・ロゲン銹導体２例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート、２
−エチル−ヘキシルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、インプロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート
、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート
まタハクロルメチルメタクリレート；α、β−不飽和力
ルホキ甘せミドおよびそれらの誘導体、例えばアクリル
アミド、メタクリルアミド；芳香族ビニル化合物、例え
ばスチレン、メチルスチレン、ビニルトルエンマタはα
−クロルスチレン、ビニルケトソ、例えばメチルビニル
ケトン：ビニルエステル、例、ｔはビニルアセテート：
複素環式ビニル化合物、例えばビニルビ＋１ジン、ビニ
ルピロリドン：およびビニルエーテル。
上記したマレイミド基を含有するエチレン性不飽和コモ
ノマーがまた適切である。このコモノマーはまたＤが炭
素原子数１ないし４のアルキル基でない場合に使用する
ことができる。この種のコモノマーは、例えばドイツ公
開特許第２６２６７６９号明細書および欧州特許出願第
２１０１９号明細書中に記載されている。これらは実質
的にアクリレートおよびメタクリレート、アクリルアば
ドおよびメタクリルアミド、同様にビニルエーテルであ
り、それぞれエステル、アミドまたはエーテル基に結合
Ｔるマレイミド基を含有するものである。好ましいコモ
ノマーは次式のものである。
ノマーがまた適切である。このコモノマーはまたＤが炭
素原子数１ないし４のアルキル基でない場合に使用する
ことができる。この種のコモノマーは、例えばドイツ公
開特許第２６２６７６９号明細書および欧州特許出願第
２１０１９号明細書中に記載されている。これらは実質
的にアクリレートおよびメタクリレート、アクリルアば
ドおよびメタクリルアミド、同様にビニルエーテルであ
り、それぞれエステル、アミドまたはエーテル基に結合
Ｔるマレイミド基を含有するものである。好ましいコモ
ノマーは次式のものである。
（）
（上記各式中、Ｒ、Ｒ４、Ｈ＆ 、 ｌ＜” 、 Ｔ鳳
お工びＴ２は前記の意味を表わし、Ｒ７はＲ＆と同一の
意味を表わすかまたは一〇〇−Ｒ６−を表わし、ｙは１
または２である） 本発明のポリマーは次式： （式中、ＴＩおよびＴ２は前記の意味を表わす）で表わ
されるマレイミジル基を含有する構造単位を好ましくは
１０ないし１００モルチ、最も好ましくは４０ないし１
００モル慢を含有する。
お工びＴ２は前記の意味を表わし、Ｒ７はＲ＆と同一の
意味を表わすかまたは一〇〇−Ｒ６−を表わし、ｙは１
または２である） 本発明のポリマーは次式： （式中、ＴＩおよびＴ２は前記の意味を表わす）で表わ
されるマレイミジル基を含有する構造単位を好ましくは
１０ないし１００モルチ、最も好ましくは４０ないし１
００モル慢を含有する。
ポリマーは、式Ｉの構造単位を好ましくは５ないし９０
モル％、最も好ましくは１０な□いし６０モル％含有す
る。
モル％、最も好ましくは１０な□いし６０モル％含有す
る。
異なったコモノマーの使用は、本発明のポリマーに所望
の特性、例えば光感受性、ガラス転移温度、親水性、疎
水性、染料親和性および溶＋Ｗ ｊｔ＋を与えることを
５Ｊ能にする。
の特性、例えば光感受性、ガラス転移温度、親水性、疎
水性、染料親和性および溶＋Ｗ ｊｔ＋を与えることを
５Ｊ能にする。
本発明の特性は楠々の公知方法により製造することがで
きることである。
きることである。
本発明の１つの具体例においては、Ｄが炭素原子ａ １
ｆＡいし４のアルキル基のためにマレイミジル基を含
有する少くとも１個のエチレン性不飽和コ七ツマ−を含
有し、そして次式ｌまたはＩＩＩ。
ｆＡいし４のアルキル基のためにマレイミジル基を含
有する少くとも１個のエチレン性不飽和コ七ツマ−を含
有し、そして次式ｌまたはＩＩＩ。
＼Ｒ２＼Ｒ１
（Ｉｌｌ （２）の構造単位を
含有するホモポｌ ？−およびコポリマーは、式１）Ｚ
もしくはＲ２Ｚの４級化試楽と有機溶媒中Ｅ「望により
約１００Ｔ：、ｔで加熱することにより反応される。出
発物質のポリマーは、例えばドイツ公開特許ＩＥ２６２
６７６９号明細書に記載されるように相当するモノマー
、および必曹とすればコモノマーから公知の取合方法に
よって得られるものである。
含有するホモポｌ ？−およびコポリマーは、式１）Ｚ
もしくはＲ２Ｚの４級化試楽と有機溶媒中Ｅ「望により
約１００Ｔ：、ｔで加熱することにより反応される。出
発物質のポリマーは、例えばドイツ公開特許ＩＥ２６２
６７６９号明細書に記載されるように相当するモノマー
、および必曹とすればコモノマーから公知の取合方法に
よって得られるものである。
４級化試桑１）Ｚは新規であり、また本発明の目的を構
成する。これらは公知の方法、例えば次式： ％式％ の化合物とハロゲン化酢酸またはそれらのエステルもし
くは−ｒミド形成誘導体とのエステ化またはアミド化に
よって製造される。ヒドロキシ酢酸との反応は相当する
ヒドロキシ誘導体を与え、同様に式： の化合物は公知の方法によりハロゲン化誘導体、スルホ
ネートおよびスルフェートに変換することができる。
成する。これらは公知の方法、例えば次式： ％式％ の化合物とハロゲン化酢酸またはそれらのエステルもし
くは−ｒミド形成誘導体とのエステ化またはアミド化に
よって製造される。ヒドロキシ酢酸との反応は相当する
ヒドロキシ誘導体を与え、同様に式： の化合物は公知の方法によりハロゲン化誘導体、スルホ
ネートおよびスルフェートに変換することができる。
本発明のポリマーの製造のだめの、更に別の具体例にお
いては、次式■： （１−１２＝（’Ｒｌ＜’ １ Ｕ ＝（’−Ｙ−Ａ−Ｎｅ−ＪＪ ７
ｅ （ＩＶ）２ の不飽和上ツマ−は、所望に工りＤが炭素原子数１ない
し４のアルキル基のだめにマレイミジル基を含有する少
くとも１−個のエチレン性不飽和コ（＝ツマーと共に、
有機溶媒中、自体公知の方法で、？！Ｉえば−Ｙゾピス
インフチロニトリルであるうソカル開始剤の存在下、約
４０ないし１２０℃の温度範囲で重合することができる
。
いては、次式■： （１−１２＝（’Ｒｌ＜’ １ Ｕ ＝（’−Ｙ−Ａ−Ｎｅ−ＪＪ ７
ｅ （ＩＶ）２ の不飽和上ツマ−は、所望に工りＤが炭素原子数１ない
し４のアルキル基のだめにマレイミジル基を含有する少
くとも１−個のエチレン性不飽和コ（＝ツマーと共に、
有機溶媒中、自体公知の方法で、？！Ｉえば−Ｙゾピス
インフチロニトリルであるうソカル開始剤の存在下、約
４０ないし１２０℃の温度範囲で重合することができる
。
式中りが炭素原子数１ないし４のアルキル基でなく、次
式： で表わされる化合物は新規であり、同様に本発明の目的
を構成する。
式： で表わされる化合物は新規であり、同様に本発明の目的
を構成する。
％に有利な具体例においては、本発明のポリマーは新規
な方法により製造することができ、また本発明の目的を
構成する。この方法は、次式■または■。
な方法により製造することができ、また本発明の目的を
構成する。この方法は、次式■または■。
（Ｖ） （ＶＤの不飽和モノマ
ーそれ自体を、あるいはＤが炭素原子数１ないし４のア
ルキル基のためマレイミジル基を含有する少くとも１個
のエチレン性不飽和コモノマーと一緒に、有機溶媒中に
おいてラジカル開始剤および４級化試薬ＤＺもしくはｌ
＜２Ｚの存在下重合するＣとからなるものである。Ｃの
ように、ポリマーは重合および４級化を同時に行うこと
による簡易な方法で、架橋反応がなんら認められず、経
済的に製造することができるものである。反応を実施す
るために、反応物はアゾビスイノブチロニトリルのよう
なラジカル開始剤と、有機溶媒中で加熱される。
ーそれ自体を、あるいはＤが炭素原子数１ないし４のア
ルキル基のためマレイミジル基を含有する少くとも１個
のエチレン性不飽和コモノマーと一緒に、有機溶媒中に
おいてラジカル開始剤および４級化試薬ＤＺもしくはｌ
＜２Ｚの存在下重合するＣとからなるものである。Ｃの
ように、ポリマーは重合および４級化を同時に行うこと
による簡易な方法で、架橋反応がなんら認められず、経
済的に製造することができるものである。反応を実施す
るために、反応物はアゾビスイノブチロニトリルのよう
なラジカル開始剤と、有機溶媒中で加熱される。
温Ｊｕは使用するラジカル開始剤に実質的に依存し、例
えば４０℃から１２０℃の範囲であって良い。
えば４０℃から１２０℃の範囲であって良い。
製造のだめの適切な溶媒の例としては、メタノール エ
タノールおよびメチルセルノルブのようなア刀２コール
、同様に極性中性溶媒である。
タノールおよびメチルセルノルブのようなア刀２コール
、同様に極性中性溶媒である。
溶媒は１柚もしくは少なくとも２種の溶媒の混合として
便用することができる。例としてはニジエチルエーテル
、シフ千ルエーテル、テトラヒドロフラ゛ノ、ジオキサ
ン、メチルエ千レンゲリコール、シメチルエチし・ング
リコール、ジメチルジエチレングリコール、ジエチルジ
エチレングリコール、ジメチルトリエチレングリコール
のようなエーテル：メチレンクロライド、クロロホルム
、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタン、１，１．２−
トリクロルエタン、１．１，２．２−テトラクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素；エチルアセテート
、メチルブロヒオ不一ト、エチルベンゾエート、２−メ
トキシエチルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バ
レロラクトンおよびメバロラクトンのようなカルボキシ
レートおよびラクトン、ホルムアミド、アセトアミド、
ヘーメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム゛Ｙ
ミド、へ、ヘージエチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセト了ばド、Ｎ、Ｎ−シ。
便用することができる。例としてはニジエチルエーテル
、シフ千ルエーテル、テトラヒドロフラ゛ノ、ジオキサ
ン、メチルエ千レンゲリコール、シメチルエチし・ング
リコール、ジメチルジエチレングリコール、ジエチルジ
エチレングリコール、ジメチルトリエチレングリコール
のようなエーテル：メチレンクロライド、クロロホルム
、四塩化炭素、１，２−ジクロルエタン、１，１．２−
トリクロルエタン、１．１，２．２−テトラクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素；エチルアセテート
、メチルブロヒオ不一ト、エチルベンゾエート、２−メ
トキシエチルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バ
レロラクトンおよびメバロラクトンのようなカルボキシ
レートおよびラクトン、ホルムアミド、アセトアミド、
ヘーメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム゛Ｙ
ミド、へ、ヘージエチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセト了ばド、Ｎ、Ｎ−シ。
エチルアセトアミド、γ−ブチロラクタム、γ−カプロ
ラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、ヘーメチルカブロラ
クタム、テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスホリッ
クアミドのようなカルボキサミドおよびラクタム：ジメ
チルスルホキシド、テトラメチルスルホキッドのような
スルホキシドニジメチルスルホン、ジエチルスルポン、
トリメチレンスルホン、テトラメチレンスルホンのよウ
ナスルホン、メチルアミン、１チルアミン、クロビルア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、七ルホリン、ジメチル
アミン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリメチルアミン、Ｎ−メーｆ−ルヒロリ
ジン、ヘーメチルピベリジン、ヘーメチルモルホリンの
ような第１級、第２級および第３級アミン：クロルベン
ゼン、ニトロベンゼンおよびクレゾールのような置換ベ
ンゼン。
ラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、ヘーメチルカブロラ
クタム、テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスホリッ
クアミドのようなカルボキサミドおよびラクタム：ジメ
チルスルホキシド、テトラメチルスルホキッドのような
スルホキシドニジメチルスルホン、ジエチルスルポン、
トリメチレンスルホン、テトラメチレンスルホンのよウ
ナスルホン、メチルアミン、１チルアミン、クロビルア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、七ルホリン、ジメチル
アミン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリメチルアミン、Ｎ−メーｆ−ルヒロリ
ジン、ヘーメチルピベリジン、ヘーメチルモルホリンの
ような第１級、第２級および第３級アミン：クロルベン
ゼン、ニトロベンゼンおよびクレゾールのような置換ベ
ンゼン。
ポリマー浴液は、所望により希釈および慣用される絵加
剤の離別の後に、光−感受性塗料組成物として使用する
ことができる。しかしながら、ポリ７−はまた溶液より
慣用の方法、例えば無−溶媒による沈殿、凍結濃縮もし
くは溶媒の留去によって単離することもできる。ポリマ
ーおよびそれらの溶液は貯蔵安定である。
剤の離別の後に、光−感受性塗料組成物として使用する
ことができる。しかしながら、ポリ７−はまた溶液より
慣用の方法、例えば無−溶媒による沈殿、凍結濃縮もし
くは溶媒の留去によって単離することもできる。ポリマ
ーおよびそれらの溶液は貯蔵安定である。
マレイミド基の存在のゆえに、本発明のポリマーは電磁
波の作用下の架橋のために特に好適なものである。架橋
の結果不溶性生成物を形成する。レリーフ像を、像形成
露光そして続いて現像（未架橋および非露光ボ１１マー
成分の溶出）することにより得ることができる。写真物
質としての用途に加えて、ポリマーはまたプラスチック
、金属、ガラス、木材およびセラミｌクズのような棟々
の基質の表面保護のために便用することができる。ボ１
；マーは基質に良く付着す 。
波の作用下の架橋のために特に好適なものである。架橋
の結果不溶性生成物を形成する。レリーフ像を、像形成
露光そして続いて現像（未架橋および非露光ボ１１マー
成分の溶出）することにより得ることができる。写真物
質としての用途に加えて、ポリマーはまたプラスチック
、金属、ガラス、木材およびセラミｌクズのような棟々
の基質の表面保護のために便用することができる。ボ１
；マーは基質に良く付着す 。
る。
光感受性に悪影響を及ぼさない慣用的添加剤をポリマー
または相当する塗料組成物に混和することができる。こ
の種の添加剤の例は、艶消剤。
または相当する塗料組成物に混和することができる。こ
の種の添加剤の例は、艶消剤。
架橋剤および均染剤、充填剤、染料または顔料。
難燃剤、光安定剤および抗酸化剤である。
増感剤なしに、本発明のポリマーは２００ないし３２０
μｍの範囲において最大の光感受性をもっている。光感
受性は増感剤の選択によシかなシ増加させることができ
、そして１種々商業的に入手し得るコピーランプ、例え
ば金属ハライドランプの光を最適の状況で応用すること
ができる。
μｍの範囲において最大の光感受性をもっている。光感
受性は増感剤の選択によシかなシ増加させることができ
、そして１種々商業的に入手し得るコピーランプ、例え
ば金属ハライドランプの光を最適の状況で応用すること
ができる。
適切な増感剤がドイツ公開特許第２６２６７６９号明細
書中に記載されている。好ましい増感剤は例えばドイツ
公開特許第５０１８８９１号明細書中に開示されている
置換チオキサントンで１例えば３ニカルポキシ−７−メ
チルチオキサントンのアルキルエステルである。増感剤
は、ポリマーを基礎として［１５ないし１０重量％が好
ましく使用される。種々の増感剤の混合物もまた使用す
ることができる。
書中に記載されている。好ましい増感剤は例えばドイツ
公開特許第５０１８８９１号明細書中に開示されている
置換チオキサントンで１例えば３ニカルポキシ−７−メ
チルチオキサントンのアルキルエステルである。増感剤
は、ポリマーを基礎として［１５ないし１０重量％が好
ましく使用される。種々の増感剤の混合物もまた使用す
ることができる。
本発明はまた１本発明のポリマーより得られた光−感受
性物質にも関連する。このような物質は、例えば印刷工
業のための写真記録物質、フオーム、特殊オフセットフ
オーム、同様に電子工学における印刷工業分野のための
物質、例えばプリント回路の製造のための感光性耐蝕膜
である。
性物質にも関連する。このような物質は、例えば印刷工
業のための写真記録物質、フオーム、特殊オフセットフ
オーム、同様に電子工学における印刷工業分野のための
物質、例えばプリント回路の製造のための感光性耐蝕膜
である。
このために、ポリマーは有機溶媒中に溶解され１種々の
補助剤を添加後、支持体に適用される。支持体はそれぞ
れの適用領域で慣用的に使用されるものである。写真記
録物質のためには支持体は例えばポリエステルもしくは
セルロースアセテートシートまたはプラスチック被覆紙
：オフセットフオームのためには特殊処理アルミニウム
が使用されニブリント回路の作成の丸めには銅張りラミ
ネートが使用される。塗布は慣用される公知の方法、例
えば浸漬、ナイフ塗布、流し塗、はけ塗、スプレーおよ
びリバースロール塗布である。
補助剤を添加後、支持体に適用される。支持体はそれぞ
れの適用領域で慣用的に使用されるものである。写真記
録物質のためには支持体は例えばポリエステルもしくは
セルロースアセテートシートまたはプラスチック被覆紙
：オフセットフオームのためには特殊処理アルミニウム
が使用されニブリント回路の作成の丸めには銅張りラミ
ネートが使用される。塗布は慣用される公知の方法、例
えば浸漬、ナイフ塗布、流し塗、はけ塗、スプレーおよ
びリバースロール塗布である。
塗布適用後、溶媒は乾燥により除かれ、支持体上に不粘
着性の光−感受性ポリマーの固形層を与える。光マスク
を通して物質を慣用される像形成露光した後、ポリマー
の非露光領域が現像液中で溶解することによシ取シ除か
れ、架橋したポリマーからなるポリマーレリーフが表わ
れて来る。
着性の光−感受性ポリマーの固形層を与える。光マスク
を通して物質を慣用される像形成露光した後、ポリマー
の非露光領域が現像液中で溶解することによシ取シ除か
れ、架橋したポリマーからなるポリマーレリーフが表わ
れて来る。
好ましい現像液は通常上として水である。しかしながら
、水の＃１かに、水−混和性有機溶媒（アルコール、ケ
トン、エステル）と水の混合物の使用もまた可能であシ
、ある種の場合は、例、ｔ ハエチルアルコールのよう
な有機溶媒の使用も可能である。現像溶液の温度は＋５
℃から約９０℃、好ましくは１５℃から６０℃まで変化
することができる。ｍｓ待時間１層の厚さおよびポリマ
ーの組成に依存し、約１０秒から約１０分であって良い
。付着性の良い１品質の優れた像が得られる。
、水の＃１かに、水−混和性有機溶媒（アルコール、ケ
トン、エステル）と水の混合物の使用もまた可能であシ
、ある種の場合は、例、ｔ ハエチルアルコールのよう
な有機溶媒の使用も可能である。現像溶液の温度は＋５
℃から約９０℃、好ましくは１５℃から６０℃まで変化
することができる。ｍｓ待時間１層の厚さおよびポリマ
ーの組成に依存し、約１０秒から約１０分であって良い
。付着性の良い１品質の優れた像が得られる。
以下の実施例によυ本発明を更に詳細に説明する。
Ａ）中間体の製造法
実施例１：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシエチル
）ジメチルマレイミド 攪拌しながら、１６９．２ ｆ （１モル）のＮ−（２
−ヒドロキシエチル）ジメチルマレイミド。
）ジメチルマレイミド 攪拌しながら、１６９．２ ｆ （１モル）のＮ−（２
−ヒドロキシエチル）ジメチルマレイミド。
１１１４ｔ（１２モル）のクロル酢酸おヨヒ１ｔ８１Ｆ
の濃硫酸を１０００１Ｒｔのトルエン中ウォーターセパ
レーターを用いながら還流まで加熱する。約２時間後に
水の形成が終了し、１８−が分離された。反応溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液および水にて洗浄する。有機
相を硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエノくボ
レータ中４０℃にて濃縮する。残渣を２時間６０℃／
０．１ ｍにて乾燥すれば％２０６ｔの無色液状物を与
える。
の濃硫酸を１０００１Ｒｔのトルエン中ウォーターセパ
レーターを用いながら還流まで加熱する。約２時間後に
水の形成が終了し、１８−が分離された。反応溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液および水にて洗浄する。有機
相を硫酸マグネシウムにて乾燥し、ロータリーエノくボ
レータ中４０℃にて濃縮する。残渣を２時間６０℃／
０．１ ｍにて乾燥すれば％２０６ｔの無色液状物を与
える。
元素分析：０１゜Ｈ１２ＣＩＮＯ，（２４ｓ、 ｂ ７
）計算値： Ｃ４８，８９１−１４，９２Ｎ ５．７
０実験値： ０４Ｂ、８８ Ｈ５，０５Ｎ ５．５８
実施例２：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−２，
２−ジメチルクロビル）ジ メチルマレイミド １０５、６９ （α５モル）のＮ−（２，２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピル）ジメチルマレイミド、５４
７ｆ（［１６モル）のクロル酢酸、５．９ｆの濃硫酸お
よび４００−のトルエン混合物を実施例１に記載のよう
に、水の生成（９−）が終了するまで加熱する。反応溶
液を実施例１と同様処理すれば、１２１２の無色液状物
を与える。
）計算値： Ｃ４８，８９１−１４，９２Ｎ ５．７
０実験値： ０４Ｂ、８８ Ｈ５，０５Ｎ ５．５８
実施例２：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−２，
２−ジメチルクロビル）ジ メチルマレイミド １０５、６９ （α５モル）のＮ−（２，２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピル）ジメチルマレイミド、５４
７ｆ（［１６モル）のクロル酢酸、５．９ｆの濃硫酸お
よび４００−のトルエン混合物を実施例１に記載のよう
に、水の生成（９−）が終了するまで加熱する。反応溶
液を実施例１と同様処理すれば、１２１２の無色液状物
を与える。
元素分析： Ｃ１３Ｈ１，ＣｌＮ０４（２８７，７５）
計算値： Ｃ５４，２７Ｈ６３１Ｎ ４．８７Ｃ１１
２，３２ 実験値： Ｃ５４，２４Ｈ６，１３Ｎ ４．９２Ｃ１
１２，１３ 実施例５：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−３−
オキサペンチル）ジメチル マレイミド ９０、６ ｆ （０，４１モル）のＮ−（５−ヒドロキ
シ−５−オキサペンチル）ジメチルマレイミド、４＆６
ｔのクロル酢酸、４．８２の濃硫酸および４００−のト
ルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理すれば、１
１２ｆの淡黄色液状物を与える。
計算値： Ｃ５４，２７Ｈ６３１Ｎ ４．８７Ｃ１１
２，３２ 実験値： Ｃ５４，２４Ｈ６，１３Ｎ ４．９２Ｃ１
１２，１３ 実施例５：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシ−３−
オキサペンチル）ジメチル マレイミド ９０、６ ｆ （０，４１モル）のＮ−（５−ヒドロキ
シ−５−オキサペンチル）ジメチルマレイミド、４＆６
ｔのクロル酢酸、４．８２の濃硫酸および４００−のト
ルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理すれば、１
１２ｆの淡黄色液状物を与える。
元素分析： Ｃ，２Ｈ１，ＣｌＮ０． （２ａ ｑ、
７２ ）計算値：Ｃ４９，７５Ｈ５，５７Ｎ ４．８
４Ｃ１１２，２４ 実験値： Ｃ５０，０Ｄ Ｈ５，５８Ｎ ５．０１
ＣＩ １ ２．１ ５ 実施例４：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシヘキシ
ル）ジメチルマレイミド ａ） マグネテックスターラーおよび還流冷却器を取シ
付けた５００−のガラス丸底フラスコ中にテ１０４．７
ｆ （（１８５モル）の無水ジメチルマレイン酸、９
６．７１Ｆ（（１８１モル）の６−アミノ−１−ヘキサ
ノールおよび１ｏ。
７２ ）計算値：Ｃ４９，７５Ｈ５，５７Ｎ ４．８
４Ｃ１１２，２４ 実験値： Ｃ５０，０Ｄ Ｈ５，５８Ｎ ５．０１
ＣＩ １ ２．１ ５ 実施例４：Ｎ−（クロルメチルカルボニルオキシヘキシ
ル）ジメチルマレイミド ａ） マグネテックスターラーおよび還流冷却器を取シ
付けた５００−のガラス丸底フラスコ中にテ１０４．７
ｆ （（１８５モル）の無水ジメチルマレイン酸、９
６．７１Ｆ（（１８１モル）の６−アミノ−１−ヘキサ
ノールおよび１ｏ。
−のトルエン混合物を４時間還流温度にて攪拌する。反
応溶液から最初に揮発性成分を水流減圧下（浴温は１０
０℃まで）で除き、次いで溶液をオイルポンプ減圧下に
ショートカラムにて分留する。主留分は１７６ｆのＮ−
（６−ヒドロキシヘキシル）ジメチルマレイミドで、沸
点１３ｏ０ないし１４１℃／ ０．０５簡の無色油状物
である。
応溶液から最初に揮発性成分を水流減圧下（浴温は１０
０℃まで）で除き、次いで溶液をオイルポンプ減圧下に
ショートカラムにて分留する。主留分は１７６ｆのＮ−
（６−ヒドロキシヘキシル）ジメチルマレイミドで、沸
点１３ｏ０ないし１４１℃／ ０．０５簡の無色油状物
である。
ｂ） ６７６９ （０，３０モル）のＮ−（６−ヒド
ロキシヘキシル）ジメチルマレイミド、３４０ｙ（０，
３６モル）のクロル酢酸、３．５Ｆの濃硫酸および５０
０−のトルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理す
る。残渣は８６６２の無色油状物である。
ロキシヘキシル）ジメチルマレイミド、３４０ｙ（０，
３６モル）のクロル酢酸、３．５Ｆの濃硫酸および５０
０−のトルエン混合物を実施例１と同様反応し、処理す
る。残渣は８６６２の無色油状物である。
元素分析： Ｃ，４Ｈ２０ＣＩＮＯ４（５０ｔ ７７
）ｇ［３′Ｅ値： Ｃ５５，７２Ｈ６６Ｂ Ｎ ４
．６４１１ｔ７５ 一実験値： Ｃ５６，８０Ｈ，６，７９Ｎ ４．５４
ｚｔ５ｓ 実施例５： ａ）メチルメタクリレート（ＭＭＡ）およびジメチルア
ミノエチルメタクリレ−） （ＤＭＡＥＭＡ）のコポリ
マー（モノマーのモル比：ＭＭＡ／ＤＭＡＥＭＡ＝ｔａ
：ｔｏｌ 攪拌器、温度計、減圧連結および窒素導入口を取り付け
た定温調節可能のダブル−ジャケット反応器を次の混合
物で満たす： ＭＭＡ ｓａｏｒＤＭＡＥＭＡ
５ ｔ ４タエタノール ２７
０．Ｏｆ アゾビスインブチロ ニトリル（ＡＩＢＮ） α５３７を酸素を、純
粋窒素ガスによる排出および充填の繰り返しによシ除く
。フラスコ内で、重合が６０℃±１℃の温度までに加熱
することによシ開始され、同温にて２４時間行なう、粘
稠性ポリマー溶液が、全ｊｌｓ ｓ ｏ ｏ−の水を混
合することによシ沈殿し、そして固形無色ポリマー粉末
を５日間減圧乾燥だな中で５０℃／Ｉ Ｄ Ｏｔｏｏｒ
にて乾燥させる。
）ｇ［３′Ｅ値： Ｃ５５，７２Ｈ６６Ｂ Ｎ ４
．６４１１ｔ７５ 一実験値： Ｃ５６，８０Ｈ，６，７９Ｎ ４．５４
ｚｔ５ｓ 実施例５： ａ）メチルメタクリレート（ＭＭＡ）およびジメチルア
ミノエチルメタクリレ−） （ＤＭＡＥＭＡ）のコポリ
マー（モノマーのモル比：ＭＭＡ／ＤＭＡＥＭＡ＝ｔａ
：ｔｏｌ 攪拌器、温度計、減圧連結および窒素導入口を取り付け
た定温調節可能のダブル−ジャケット反応器を次の混合
物で満たす： ＭＭＡ ｓａｏｒＤＭＡＥＭＡ
５ ｔ ４タエタノール ２７
０．Ｏｆ アゾビスインブチロ ニトリル（ＡＩＢＮ） α５３７を酸素を、純
粋窒素ガスによる排出および充填の繰り返しによシ除く
。フラスコ内で、重合が６０℃±１℃の温度までに加熱
することによシ開始され、同温にて２４時間行なう、粘
稠性ポリマー溶液が、全ｊｌｓ ｓ ｏ ｏ−の水を混
合することによシ沈殿し、そして固形無色ポリマー粉末
を５日間減圧乾燥だな中で５０℃／Ｉ Ｄ Ｏｔｏｏｒ
にて乾燥させる。
収量： ２．６８ ｖａｌ ７ｋｇ （理論値：２．９
４ｖａｊ／ ｋｆ）のアミン含有値を有するポリマー、
５９２゜ ｂ）ポリマーの４級化 上記ポリマー １α０２ ペンチル）ジメチルマレイミ）” ８．６ Ｆ
ジメチルホルムアミド ９５０２からなる
混合物をＳマクネチックスクーラーを取り付けたガラス
フラスコ中で１時間６０℃にて加熱し１次いで８０℃に
て２４時間加熱する。黄色粘稠性ポリマー溶液が、２０
００ｍの酢酸エチル中に激しく攪拌することにより沈殿
し、沈殿物を減圧乾燥だな中で遮光しながら４０℃にて
乾燥させる。
４ｖａｊ／ ｋｆ）のアミン含有値を有するポリマー、
５９２゜ ｂ）ポリマーの４級化 上記ポリマー １α０２ ペンチル）ジメチルマレイミ）” ８．６ Ｆ
ジメチルホルムアミド ９５０２からなる
混合物をＳマクネチックスクーラーを取り付けたガラス
フラスコ中で１時間６０℃にて加熱し１次いで８０℃に
て２４時間加熱する。黄色粘稠性ポリマー溶液が、２０
００ｍの酢酸エチル中に激しく攪拌することにより沈殿
し、沈殿物を減圧乾燥だな中で遮光しながら４０℃にて
乾燥させる。
収量：１ａｓｒのポリマー粉末、このものは分析の結果
４３％のＣ１ｔ含有す る。これは４級アンモニウム基の １２１ｖａｌ ／ｋｙ （理論値：ｔ５１ｖａｌ／ ｋ
ｙ ）に相当する。このポリマーは水に溶解する。
４３％のＣ１ｔ含有す る。これは４級アンモニウム基の １２１ｖａｌ ／ｋｙ （理論値：ｔ５１ｖａｌ／ ｋ
ｙ ）に相当する。このポリマーは水に溶解する。
実施例６ ： １．８ ： １の比率によるＭＭＡ／Ｄ
ＭＡＥＭＡのコポリマー、実施例１ の化合物との４級化。
ＭＡＥＭＡのコポリマー、実施例１ の化合物との４級化。
実施例５ａのポリマー １αＯｔ実施列１のＮ
−（クロルメチルカルボニルオキシエチル）−ジメチル
マレイミド ７．３１シミチルホルムアミド
９５．０ｍ／を実施例５ ｂｌのように
反応させる。
−（クロルメチルカルボニルオキシエチル）−ジメチル
マレイミド ７．３１シミチルホルムアミド
９５．０ｍ／を実施例５ ｂｌのように
反応させる。
収量：１４．２ｆの固形ポリマー、分析の結果４．５−
のＣＩを含有する。これは４級アンモニウム基の１２７
ｖａｌ ／ ｋｑ（理論値： １．６２ ｖａｌ ／
ｋｇｌに相当する・固有粘度（メチルセルンルプ中α５
チ、２５℃＞＝ｔ０４ｄｌ／ｆ。
のＣＩを含有する。これは４級アンモニウム基の１２７
ｖａｌ ／ ｋｑ（理論値： １．６２ ｖａｌ ／
ｋｇｌに相当する・固有粘度（メチルセルンルプ中α５
チ、２５℃＞＝ｔ０４ｄｌ／ｆ。
実施例７：重合化および４級化
次からなるポリマー：
（ＣＨ３）ｚＮｃＨ２ｃＨ２０１Ｊｃ−ｃ（ｃＨ３１＝
ｃＨ，（１）ＭＡＥＮＬＡＩマグネテツクスターラーを
取シ付けｆＣｓ ｏ 。
ｃＨ，（１）ＭＡＥＮＬＡＩマグネテツクスターラーを
取シ付けｆＣｓ ｏ 。
−ガラスアンプルを以下にリストした混合物でｆｉたし
、酸素を純粋窒素ガスの排出および充填の繰り返しによ
り除いた。アンプルを６５℃の一定温度に保った加熱浴
中で２４時間加熱し、次いで冷却し、内容物を２０００
−のエーテル中に注ぐ。ポリマーをゴム弾性物質として
得た。
、酸素を純粋窒素ガスの排出および充填の繰り返しによ
り除いた。アンプルを６５℃の一定温度に保った加熱浴
中で２４時間加熱し、次いで冷却し、内容物を２０００
−のエーテル中に注ぐ。ポリマーをゴム弾性物質として
得た。
エーテルをデカンテーションにより除き、次いで新しい
エーテルを加えポリマーを減圧乾燥だな中で４０℃／
１００ ｍｍにて乾燥させる。併せたエーテル相をロー
タリーエバポレーターにて濃縮し、残渣を秤量し、それ
から収率を計算した・ ７、１ ： ＤＭＩ−ｏ−ＭＡ ２
８．１ ｔＤＭＡ ＥＭＡ ４．７
を実施例３の化合物 ８．７１アゾビ
スイ／ブチロニトリル ０．１６ｆジメチルホルム
アミド ７６５ｆ収率＝９６％、ポリマーは水
に溶解する。
エーテルを加えポリマーを減圧乾燥だな中で４０℃／
１００ ｍｍにて乾燥させる。併せたエーテル相をロー
タリーエバポレーターにて濃縮し、残渣を秤量し、それ
から収率を計算した・ ７、１ ： ＤＭＩ−ｏ−ＭＡ ２
８．１ ｔＤＭＡ ＥＭＡ ４．７
を実施例３の化合物 ８．７１アゾビ
スイ／ブチロニトリル ０．１６ｆジメチルホルム
アミド ７６５ｆ収率＝９６％、ポリマーは水
に溶解する。
７、２ ： ＤＭＩ−ｏ −ＭＡ ２Ｂ、
１ｆ１）ＭＡＥＭＡ 五１２実施例３の
化合物 ５．８２アゾビスインブチロニ
トリル ［Ｌ１６ｆシミチルホルムアミド
７２．Ｏｆ収率＝９６チ、ポリマーは水に溶解する。
１ｆ１）ＭＡＥＭＡ 五１２実施例３の
化合物 ５．８２アゾビスインブチロニ
トリル ［Ｌ１６ｆシミチルホルムアミド
７２．Ｏｆ収率＝９６チ、ポリマーは水に溶解する。
７、５ ： ＤＭＩ−ｏ−ＭＡ ２８．１
ＦＤＭＡＨＭＡ ３．９？実施例３の
化合物 ７．２９アゾビスインブチロニ
トリル ［Ｌ１６ｆジメチルホルムアミド
７４．７ ｆＺｌおよび７．２と対照して、ポリマー
７．６はエーテル中で沈殿しない。その代りに、反応浴
液は更に光−感受性物質の製造のために直接使用される
。
ＦＤＭＡＨＭＡ ３．９？実施例３の
化合物 ７．２９アゾビスインブチロニ
トリル ［Ｌ１６ｆジメチルホルムアミド
７４．７ ｆＺｌおよび７．２と対照して、ポリマー
７．６はエーテル中で沈殿しない。その代りに、反応浴
液は更に光−感受性物質の製造のために直接使用される
。
実施例８：重合化および４級化
次からなるポリマー：
（ＣＨｓｈＮＣＨ２ＣＨ２０ＵＣ−（：（ＣＨ３１＝Ｃ
Ｈ２（ＤＦＪＡＥＡ４Ａ）θ 次の混合物を実施例７と同様重合化した。
Ｈ２（ＤＦＪＡＥＡ４Ａ）θ 次の混合物を実施例７と同様重合化した。
８、Ｉ ＤＭＩ−ＭＡ ２３．７ｔＤＭ
ＡＢＭＡ ７．８６を実施例１の化合物
１２．２８２アゾビスインブチロニトリ
ル ０１６２ジメチルホルムアミド ７３．
７ＦＣＩ含有量（分析後） ＝ ４．９チ、４級アンモ
ニウム基のｔ ３８ ｖａｌ ７ｋｇ （理論値：ｔ
１４ ｖａｌ ／ｋｆ）に相当する。
ＡＢＭＡ ７．８６を実施例１の化合物
１２．２８２アゾビスインブチロニトリ
ル ０１６２ジメチルホルムアミド ７３．
７ＦＣＩ含有量（分析後） ＝ ４．９チ、４級アンモ
ニウム基のｔ ３８ ｖａｌ ７ｋｇ （理論値：ｔ
１４ ｖａｌ ／ｋｆ）に相当する。
８．２ ＤＭＩ−ＭＡ ２五７ｔＤＭＡ
ＥＭＡ ４３ｆ 実施例１の化合物 ９８３ｔアゾビスイ
ンブチロニトリル α２０？ジメチルホルムアミド
９！ＬＯｆ収率＝９３チ 実施例９二重合化および４級化 次からなるポリマー： （ＣＩ−１，）、ＮＣＨ２（、’）Ｉ、α）Ｃ−Ｃ（Ｃ
Ｈｓ）＝ＣＩ（２（ＤＭＡＨＭＡ）（ＣＨ，０）、８０
． （ジメチルスルフェート）次の混合
物を実施例７と同様重合させる。
ＥＭＡ ４３ｆ 実施例１の化合物 ９８３ｔアゾビスイ
ンブチロニトリル α２０？ジメチルホルムアミド
９！ＬＯｆ収率＝９３チ 実施例９二重合化および４級化 次からなるポリマー： （ＣＩ−１，）、ＮＣＨ２（、’）Ｉ、α）Ｃ−Ｃ（Ｃ
Ｈｓ）＝ＣＩ（２（ＤＭＡＨＭＡ）（ＣＨ，０）、８０
． （ジメチルスルフェート）次の混合
物を実施例７と同様重合させる。
ＤＭＩ−ＭＡ ２ｓ、１ｔＤＭＡＨＭＡ
５．１ｆジメチルスルフエート
２５２ｆアゾビスインブチロニトリル ０．１
６ｆジメチルホルムアミド ７２．８？収率＝
９７％、、ポリマーは水に溶解する。
５．１ｆジメチルスルフエート
２５２ｆアゾビスインブチロニトリル ０．１
６ｆジメチルホルムアミド ７２．８？収率＝
９７％、、ポリマーは水に溶解する。
適用例
以下の実施例中では感光剤を使用し、ＣＭＴＸと略記す
る３−カルボエトキシ−７−メチルチオキサントンは次
の構造式である。
る３−カルボエトキシ−７−メチルチオキサントンは次
の構造式である。
全ての試験は黄色光線下行った。
実施例１０：次の塗布溶液を調整した：実施例４０４級
化ポリマー ４．Ｏｆエチレングリコ
ールモノメチルエーテル １６０１ＣＭＴＸ
０．２００ｆワイヤー
フイルムアプリケーターを用い、この溶液を二重延伸し
た１００縄のポリエステルシート上に２０μｍの湿潤フ
ィルムとなるよう塗布し、８５℃にて２５分間乾燥した
・均一の淡黄色光−感受性層な約３〜４μｍの厚さを有
する。
化ポリマー ４．Ｏｆエチレングリコ
ールモノメチルエーテル １６０１ＣＭＴＸ
０．２００ｆワイヤー
フイルムアプリケーターを用い、この溶液を二重延伸し
た１００縄のポリエステルシート上に２０μｍの湿潤フ
ィルムとなるよう塗布し、８５℃にて２５分間乾燥した
・均一の淡黄色光−感受性層な約３〜４μｍの厚さを有
する。
フィルムを複写機〔オキセ ヘリオプリント（ＯＣ５Ｈ
ｅ１ｉｏｐｒｉｎｔ ） ３６ ％５５ ｔｙｎの距離
を有する１０００Ｗ金属ハライドランプ〕上で試験くさ
びと接触させ露光した。
ｅ１ｉｏｐｒｉｎｔ ） ３６ ％５５ ｔｙｎの距離
を有する１０００Ｗ金属ハライドランプ〕上で試験くさ
びと接触させ露光した。
露光したストリップを、微温水（３５℃）中で３０秒間
、次いで次式： の桑科の２チ水溶液中で３分間浸漬することにより現像
した。
、次いで次式： の桑科の２チ水溶液中で３分間浸漬することにより現像
した。
次いでス） ＩＪツブを流水中で１５分間洗浄し、乾燥
した。４６５μｍにおいて１．７の光学濃度を有する強
烈なオレンジ色の像が得られた。
した。４６５μｍにおいて１．７の光学濃度を有する強
烈なオレンジ色の像が得られた。
実施例１１：次の塗布溶液：
実施例６の４級化ポリマー ４．Ｏｆエ
チレングリコールモノメチルエーテル １６．ＯｆＣＭ
ＴＸ Ｏ，２００ｆ
を実施例１０に記載のようにポリエステル上に塗布し、
露光し、３０℃の水で３０秒間現像、着色した。４６５
μｍにおいて五１の光学濃度を有する強烈なオレンジ像
が得られた。
チレングリコールモノメチルエーテル １６．ＯｆＣＭ
ＴＸ Ｏ，２００ｆ
を実施例１０に記載のようにポリエステル上に塗布し、
露光し、３０℃の水で３０秒間現像、着色した。４６５
μｍにおいて五１の光学濃度を有する強烈なオレンジ像
が得られた。
実施例１２：次の塗布溶液を調整する：実施例Ｚ１のポ
リマー ３．０ｔＣＭＴ、）（［Ｌ
Ｏ６０ｔ この溶液を、ワイヤーフィルムアプリケーターを用い、
プリント回路ボードの製造のために使用される銅張リラ
ミネート上に１２０μｍの厚さの湿潤フィルムとなるよ
う塗布し、４０℃にて２０分間乾燥した。この塗布され
たプリント回路ボードの感光性ポリマ一層の厚さは約３
５μＩｎである。ボードを実施例１０に記載の複写機中
、部分ウェッジを通し２分間露光させ、３０℃の流水中
２分間洗浄することによシ現像した０次いで擦魂箸感光
性耐蝕膜が攻撃されることなく、亜鉛浴中で銅の付着に
よる公知の方法でこのボード上に導線の系列を補強する
ことができる。続いて、感光性耐蝕膜は加塩した５チ水
酸化ナトリウム溶液で処理することによシ取り除くこと
ができる。
リマー ３．０ｔＣＭＴ、）（［Ｌ
Ｏ６０ｔ この溶液を、ワイヤーフィルムアプリケーターを用い、
プリント回路ボードの製造のために使用される銅張リラ
ミネート上に１２０μｍの厚さの湿潤フィルムとなるよ
う塗布し、４０℃にて２０分間乾燥した。この塗布され
たプリント回路ボードの感光性ポリマ一層の厚さは約３
５μＩｎである。ボードを実施例１０に記載の複写機中
、部分ウェッジを通し２分間露光させ、３０℃の流水中
２分間洗浄することによシ現像した０次いで擦魂箸感光
性耐蝕膜が攻撃されることなく、亜鉛浴中で銅の付着に
よる公知の方法でこのボード上に導線の系列を補強する
ことができる。続いて、感光性耐蝕膜は加塩した５チ水
酸化ナトリウム溶液で処理することによシ取り除くこと
ができる。
実施例１５二次の塗布溶液を調整する：実施例１２のポ
リマー ４．０ｔエチレングリコー
ルモノメチルエーテル １＆ＯｆＣＭＴＸ
［Ｌ５２０ｆワイヤーフィルムア
プリケーターを用い、この溶液をプリント回路ボードの
製造に使用する銅張シラミネート上に２０μｍの湿潤厚
さとなるよう塗布し、８５℃にて３分間乾燥した。回路
ボードを実施例１０と同様に６０秒露光し３５℃の水中
にて２分間現像した０次いでプリント導線原型を公知の
方法で塩化鉄（Ｍｌ）を焼付けることにより製造した。
リマー ４．０ｔエチレングリコー
ルモノメチルエーテル １＆ＯｆＣＭＴＸ
［Ｌ５２０ｆワイヤーフィルムア
プリケーターを用い、この溶液をプリント回路ボードの
製造に使用する銅張シラミネート上に２０μｍの湿潤厚
さとなるよう塗布し、８５℃にて３分間乾燥した。回路
ボードを実施例１０と同様に６０秒露光し３５℃の水中
にて２分間現像した０次いでプリント導線原型を公知の
方法で塩化鉄（Ｍｌ）を焼付けることにより製造した。
感光性耐蝕膜は苛性アルカリ溶液により攻撃されなかっ
た。これは所望により、加温水酸化す） ＩＪウム水溶
液で処理することによ−シ取シ除くことができる。
た。これは所望により、加温水酸化す） ＩＪウム水溶
液で処理することによ−シ取シ除くことができる。
実施例１４：次の塗布溶液を調整する；実施例３で製造
したジメチルホルムア ミド中のポリマー溶液 ２００ｔＣＭ
ＴＸ ｏ１４ｏｒクエ
ン酸 α４２０ｔワイヤーフイル
ムアプリケーターを使用し、−この溶液をプリント回路
ボードの製造のために使用する銅張りラミネート上に１
２０μｍの湿潤フィルム厚さとなるよう塗布し、８５℃
にて２５分間乾燥した。ボードを実施例１０に記載のよ
うに３分間露光し、そしてノ・ンドスプレーを用い３５
℃の水にて２分間現像した。現像した感光性耐蝕膜は次
いで実施例１２のように電流耐蝕膜として使用すること
ができる。これは強酸性亜鉛浴の攻撃によく抵抗し、高
品質プリント導線原型を与える。
したジメチルホルムア ミド中のポリマー溶液 ２００ｔＣＭ
ＴＸ ｏ１４ｏｒクエ
ン酸 α４２０ｔワイヤーフイル
ムアプリケーターを使用し、−この溶液をプリント回路
ボードの製造のために使用する銅張りラミネート上に１
２０μｍの湿潤フィルム厚さとなるよう塗布し、８５℃
にて２５分間乾燥した。ボードを実施例１０に記載のよ
うに３分間露光し、そしてノ・ンドスプレーを用い３５
℃の水にて２分間現像した。現像した感光性耐蝕膜は次
いで実施例１２のように電流耐蝕膜として使用すること
ができる。これは強酸性亜鉛浴の攻撃によく抵抗し、高
品質プリント導線原型を与える。
特許出願人
チバーガイギー アクチェンゲゼルシャフト代理人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （υ マレイミジル基および第４級アンモニウム塩を含
有し、そして少くとも１００００分子量を有する、次式
ｌ： ■ ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸累原子ま
たは−Ｎｌ−１基を表わし、Ａは直鎮または枝分れの炭
素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ［（′および酪は互いに独立して炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表わすか、−緒になってテトラメチレン
基、ペンタメチレン基または３−オキサペンチレノ基を
表わし、 Ｄは炭素原子数１ないし４のアルキル基または次式 （式中、ル３はアルキレン基、オキサアルキレン基また
はベンジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わし、ル５は炭素原子
数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香原炭
化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素瑣式基
を表わし、Ｒ６はＲ５で定義した意味を有するかまたは
次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
で衣、わされる基を表わし、ＴＩお上び′Ｉ′２は互い
に独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
か、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４
のアルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン
基を表わす）の基を表わし、 Ｚ けアニオンを表わす〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和モノマーの
構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
性不飽和モノマーから誘導された別の構造単位をまた存
在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマー。 （２） ポリマーを基礎として式１の構造単位５ない
し９０モル％を含有する特許請求の範囲第１項記載のポ
リマー。 （３）ホリマーを基礎として次式： （式中、′■゛１および１゛２は前記の意味を表わす）
のマレイミジル基を含有する構造単位１ｏないし１００
モル％を含有する特ｉｔ′ＦＭ求の範囲第１項記載のポ
リマー。 （４） コモノマーの構造単位として次式：（式中、
ル −（４，１（６，［（６およびＴ、は前記の意味を
表わし、【モアはＲ５で定義した意味を有するかまたは
−Ｃ−１（，５を表わし、ｙは１または２で１ ある。） で表わされるマレイミジル基を所有するものを含有する
特許請求の範囲第１項記載のポリマー。 （５） α−オレフィン、ビニルハライド、芳香族ビ
ニル化合物、複素環式ビニル化合物、ビニルケトン、ビ
ニルエステル、ヒニルエーテルオヨびα、Ｉ−不飽和二
トリル、カルボン酸エステルおよびカルボ／酌アミドか
らなるグループから選択されるコモノマーの構造単位を
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のポリマー （６） 脂肪族基としての［（５が炭素原子数１ないし
１２のアルキレンもしくはオキサアルキレン基、環式脂
肪族基としてのＨ，５が５または６員環原子を含有し、
炭素環式芳香族基としてのｉｔｓが炭素原子数６ないし
１６個を含有し、芳香脂肪族基としてのル５が炭素原子
７ないし１６個を含有し、そして複素環式−芳香族基ま
たは複素環式−脂肪族基としてのＨ，ｓが炭素原子４な
いし１２個全含有するものである特許請求の範囲第１項
記載のポリマー。 （７） マレイミジル基および第４級アンモニウム塩
を含有し、そして少くとも１０００の分子層を有する、
次式ｌ： ■ Ｌ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
たは−Ｎｉｌ基を表オフシ、Ａは直鎖または枝分れの炭
素原子数２ないし６のアルキレ／基を表わし、 Ｒ１およびＰは互いに独立して炭素原子数１ないし４の
アルキル基を−表わすか、−緒になってテトラメチレン
基、ぺ／タメチレン基または５−オキサペ／チレ／基を
表わし、Ｄは炭素原子数１ないし４のアルキｎ−基また
は次式 （式中、Ｒ３はアルキレ／基、オキサアルキレフ基また
はべ／ジレン基を表わし、ｌ（，４は水素原子または炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、師は炭素原
子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環式
基を表わし、ｌ（６は師で定義した意味を有するかまた
は次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、１４４は水素
原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
）で表わされる基を表わし、１゛１およびＴ２は互いに
独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか
、−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基
を表わす）の基を表わし、 ｚ、０はアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただしＤが炭素原
子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、′１゛２はｎＩＪ記の意味を表わす）のマレイ
ミジル基を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和モ
ノマーの構造単位、ならびにマレイミド基を含有しない
エチレン性不飽和モノマーから誘導された別の構造単位
をまた存在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマーの＠造において・ ａ）次式■または■： （式中、Ｒ、１−Ｌｌ、 １３，２． Ｙ 、Ａおよび
Ｄは前記の意味を表わす） の構造単位を含有するホモポリマーまたはコポリマーを
、次式： ％式％（２ （式中、Ｒ２，ＤおよびＺは前記の意味を表わす） の４級化試薬と有機溶媒中で反応させるか、ｂ）次式■ ２ （式中、Ｒ，ＦＬＩ、ル２． Ｙ、Ａ、Ｉ）およびＺは
前記の意味を表わす） のモノマーを、有機溶媒中ラジカル開始剤の存在下、そ
れ自体を重合させるかまたはエチレン性不飽和コモノマ
ーと共に重合させるか、 Ｃ）次式■または■： （式中、Ｒ、）Ｌｌ、Ｒ２，Ｙ 、 ＡおよびＤは前記
の意味を表わす） のモノマーを、有機溶媒中ラジカル開始剤および式：Ｄ
Ｚまたはル２Ｚ （式中、Ｒ，２，ＤおよびＺは前記の
意味を表わす）の４級化試薬の存在下、それ自体を重合
させるかまたはエチレン性不飽和コモノマーと共に重合
させる、 ことからなる製造法。 （８）次式■： ２ 〔式中、 ルは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
たは−Ｎｌ（基を表わし、Ａは直鎖または枝分れの炭素
原子数２ないし６のアルキレフ基を表わし、 Ｗおよびル′は互いに独立して直鎖または枝分れのアル
キル基を表わすか、−緒になってテトラメチレン基、ぺ
／タメチレン基または５−オキサペンチレノ基を表わし
、 ＺＯは４級化試薬のアーオ／を表わし、Ｄは炭素原子数
１ないし４のアルキル基または次式 ％式％ （式中、ＦＬ３はアルキレフ基、オキサアルキレン基ま
たはベンジレン基を表わし、ル４は水素原子または炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒ５は炭素原
子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
炭化水素基もしくは２価の脂肪族または芳香族複素環式
基を表わし、ル６はＲ６で定義した意味を有するかまた
は次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ，４は水素
原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
）で表わされる基を表わし、ＴＩおよびＴ２は互いに独
立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、
−緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基を
表わす）で表わされるマレイミジル基を表わす。〕 で表わされる化合物。 （９） 次式■： Ｄ −Ｚ （ＶＩ９ 〔式中、 Ｚはハロゲン原子、スルホネートまたはスルフェート基
を表わし、 Ｄは次式： （式中、ル３はアルキレ／基、オキサアルキレフ基また
はべ／ジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｈ，ｓは炭素原
子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
炭化水素基、もしくは２価の脂肪族または芳香族複葉環
式基を表わし、此６Ｆｉル５で定義した意味を有するか
または次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
で表わされる基を表ｖし、ＴｌおよびＴ２は互いに独立
して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、−
緒になって未置換もしくは炭素原子数１ないし４のアル
キル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基を表
わす）で表わされる基を表わす。〕 で表わされる化合物。 叫 マレイミジル基および第４級アンモニウム塩を含有
し、そして少くとも１００００分子坦を有する、次式ｌ
： ■ ２ 〔式中、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、Ｙは酸素原子ま
たは−Ｎｌ（基を表わし、Ａけ直鎖または枝分れの炭素
原子数２ないし６のアルキレフ基を表わし、 ルーおよび＋ｔＦは互いに独立して炭素原子数１ないし
４のアルキル基を表わすか、−緒になってテトラメチレ
フ基、ペンタメチレン基または５−オキサペ／チレン基
を表わし、ＤＦｉ炭素原子数１ないし４のアルキル基ま
ｋは次式 （式中 Ｒ３はアルキレフ基、オキサアルキレフ基また
はべ／ジレン基を表わし、Ｒ４は水素原子または炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｉ（ｓは炭素原
子数１８までの２価の脂肪族、環式脂肪族または芳香族
炭化水素基もしくは２価の脂肪族または一芳香族複素環
式基を表わし、ル６はＩｔｓで定義した意味を有するか
または次式： （式中、Ｘは１ないし２９の値を表わし、Ｒ４は水素原
子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす）
で表わされる基を表わし、ＴＩおよびＴ、は互いに独立
して炭素原子数１ないし４つアルキル基を表わすか、−
緒になって未「（換もしくＶま炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換のトリメチレンまたはテトラメチレン基
を表わす）の基を表わし、 ＺＯはアニオンを表わす。〕 で表わされる構造単位を含有するが、ただし１〕か炭素
原子数１ないし４のアルキル基の場合、次式： （式中、Ｔ２は前記の意味を表わす）のマレイミジル基
を所有する少くとも１個のエチレン性不飽和七ツマ−の
構造単位、ならびにマレイミド基を含有しないエチレン
性不飽和コモノマーから誘導された別■構造単位をまた
存在させることができる、 ホモポリマーまたはコポリマーを、写真記録物質、特に
グラフィックフィルム、印刷版、印刷回路および１髪も
度集梢開閉回路のために使用する方法。 αυ ホモポリマーまたはコポリマーおよび所望により
慣用される添加剤の層を、直接支持体に施用した写真記
録物質として使用する特許請求の範囲第１０項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH312882 | 1982-05-19 | ||
| CH3128/82-5 | 1982-05-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210912A true JPS58210912A (ja) | 1983-12-08 |
| JPH0446288B2 JPH0446288B2 (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=4249215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58088345A Granted JPS58210912A (ja) | 1982-05-19 | 1983-05-19 | 光架橋性、水溶性ポリマ−、その製造方法及びその用途 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4544621A (ja) |
| EP (1) | EP0094913B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58210912A (ja) |
| CA (1) | CA1209143A (ja) |
| DE (1) | DE3374451D1 (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4656292A (en) * | 1982-05-19 | 1987-04-07 | Ciba-Geigy Corporation | 2,3-dimethylmaleimido-alkyl haloacetates |
| DE3485048D1 (de) * | 1983-11-01 | 1991-10-17 | Hoechst Celanese Corp | Tief uv-empfindliche positive photolackzusammensetzung, lichtempfindliches element und dasselbe enthaltendes gegen hitze widerstandsfaehiges photochemisches bild. |
| US5059513A (en) * | 1983-11-01 | 1991-10-22 | Hoechst Celanese Corporation | Photochemical image process of positive photoresist element with maleimide copolymer |
| US4734476A (en) * | 1985-06-18 | 1988-03-29 | Chisso Corporation | Photo-setting resin composition |
| JPH06103391B2 (ja) * | 1985-09-20 | 1994-12-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性記録材料 |
| US4720445A (en) * | 1986-02-18 | 1988-01-19 | Allied Corporation | Copolymers from maleimide and aliphatic vinyl ethers and esters used in positive photoresist |
| US5208675A (en) * | 1989-12-26 | 1993-05-04 | Anton/Bauer, Inc. | Video camera with integral light assembly |
| US5464538A (en) * | 1989-12-29 | 1995-11-07 | The Dow Chemical Company | Reverse osmosis membrane |
| US5238747A (en) * | 1989-12-29 | 1993-08-24 | The Dow Chemical Company | Photocurable compositions |
| JPH0519434A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色素固定要素 |
| AU4085797A (en) | 1996-08-23 | 1998-03-06 | First Chemical Corporation | Polymerization processes using aliphatic maleimides |
| US20040235976A1 (en) * | 1996-08-23 | 2004-11-25 | Hoyle Charles E. | Polymerization processes using alphatic maleimides |
| WO1998054134A1 (en) * | 1997-05-27 | 1998-12-03 | First Chemical Coporation | Aromatic maleimides and their use as photoinitiators |
| ATE333114T1 (de) | 1998-01-30 | 2006-08-15 | Albemarle Corp | Maleimide enthaltende fotopolymerisierbare zusammensetzungen und verfahren zu deren verwendung |
| DE10329923B4 (de) * | 2003-07-02 | 2005-09-29 | Concord Gmbh | Kindersitz zur Anbringung an einen Fahrzeugsitz |
| US7317059B2 (en) * | 2004-09-24 | 2008-01-08 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ligand immobilization support |
| JP4720175B2 (ja) * | 2004-12-15 | 2011-07-13 | 富士ゼロックス株式会社 | マレイミジル基含有材料およびその製造方法 |
| KR20150038026A (ko) * | 2012-07-06 | 2015-04-08 | 자와하랄 네루 센터 포 어드밴스드 사이언티픽 리서치 | 항박테리아 화합물의 나노입자 조성물 및 그의 다른 용도 |
| CN104861109B (zh) * | 2014-02-24 | 2017-06-13 | 中国科学院理化技术研究所 | 兼具水溶性和油溶性的成膜树脂及其制备方法和应用 |
| US9360759B2 (en) * | 2014-09-12 | 2016-06-07 | Eastman Kodak Company | Forming conductive metal patterns using water-soluble polymers |
| CN117500923A (zh) | 2021-04-07 | 2024-02-02 | 巴特尔纪念研究院 | 用于鉴定和使用非病毒载体的快速设计、构建、测试和学习技术 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4079041A (en) * | 1975-06-18 | 1978-03-14 | Ciba-Geigy Corporation | Crosslinkable polymeric compounds |
| US4158731A (en) * | 1975-06-18 | 1979-06-19 | Ciba-Geigy Corporation | Crosslinkable polymeric compounds |
| US4107174A (en) * | 1975-06-18 | 1978-08-15 | Ciba-Geigy Corporation | Imidyl compounds |
| EP0003552B1 (de) * | 1978-02-08 | 1982-05-26 | Ciba-Geigy Ag | Unter der Einwirkung von Licht vernetzbare Polymere mit seitenständigen tricyclischen Imidylgruppen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
| GB1603908A (en) * | 1978-05-31 | 1981-12-02 | Kodak Ltd | Radiationsensitive materials |
| JPS5933899B2 (ja) * | 1978-08-31 | 1984-08-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
| EP0021019B1 (de) * | 1979-05-18 | 1984-10-17 | Ciba-Geigy Ag | Lichtvernetzbare Copolymere, sie enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, seine Verwendung zur Herstellung photographischer Abbildungen und Verfahren zur Herstellung von photographischen Abbildungen |
| EP0029358B1 (en) * | 1979-11-15 | 1983-09-28 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | Photocrosslinkable compositions and presensitised litho plates |
-
1983
- 1983-05-09 US US06/492,853 patent/US4544621A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-05-13 DE DE8383810205T patent/DE3374451D1/de not_active Expired
- 1983-05-13 EP EP83810205A patent/EP0094913B1/de not_active Expired
- 1983-05-17 CA CA000428305A patent/CA1209143A/en not_active Expired
- 1983-05-19 JP JP58088345A patent/JPS58210912A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1209143A (en) | 1986-08-05 |
| EP0094913B1 (de) | 1987-11-11 |
| EP0094913A3 (en) | 1984-09-12 |
| US4544621A (en) | 1985-10-01 |
| EP0094913A2 (de) | 1983-11-23 |
| JPH0446288B2 (ja) | 1992-07-29 |
| DE3374451D1 (en) | 1987-12-17 |
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