JPS63257750A - ポジ型感光性樹脂 - Google Patents
ポジ型感光性樹脂Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はポジ型感光性樹脂に関するものである。
更に詳しく述べるならば、本発明は、凸版、および平版
などの印刷製版材料として、また、プリント基板、集積
回路、ネームプレートなどの製造における金属腐食加工
用フォトレノスト材料として、更に、フィルム、ガラス
板、スクリーンなどの基材上に画像を形成する材料とし
て有用な、ボッ型感光性樹脂に関するものである。
などの印刷製版材料として、また、プリント基板、集積
回路、ネームプレートなどの製造における金属腐食加工
用フォトレノスト材料として、更に、フィルム、ガラス
板、スクリーンなどの基材上に画像を形成する材料とし
て有用な、ボッ型感光性樹脂に関するものである。
本発明のポジ型感光性樹脂は、活性光線に露光すると光
分解してスルホン酸基側鎖を形成し、それによって水溶
性化、又は、親水性化するという特性を有する重合体を
主成分とするものである。
分解してスルホン酸基側鎖を形成し、それによって水溶
性化、又は、親水性化するという特性を有する重合体を
主成分とするものである。
活性光線露光により可溶性化する、いわゆるポジ型の感
光性物質としては、O−キノンノアノド化合物、および
0−ナフトキノンノアノド化合物などがよく知、られで
いる。これらの感光性物質は。
光性物質としては、O−キノンノアノド化合物、および
0−ナフトキノンノアノド化合物などがよく知、られで
いる。これらの感光性物質は。
ポジ型平版印刷版製造用材料として、或はIC1および
LSIなどを作成するためのポジ型レノストとして広く
使用されている。これら各種の0−キノンシアノド化合
物は、例えば特公昭37−3627号、特公昭37−1
8015号、米国特許第3.046,120号、西独特
許第94,090号、および特公昭45−9610号な
どを含む多数の刊行物中に開示されている。
LSIなどを作成するためのポジ型レノストとして広く
使用されている。これら各種の0−キノンシアノド化合
物は、例えば特公昭37−3627号、特公昭37−1
8015号、米国特許第3.046,120号、西独特
許第94,090号、および特公昭45−9610号な
どを含む多数の刊行物中に開示されている。
上記のO−キノンシアノド化合物は、これを活性光線に
露光すると、分解して5員環カルボン峨基を生成し、こ
れによりアルカリ可溶性化する。
露光すると、分解して5員環カルボン峨基を生成し、こ
れによりアルカリ可溶性化する。
しかしながら、このO−キノンシアノド化合物には、そ
の欠点として、(I)いづれも感光性が不十分であるこ
と、(2)アジド基の耐熱安定性が低く、このためジア
ジド化合物が高温で分解し易く、貯蔵安定性が不十分で
あること、(3)低分子感光性化合物が混在し易く、こ
の究め、このノアシト化合物から得られる塗膜の強度が
不十分であること、および(4)得られ九塗膜に上記低
分子化合物のにじみ出しがあること、などの問題点が知
られている。
の欠点として、(I)いづれも感光性が不十分であるこ
と、(2)アジド基の耐熱安定性が低く、このためジア
ジド化合物が高温で分解し易く、貯蔵安定性が不十分で
あること、(3)低分子感光性化合物が混在し易く、こ
の究め、このノアシト化合物から得られる塗膜の強度が
不十分であること、および(4)得られ九塗膜に上記低
分子化合物のにじみ出しがあること、などの問題点が知
られている。
シアシト化合物が露光されたときに生成するカルボン酸
基には、その欠点として、(I)それが弱酸基であるの
でアルカリ可溶性基としては比較的弱いものであり、従
って露光により変性されt化合物のアルカリ可溶性が不
十分であること、および(2)露光により生成するカル
ビノールの親水性が不十分であるため、この露光変性に
より得られる化合物をアルカリ不溶性・親水性皮膜形成
に利用することができないこと、などの問題点がある。
基には、その欠点として、(I)それが弱酸基であるの
でアルカリ可溶性基としては比較的弱いものであり、従
って露光により変性されt化合物のアルカリ可溶性が不
十分であること、および(2)露光により生成するカル
ビノールの親水性が不十分であるため、この露光変性に
より得られる化合物をアルカリ不溶性・親水性皮膜形成
に利用することができないこと、などの問題点がある。
上記の問題点を解消するために、上記シアノド化合物と
は異なるポジ型感光性化合物の開発が強く望まれ、例え
ば光分解により生成する酸により、第二の反応を惹起式
せ、これにより露光した化合物を可溶性化しようとする
試みも提案されているが、このような化合物には、感光
性、貯蔵安定性、現像許容性などのいづれかの特性にお
いて不満足な点があり、十分な実用化に至っていない。
は異なるポジ型感光性化合物の開発が強く望まれ、例え
ば光分解により生成する酸により、第二の反応を惹起式
せ、これにより露光した化合物を可溶性化しようとする
試みも提案されているが、このような化合物には、感光
性、貯蔵安定性、現像許容性などのいづれかの特性にお
いて不満足な点があり、十分な実用化に至っていない。
また特公昭56−2696号に開示されている0−ニト
ロカルビノールエステル基を有するポリマーは、光分解
によりカルボン酸基を生成するがこのようなカルボン酸
基は露光化合物のアルカリ可溶性化或は、アルカリ不溶
性・親水性皮膜の形成などの点において不十分なもので
ある。
ロカルビノールエステル基を有するポリマーは、光分解
によりカルボン酸基を生成するがこのようなカルボン酸
基は露光化合物のアルカリ可溶性化或は、アルカリ不溶
性・親水性皮膜の形成などの点において不十分なもので
ある。
本発明は、従来の感光性樹脂の上述のような問題点を解
消し、感光性が高く、露光により親水性の高い基を生成
し、それによりアルカリ可溶性ないしアルカリ不溶性・
高親水性を示し、かつ貯蔵安定性が良好で、可溶性化お
よび親水性化において幅広い変化の可能なホゾ型感光性
樹脂を提供しようとするものである。
消し、感光性が高く、露光により親水性の高い基を生成
し、それによりアルカリ可溶性ないしアルカリ不溶性・
高親水性を示し、かつ貯蔵安定性が良好で、可溶性化お
よび親水性化において幅広い変化の可能なホゾ型感光性
樹脂を提供しようとするものである。
により表わされる、少なくとも1種の芳香族ニトロカル
ビノールスルホン酸エステル基からなる、ことを特徴と
するものである。
ビノールスルホン酸エステル基からなる、ことを特徴と
するものである。
前記一般式(I)の芳香族ニトロカルビノールスルホン
酸エステル基は下記一般式(II)およびQ[D:〔但
′し上式(II)および(至)中、R1およびXは、前
記規定の通りであり、Bは、炭素原子数6〜14の芳香
族環構造を補完している。置換された、又は、置換され
ていない炭化水素グループを表わす〕の0−およびp−
ニトロカルビノールスルホン酸エステル基から選ばれる
ことが好ましい。
酸エステル基は下記一般式(II)およびQ[D:〔但
′し上式(II)および(至)中、R1およびXは、前
記規定の通りであり、Bは、炭素原子数6〜14の芳香
族環構造を補完している。置換された、又は、置換され
ていない炭化水素グループを表わす〕の0−およびp−
ニトロカルビノールスルホン酸エステル基から選ばれる
ことが好ましい。
上記一般式(I) 、 (If)および(2)において
、−R−により表わされる置換された、および置換され
ていない2価ベンゼン環基は、例えば などから選ぶことができ、ま友−R−によって表わされ
る炭素原子数1〜8のアルキレ/基およびアルアルキレ
ン基は、1〜8個の炭素原子を有するなどから選ばれ念
ものであってもよい。
、−R−により表わされる置換された、および置換され
ていない2価ベンゼン環基は、例えば などから選ぶことができ、ま友−R−によって表わされ
る炭素原子数1〜8のアルキレ/基およびアルアルキレ
ン基は、1〜8個の炭素原子を有するなどから選ばれ念
ものであってもよい。
また、一般式(I) 、 Ql)および(2)において
−Xにより表わされろ、置換され九、および、置換され
ていない炭素原子数1〜8のアルキル基およびアラルキ
ル基は、例えば、1〜8個の炭素原子を有する直鎖状ア
ルキル基、例えば−CH3,−C2H5゜から選ばれる
。
−Xにより表わされろ、置換され九、および、置換され
ていない炭素原子数1〜8のアルキル基およびアラルキ
ル基は、例えば、1〜8個の炭素原子を有する直鎖状ア
ルキル基、例えば−CH3,−C2H5゜から選ばれる
。
また、−Xにより表わされた、置換された、および置換
されていない炭素原子数1〜6のアルコキシ基、並びに
、置換された、および置換されていないアリール基は、
例えば、−0CH,、−QC2H5゜できる。
されていない炭素原子数1〜6のアルコキシ基、並びに
、置換された、および置換されていないアリール基は、
例えば、−0CH,、−QC2H5゜できる。
一般式(りにおいて、Aにより表わされる炭素原子数6
〜14の芳香族環はベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環、フエタントレン環などから選ぶことができ、
これらの芳香族環は、カルメ二ル基を有する1例えばア
ントラキノン環、ナフタレン環、などであってもよく、
或は、ニトロ基の他の置換基として炭素原子数1〜8の
アルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、)翫ロ
グン原子、および、アミノ基、などから選ばれた1個以
上を有していてもよい。
〜14の芳香族環はベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環、フエタントレン環などから選ぶことができ、
これらの芳香族環は、カルメ二ル基を有する1例えばア
ントラキノン環、ナフタレン環、などであってもよく、
或は、ニトロ基の他の置換基として炭素原子数1〜8の
アルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、)翫ロ
グン原子、および、アミノ基、などから選ばれた1個以
上を有していてもよい。
一般式(II)および(転)において、その末端芳香族
環に、CH−X基に関して〇−位およびp−位に=ト0
基が結合しており、その他の位置には置換基がなくても
よく、或は、上記のような炭素原子数1〜8のアルキル
基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、ハロダン原子、
アミノ基、およびニトロ基、などから選ばれ九1個以上
の置換基が結合していてもよい。
環に、CH−X基に関して〇−位およびp−位に=ト0
基が結合しており、その他の位置には置換基がなくても
よく、或は、上記のような炭素原子数1〜8のアルキル
基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、ハロダン原子、
アミノ基、およびニトロ基、などから選ばれ九1個以上
の置換基が結合していてもよい。
一般式(I)において −〇−C−A により表わさ
れるニトロカルビノール基は、O−ニトロカルビノール
基類、すなわち一般式Ql)における入 ’) ル4 * 2−二トロペラトリル木、2−ニトロ
−4−アミノベンジル午、2−ニトロ−4−ジメチルア
ミノベンノル午、2−ニトロ−4−メチルアミノベンジ
ル率、2−ニトロ−5−ゾメチルアミノペンゾル、2−
ニトロ−5−アミノペンノルキ。
れるニトロカルビノール基は、O−ニトロカルビノール
基類、すなわち一般式Ql)における入 ’) ル4 * 2−二トロペラトリル木、2−ニトロ
−4−アミノベンジル午、2−ニトロ−4−ジメチルア
ミノベンノル午、2−ニトロ−4−メチルアミノベンジ
ル率、2−ニトロ−5−ゾメチルアミノペンゾル、2−
ニトロ−5−アミノペンノルキ。
2−二)O−4,69メ)キシペンノル4,2゜4ジニ
トロペンノル本、3−メチル−2,4−&ニトロベンシ
ル+、2−ニトロー4−メチルペンノル4 # 2 #
4 j 6− ) IJニトロベンノルアルコール、
2−ニトロベ/ズヒドール、 2 、2’−ノニトロペ
ンズヒドール、2.4−ノニトロペンスヒト−p;、2
−ニトロ−3−ヒドロキシメチルナフ:p+)ン+1−
二トロー2−ヒドロキシメチルナフタリン、および1−
ニトロ−2−ヒドロキシメチルアントラキノン基など、
並びにp−ニトロカルビノール基類、すなわち、一般式
a)におけるλ /’ 4 r 4− 二) ”−2−7ミ/ベンノル、
4−二トロー、2−ゾメチルアミノペンゾル、4−ニト
ロ−2−メチルアミノペンノル生、4−ニトロ−2゜6
−−/メトキシペンジルキ、4−ニトロ−2−メトキシ
ペンノル4.2.4−ジェトロペンシル+−13−メチ
ル−2,4−ゾニトロペンノルキ、4−二トロー2−メ
チルベンノルキ=z−4a6’−)リニトロペンゾルア
ルコール、4−ニトロベンズヒドール、 414’−ゾ
ニトロペンズヒドール、2゜4−ノニトロベンズヒドー
ル、2 * 2’ + 4 e 4’−テトラニトロペ
ンズヒドール、4−ニトロ−1−ヒドロキシメチルヤタ
リンンよび4−ニトロ−1−ヒドロキシメチルアントラ
キノ/基など、から選ぶことができる。
トロペンノル本、3−メチル−2,4−&ニトロベンシ
ル+、2−ニトロー4−メチルペンノル4 # 2 #
4 j 6− ) IJニトロベンノルアルコール、
2−ニトロベ/ズヒドール、 2 、2’−ノニトロペ
ンズヒドール、2.4−ノニトロペンスヒト−p;、2
−ニトロ−3−ヒドロキシメチルナフ:p+)ン+1−
二トロー2−ヒドロキシメチルナフタリン、および1−
ニトロ−2−ヒドロキシメチルアントラキノン基など、
並びにp−ニトロカルビノール基類、すなわち、一般式
a)におけるλ /’ 4 r 4− 二) ”−2−7ミ/ベンノル、
4−二トロー、2−ゾメチルアミノペンゾル、4−ニト
ロ−2−メチルアミノペンノル生、4−ニトロ−2゜6
−−/メトキシペンジルキ、4−ニトロ−2−メトキシ
ペンノル4.2.4−ジェトロペンシル+−13−メチ
ル−2,4−ゾニトロペンノルキ、4−二トロー2−メ
チルベンノルキ=z−4a6’−)リニトロペンゾルア
ルコール、4−ニトロベンズヒドール、 414’−ゾ
ニトロペンズヒドール、2゜4−ノニトロベンズヒドー
ル、2 * 2’ + 4 e 4’−テトラニトロペ
ンズヒドール、4−ニトロ−1−ヒドロキシメチルヤタ
リンンよび4−ニトロ−1−ヒドロキシメチルアントラ
キノ/基など、から選ぶことができる。
本発明の重合体の側鎖の一部、又は、全部が前記一般式
(I)の芳香族ニトロカルビノールスルホン酸エステル
基であり、残余の側鎖はこ几らと異るもの、例えば有機
スルホン酸基、フェニル基、カルゲン酸エステル基、ア
ミド基、N−メチロールアミド基、メチル基、シアノ基
、ハロダン原子、又は、酢酸基などであってもよい。本
発明の重合体において一般式(I)の芳香族ニトロカル
ビノールスルホン酸エステル基が、側鎖全量に対し20
0モルチル10モルチの含有率を有することが好ましい
。
(I)の芳香族ニトロカルビノールスルホン酸エステル
基であり、残余の側鎖はこ几らと異るもの、例えば有機
スルホン酸基、フェニル基、カルゲン酸エステル基、ア
ミド基、N−メチロールアミド基、メチル基、シアノ基
、ハロダン原子、又は、酢酸基などであってもよい。本
発明の重合体において一般式(I)の芳香族ニトロカル
ビノールスルホン酸エステル基が、側鎖全量に対し20
0モルチル10モルチの含有率を有することが好ましい
。
本発明の感光性重合体は、下記2種の方法のいづれかに
より製造される。
より製造される。
第1の製造方法においては、オレフィン性不飽和有機ス
ルホン酸化合物、有機スルホン酸ハライド化分物、特に
、有機スルホン酸クロライド化合物又は、それと、他の
重合性単硅体との混分物を重合して得られる有機スルホ
ン酸化合物又は有機スルホン酸ハライド化合物の重合体
、又は共重合体スルホン酸基又はスルホン酸ハライド基
を芳香族ニトロカルビノール化合物によりエステル化す
る。すなわちこの方法は、重合体又は共重合体の側鎖に
おいてそのスルホン酸基又はスルホン酸ハライド基をエ
ステル化するものである。
ルホン酸化合物、有機スルホン酸ハライド化分物、特に
、有機スルホン酸クロライド化合物又は、それと、他の
重合性単硅体との混分物を重合して得られる有機スルホ
ン酸化合物又は有機スルホン酸ハライド化合物の重合体
、又は共重合体スルホン酸基又はスルホン酸ハライド基
を芳香族ニトロカルビノール化合物によりエステル化す
る。すなわちこの方法は、重合体又は共重合体の側鎖に
おいてそのスルホン酸基又はスルホン酸ハライド基をエ
ステル化するものである。
第2の製造方法においては、有機スルホン酸基又は有機
スルホン酸ハライド基を有するオレフィン性不飽和化合
物単量体の前記有機スルホン酸基又は有機スルホ/酸ハ
ライド基を、芳香族ニトロカルビノール化合物によりエ
ステル化し、得られル有機スルホン酸−芳香族二トロカ
ルピノールエステル基を有するオレフィン性不飽和化合
物単址体を重分するか・、或は、この単量体と、他の重
合性単量体とを共重合するものである。
スルホン酸ハライド基を有するオレフィン性不飽和化合
物単量体の前記有機スルホン酸基又は有機スルホ/酸ハ
ライド基を、芳香族ニトロカルビノール化合物によりエ
ステル化し、得られル有機スルホン酸−芳香族二トロカ
ルピノールエステル基を有するオレフィン性不飽和化合
物単址体を重分するか・、或は、この単量体と、他の重
合性単量体とを共重合するものである。
有機スルホン酸基を有するオレフィン性不飽和化合物は
、例えば、下記一般式ω: 〔但し上式中、R1およびR2は、それぞれ、他から独
立に、水素原子、およびメチル基から選ばれ九−員を表
わし、R3は、前記Rと同じである。〕で表わ式れる化
曾物から選ばれる。
、例えば、下記一般式ω: 〔但し上式中、R1およびR2は、それぞれ、他から独
立に、水素原子、およびメチル基から選ばれ九−員を表
わし、R3は、前記Rと同じである。〕で表わ式れる化
曾物から選ばれる。
上記一般式(財)で表わされるオレフィン性不飽和化合
物ハ、例えば、p−スチレンスルホン酸、O−スチレン
スルホン酸、p−アリルベンゼンスルホン酸、アリルス
ルホン酸、1−メチルアリルスルホン酸、2−メチルア
リルスルホン酸、およびl−ブテンスルホ/酸などから
選ぶことができる。
物ハ、例えば、p−スチレンスルホン酸、O−スチレン
スルホン酸、p−アリルベンゼンスルホン酸、アリルス
ルホン酸、1−メチルアリルスルホン酸、2−メチルア
リルスルホン酸、およびl−ブテンスルホ/酸などから
選ぶことができる。
有機スルホン酸−芳香族ニトロカルビノールエステル基
を有するオレフィン性不飽和化合物単量体と共重合すべ
き他の重合性単量体は、例えば、エチレン、スチレン、
クロロプレン、イソプレン、ブタノエン、酢酸ビニル、
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイン
酸エステル、フマル酸エステル、アクリロニトリル、ア
クリルアミド、Nメチロールアクリルアミド等から選ぶ
ことができる。第2の製造方法において先づ、オレフィ
ン性不飽和有機スルホン酸の芳香族カルビノールエステ
ルを製造し、次に、このエステルを単独で重合するか、
或は、それと他の重合性単量体と共重合する。この重合
、又は、共重合方法は通常のオレフィン性化合物の重合
法又は共重合法と同一である。
を有するオレフィン性不飽和化合物単量体と共重合すべ
き他の重合性単量体は、例えば、エチレン、スチレン、
クロロプレン、イソプレン、ブタノエン、酢酸ビニル、
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイン
酸エステル、フマル酸エステル、アクリロニトリル、ア
クリルアミド、Nメチロールアクリルアミド等から選ぶ
ことができる。第2の製造方法において先づ、オレフィ
ン性不飽和有機スルホン酸の芳香族カルビノールエステ
ルを製造し、次に、このエステルを単独で重合するか、
或は、それと他の重合性単量体と共重合する。この重合
、又は、共重合方法は通常のオレフィン性化合物の重合
法又は共重合法と同一である。
上記第2の製造方法において、オレフィン性不飽和有機
スルホン酸の芳香族カルビノールエステルは、例えばオ
レフィン性不飽和有機スルホン酸又は、スルホン酸ハラ
イド、好ましくはクロライドと、芳香族カルビノールと
を反応させることにより合成することができる。
スルホン酸の芳香族カルビノールエステルは、例えばオ
レフィン性不飽和有機スルホン酸又は、スルホン酸ハラ
イド、好ましくはクロライドと、芳香族カルビノールと
を反応させることにより合成することができる。
本発明のオレフィン性重曾体は500以上の分子量を有
することが好ましく、2000以上の分子tを有するこ
とが更に好ましい。分子量が500未満のときは、得ら
れるオレフィン性重合体には、フィルム形成性が不十分
で、良好な樹脂皮膜を形成することかで@ないなどの欠
点を生ずることがある。
することが好ましく、2000以上の分子tを有するこ
とが更に好ましい。分子量が500未満のときは、得ら
れるオレフィン性重合体には、フィルム形成性が不十分
で、良好な樹脂皮膜を形成することかで@ないなどの欠
点を生ずることがある。
本発明のオレフィン性重合体は、ポリオレフィン性主鎖
に結合し九有機スルホン酸の芳香族カルビノールエステ
ル基を側鎖として有するもので、このような重合体は活
性光線に露光すると光化学反応により、その側鎖中のエ
ステル結合が分解し、遊離の有機スルホン酸基が生成し
、このため光化学的反応をし比重合体のアルカリ溶解性
および親水性は、未反応化合物のそれらの特性から著る
しく異り之ものとなる。
に結合し九有機スルホン酸の芳香族カルビノールエステ
ル基を側鎖として有するもので、このような重合体は活
性光線に露光すると光化学反応により、その側鎖中のエ
ステル結合が分解し、遊離の有機スルホン酸基が生成し
、このため光化学的反応をし比重合体のアルカリ溶解性
および親水性は、未反応化合物のそれらの特性から著る
しく異り之ものとなる。
本発明の感光性重合体の光化学反応の機構としては、下
記反応式(&)に示す染料増感による機構や、特に〇−
カルビノール誘導体エステル基を含む場合の反応式(b
)による機構が考えられるが、これらはろくまでも仮説
にすぎない。
記反応式(&)に示す染料増感による機構や、特に〇−
カルビノール誘導体エステル基を含む場合の反応式(b
)による機構が考えられるが、これらはろくまでも仮説
にすぎない。
(&)
〔増感剤〕−〔増感剤〕9
木
→ +CH2−CH−)n
o3H
+
に。
本発明の感光性重合体において、例えばそれがp−ニト
ロカルビノールスルホン酸エステル基含有している場合
、それが十分な感光性(光化学反応性)を示すためには
、増感剤を併用することが好ましい。このような増感剤
としては芳香族多環式炭化水素、ポリメチン染料、アミ
ノケトン、キサンチン、チオキサンチン、p−置換アミ
ノスチリル、螢光ポリアリール化合物及びスクェアリウ
ム染料などを用いることができる。
ロカルビノールスルホン酸エステル基含有している場合
、それが十分な感光性(光化学反応性)を示すためには
、増感剤を併用することが好ましい。このような増感剤
としては芳香族多環式炭化水素、ポリメチン染料、アミ
ノケトン、キサンチン、チオキサンチン、p−置換アミ
ノスチリル、螢光ポリアリール化合物及びスクェアリウ
ム染料などを用いることができる。
本発明の感光性重合体がO−ニトロカルビノールスルホ
ン酸エステル基を有している場合、増感剤の併用は必ず
しも必要としないが、分光増感の目的の究めに増感剤を
併用してもよい。
ン酸エステル基を有している場合、増感剤の併用は必ず
しも必要としないが、分光増感の目的の究めに増感剤を
併用してもよい。
本発明の感光性樹脂において、本発明の感光性重合体に
、その重量の50%以下の他のアルカリ可溶性樹脂を、
混用してもよい。このアルカリ可溶性樹脂は、ノゲラッ
ク型フェノール樹脂を包含し、例えばフェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、0−クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂などを用
いることができる。
、その重量の50%以下の他のアルカリ可溶性樹脂を、
混用してもよい。このアルカリ可溶性樹脂は、ノゲラッ
ク型フェノール樹脂を包含し、例えばフェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、0−クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂などを用
いることができる。
本発明の感光性樹脂を用いて感光性材料′Ik製造する
には、上記各成分を適宜な有機溶媒に溶解した後、これ
を支持体に塗布する。この有機溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、ジク
ロルメタン、クロロホルム、エチレンジクロライド、シ
クロへΦサノン、メチルエチルケトン、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ、2−メトキシエチルアセテート
などがあり、これらの溶媒を単独又は混合して使用する
。
には、上記各成分を適宜な有機溶媒に溶解した後、これ
を支持体に塗布する。この有機溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、ジク
ロルメタン、クロロホルム、エチレンジクロライド、シ
クロへΦサノン、メチルエチルケトン、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ、2−メトキシエチルアセテート
などがあり、これらの溶媒を単独又は混合して使用する
。
本発明の感光性樹脂を用いて平版印刷版を製造する場合
、現像処理により露光部′t−溶解除去するタイプの場
合は、支持体としては、親水化処理された表面を有し、
寸法安定性に優れ、印刷版としての強度、曲げやすさを
有するものが用いられ、具体的には親水化処理され友ア
ルミニウム板、亜鉛板、クロム処理鋼板、親水化処理さ
れたプラスチックや紙が用いられる。
、現像処理により露光部′t−溶解除去するタイプの場
合は、支持体としては、親水化処理された表面を有し、
寸法安定性に優れ、印刷版としての強度、曲げやすさを
有するものが用いられ、具体的には親水化処理され友ア
ルミニウム板、亜鉛板、クロム処理鋼板、親水化処理さ
れたプラスチックや紙が用いられる。
本発明の感光性樹脂は、露光によっても溶解除去されな
いが、親水性化するというものであってもよい。このよ
うな樹脂を用いると、現像処理つまりアルカリ溶出とい
う処理が不要な印刷版を作成することができる。
いが、親水性化するというものであってもよい。このよ
うな樹脂を用いると、現像処理つまりアルカリ溶出とい
う処理が不要な印刷版を作成することができる。
露光部を親水性化するタイプの感光性材料の場合は、支
持体は親水性の表面を有する必要はなく、疎水性表面を
有する金属板、箔、プラスチックなどの多くのものを使
用することができる。
持体は親水性の表面を有する必要はなく、疎水性表面を
有する金属板、箔、プラスチックなどの多くのものを使
用することができる。
又、本発明の感光性樹脂を画像形成用感光性材料とする
場合は、支持体としてはポリエチレンテレフタレートや
トリアセテートの透明フィルムや、これらのプラスチッ
クフィルムの表面を化学的或いは物理的にマット化した
ものが使われる。
場合は、支持体としてはポリエチレンテレフタレートや
トリアセテートの透明フィルムや、これらのプラスチッ
クフィルムの表面を化学的或いは物理的にマット化した
ものが使われる。
又、本発明の感光性樹脂を7オトレノストとして使用す
る場合は、その支持体として、亜鉛板、銅板、銅メツキ
板、金属蒸着ガラス板やシリコン板などが用いられる。
る場合は、その支持体として、亜鉛板、銅板、銅メツキ
板、金属蒸着ガラス板やシリコン板などが用いられる。
本発明の感光性樹脂に照射される活性光線としては、2
00〜900 nmの波長範囲の光であり、その光源と
しては、例えば、水銀燈、メタルノ1ライドランプ、キ
セノン灯、ケミカルランプ、カーゲンアーク灯などがめ
る。
00〜900 nmの波長範囲の光であり、その光源と
しては、例えば、水銀燈、メタルノ1ライドランプ、キ
セノン灯、ケミカルランプ、カーゲンアーク灯などがめ
る。
本発明の感光性樹脂に対する露光部溶出の現像液として
は珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリ
ウム、リン酸三アンモニウム、リン酸三アンモニウム、
メタケイ酸ソーダ、炭酸ナトリウムなどの無機アルカリ
剤の水溶液が適当である。又、該アルカリ水溶液には必
要に応じて界面活性剤や、有機アミン、アルコール、エ
ーテル、ケトンといった有機溶媒を加えることができる
。
は珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリ
ウム、リン酸三アンモニウム、リン酸三アンモニウム、
メタケイ酸ソーダ、炭酸ナトリウムなどの無機アルカリ
剤の水溶液が適当である。又、該アルカリ水溶液には必
要に応じて界面活性剤や、有機アミン、アルコール、エ
ーテル、ケトンといった有機溶媒を加えることができる
。
以下余日
〔実施例〕
以下本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発
明の範囲がこれに限定されるものではない。又、実施例
中の部及びチは別に指示しない限シ重量部、重量係を表
わす。
明の範囲がこれに限定されるものではない。又、実施例
中の部及びチは別に指示しない限シ重量部、重量係を表
わす。
実施例1
(p−スチレンスルホニルクロライドの合成)p−スチ
レンスルホン酸カリウム15.0.f、!:ハイドロキ
ノン0.15Fとクロロホルム90.9を混合し、この
混合物を攪拌しなから0〜5℃に冷却し、これにPCA
518.9を少しずつ添加した。
レンスルホン酸カリウム15.0.f、!:ハイドロキ
ノン0.15Fとクロロホルム90.9を混合し、この
混合物を攪拌しなから0〜5℃に冷却し、これにPCA
518.9を少しずつ添加した。
pct5の添加終了後、液温を45〜50℃にあげ、2
.5時間攪拌を続けた。この反応液の温度を室温に戻し
、反応液を濾過した後、蒸溜により反応液中の大部分の
クロロホルムを留去した。残液を分液ロートに移し、こ
れに1001のベンゼンを加え、さらに約50gの水を
加えてよく振って洗浄し、水相を捨てた。この水による
洗浄を3回線シ返した後、ベンゼン層を分別してCa
Ca2を加え、−夜装置した。Ca Ca2を濾別し、
ベンゼンを留去することにより無色透明なp−スチレン
スルホニルクロライド11.2.9を得た。
.5時間攪拌を続けた。この反応液の温度を室温に戻し
、反応液を濾過した後、蒸溜により反応液中の大部分の
クロロホルムを留去した。残液を分液ロートに移し、こ
れに1001のベンゼンを加え、さらに約50gの水を
加えてよく振って洗浄し、水相を捨てた。この水による
洗浄を3回線シ返した後、ベンゼン層を分別してCa
Ca2を加え、−夜装置した。Ca Ca2を濾別し、
ベンゼンを留去することにより無色透明なp−スチレン
スルホニルクロライド11.2.9を得た。
(重合)
窒素雰囲気下にラジカル重合開始剤としてのアゾイソブ
チルニトリルを用いてp−スチレンスルホニルクロライ
ドを重合した。p−スチレンスルホニルクロライド5.
1.9と、アゾイソブチルニトリル0.15Nとを、テ
トラヒドロフラン45.SFに加えた後、反応器内空気
を窒素ガスで置換した。
チルニトリルを用いてp−スチレンスルホニルクロライ
ドを重合した。p−スチレンスルホニルクロライド5.
1.9と、アゾイソブチルニトリル0.15Nとを、テ
トラヒドロフラン45.SFに加えた後、反応器内空気
を窒素ガスで置換した。
その後、液温を65℃に上け、このままで8時間加熱を
続けた。反応液を常温迄冷却した後、n−ヘキサン50
0CC中に反応液を注ぎ、重合物を沈澱させた。沈澱物
を濾別した後、これを再びテトラヒドロフランに溶解し
、n−ヘキサン中に注いで沈澱させる工程を繰り遮光し
た。沈澱物を濾別した後乾燥し、淡黄色の重合物(ポリ
−p−スチレンスルホニルクロライド)4.0#ヲ得た
。
続けた。反応液を常温迄冷却した後、n−ヘキサン50
0CC中に反応液を注ぎ、重合物を沈澱させた。沈澱物
を濾別した後、これを再びテトラヒドロフランに溶解し
、n−ヘキサン中に注いで沈澱させる工程を繰り遮光し
た。沈澱物を濾別した後乾燥し、淡黄色の重合物(ポリ
−p−スチレンスルホニルクロライド)4.0#ヲ得た
。
(エステル化)
得られた重合物3.0I!を17Iのテトラヒドロフラ
ンに溶解した後、この溶液に0−ニトロベンジルアルコ
ール6.8.f(化学量論的量の3倍)を加え、その後
、液温を0〜5℃に冷却する。この溶液を激しく攪拌し
なからカセイカリの10%水溶液8.3JP(化学量論
的量の1.5倍)をゆっくり温度が上昇しないように気
をつけながら滴下した。
ンに溶解した後、この溶液に0−ニトロベンジルアルコ
ール6.8.f(化学量論的量の3倍)を加え、その後
、液温を0〜5℃に冷却する。この溶液を激しく攪拌し
なからカセイカリの10%水溶液8.3JP(化学量論
的量の1.5倍)をゆっくり温度が上昇しないように気
をつけながら滴下した。
3時間攪拌を続けた後、反応液を弱い塩酸性メタノール
に注ぎ、エステル化物を沈澱させた。沈澱物を濾別乾燥
し、淡褐色の感光性重合物4.1gを得た。
に注ぎ、エステル化物を沈澱させた。沈澱物を濾別乾燥
し、淡褐色の感光性重合物4.1gを得た。
(平版印刷版の製作)
上記感光性重合物をテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液を砂目立てしたアルミニウム板上に、厚さ2μの固
形層が残るように塗布した。この塗布乾燥された板の上
に透明陽画像のフィルムを真空密着させ、これに2 k
Wの水銀灯で70crnの距離から4分間露光した。続
いてこの露光された板を2俤のメタ珪酸水洛液に2分間
浸漬し、露光部の塗布層を除去することにより平版印刷
版を得た。
溶液を砂目立てしたアルミニウム板上に、厚さ2μの固
形層が残るように塗布した。この塗布乾燥された板の上
に透明陽画像のフィルムを真空密着させ、これに2 k
Wの水銀灯で70crnの距離から4分間露光した。続
いてこの露光された板を2俤のメタ珪酸水洛液に2分間
浸漬し、露光部の塗布層を除去することにより平版印刷
版を得た。
(印刷テスト)
得られた平版印刷版をオフセット印刷機にセットし、印
刷を行なったところ2万枚以上の良好な印刷物が得られ
た。
刷を行なったところ2万枚以上の良好な印刷物が得られ
た。
実施例2〜5
p−スチレンスルホニルクロライトド、スチレンとを表
−1のモル分率組成で、テトラヒドロフランを溶媒とし
て混合する。これに全モノマー重量の3チのアゾインブ
チルニトリルを加え、65℃で8時間実施例1と同様に
して重合を行わせ、重合物を得た。更に実施例1と同様
にしてエステル化を行い感光性の重合物を得た。これを
元素分析により求めた共重合体中のスチレン分率とグル
パーミネーシ、ンクロマトグラフにより調ぺたスチレン
換算の分子量は表−1に示す通りであった。
−1のモル分率組成で、テトラヒドロフランを溶媒とし
て混合する。これに全モノマー重量の3チのアゾインブ
チルニトリルを加え、65℃で8時間実施例1と同様に
して重合を行わせ、重合物を得た。更に実施例1と同様
にしてエステル化を行い感光性の重合物を得た。これを
元素分析により求めた共重合体中のスチレン分率とグル
パーミネーシ、ンクロマトグラフにより調ぺたスチレン
換算の分子量は表−1に示す通りであった。
又、これを実施例1と同様にして平版印刷版を作成した
結果は表−2の通シであった。重合体中のスチレンのモ
ル分率が40%になるともはや露光部は現像液に溶解し
なくなったが、その表面の水に対する接触角Filo〜
15’と低く、十分に親水性であり、かつ、平版印刷可
能であった。
結果は表−2の通シであった。重合体中のスチレンのモ
ル分率が40%になるともはや露光部は現像液に溶解し
なくなったが、その表面の水に対する接触角Filo〜
15’と低く、十分に親水性であり、かつ、平版印刷可
能であった。
表−1
表−2
実施例6
厚さ100μのポリエステルフィルムに接着剤として8
BRエマルジ、ンを1μの厚さく固形層)に塗ったもの
を基材として、この上に実施例4記載の塗液を、厚さ2
μ(固形層)となるように塗布した。得られた感光性材
料に実施例4と同様に露光、現像を行なったところ、水
接触角が60’以上の非露光部と、溶解はしないが水接
触角10〜15″の露光部を有する印刷版が得られた。
BRエマルジ、ンを1μの厚さく固形層)に塗ったもの
を基材として、この上に実施例4記載の塗液を、厚さ2
μ(固形層)となるように塗布した。得られた感光性材
料に実施例4と同様に露光、現像を行なったところ、水
接触角が60’以上の非露光部と、溶解はしないが水接
触角10〜15″の露光部を有する印刷版が得られた。
これをオフセット印刷したところ、1万枚以上の良好な
印刷物が得られた。
印刷物が得られた。
実施例7
エステル化において、O−ニトロベンジルアルコールノ
代ワクKp−ニトロベンジルアルコールを用いた。その
他は実施例1と同様にしてp−二トロカルピノールスル
ホン酸エステル側d基を有する感光性重合物4.3JF
を得た。
代ワクKp−ニトロベンジルアルコールを用いた。その
他は実施例1と同様にしてp−二トロカルピノールスル
ホン酸エステル側d基を有する感光性重合物4.3JF
を得た。
この重合物を含む下記の塗布液を作成した。
テトラヒドロフラン 18.9
上記重合物 2.0fI9.10−ジメ
トキシ− 2−エチルアントラセン 0.4N(増感剤) これを実施例1と同様にして塗布、露光、現像を行い露
光部の溶出した印刷版を得た。これをオフセット印刷機
により印刷を行なったところ1万枚以上の印刷物を得た
。
トキシ− 2−エチルアントラセン 0.4N(増感剤) これを実施例1と同様にして塗布、露光、現像を行い露
光部の溶出した印刷版を得た。これをオフセット印刷機
により印刷を行なったところ1万枚以上の印刷物を得た
。
実施例8〜10のそれぞれにおいて実施例2〜4記eO
p−スチレンスルホニルクロライドとスチレンより得た
共重合体を、0−ニトロベンジルアルコールの代ワリに
p−ニトロベンジルアルコールを用いてエステル化し、
感光性重合体をえた。
p−スチレンスルホニルクロライドとスチレンより得た
共重合体を、0−ニトロベンジルアルコールの代ワリに
p−ニトロベンジルアルコールを用いてエステル化し、
感光性重合体をえた。
それぞれの重合物を含む下記組成の塗液を作成した。
テトラヒドロフラン 18.9
上記重合物 2.0g
9.10−ジメトキシ−
2−エチルアントラセン 0.2gこれを実施例
1と同様にして塗布、露光、現像を行い印刷版を得た。
1と同様にして塗布、露光、現像を行い印刷版を得た。
この場合は露光部は現像液に不溶であったが強い親水性
を示した。
を示した。
これをオフセット印刷機により印刷を行なった結果を表
−3に示す。
−3に示す。
表−3
実施例11〜13のそれぞれにおいて、実施例7で得ら
れた感光性重合物にそれぞれの増感剤を含む下記組成の
塗布液を作成した。
れた感光性重合物にそれぞれの増感剤を含む下記組成の
塗布液を作成した。
メチルエチルケト7 1811
上記重合物 2.O,S’増感剤
0.411 実施例11の増感剤: λ。=763nm 実施例12の増感剤: λ□=650nm 実施例13の増感剤: λ。”465 nm これに実施例1と同様にして塗布、乾燥した後、1 k
Wのハロゲンラングで70clIMの距離から実施例1
と同様に4分間露光した。続いてこの露光された板を3
チのリン酸三ナトリウムに2分間浸漬して現像を行い露
光部を溶出して印刷版を得た。
0.411 実施例11の増感剤: λ。=763nm 実施例12の増感剤: λ□=650nm 実施例13の増感剤: λ。”465 nm これに実施例1と同様にして塗布、乾燥した後、1 k
Wのハロゲンラングで70clIMの距離から実施例1
と同様に4分間露光した。続いてこの露光された板を3
チのリン酸三ナトリウムに2分間浸漬して現像を行い露
光部を溶出して印刷版を得た。
これをオフセット印刷機により印刷を行なったところ1
万枚以上の印刷物を得た。
万枚以上の印刷物を得た。
実施例14〜16の各々において、実施例2のp−スチ
レンスルホニルクロライトド、スチレンとを9:1のモ
ル分率比で仕込、重合して得た重合体3.OIにそれぞ
れのO−ニトロベンジルアルコール誘導体を化学量論的
量の3倍量加えて、エステル化を行わせ、感光性重合物
を得た。
レンスルホニルクロライトド、スチレンとを9:1のモ
ル分率比で仕込、重合して得た重合体3.OIにそれぞ
れのO−ニトロベンジルアルコール誘導体を化学量論的
量の3倍量加えて、エステル化を行わせ、感光性重合物
を得た。
0−ニトロペラトリルアルコール 9.0!
4.71実施例15: 2−ニトロベンズヒト−、ル 9.6
4.6実施例16: 2−ニトロ−4−メチルベンジル 7.0
4.2アルコール これに実施例1と同様にして塗布、露光、現像を施し、
露光部を溶出して印刷版を得た。
4.71実施例15: 2−ニトロベンズヒト−、ル 9.6
4.6実施例16: 2−ニトロ−4−メチルベンジル 7.0
4.2アルコール これに実施例1と同様にして塗布、露光、現像を施し、
露光部を溶出して印刷版を得た。
これをオフセット印刷機によシ印刷を行なったところ1
万枚以上の印刷物を得た。
万枚以上の印刷物を得た。
実施例17
実施例2の感光性重合物をテトラヒドロフランに溶解し
た後、銅箔を張合わせたプリント基板上に厚さ1μ(固
形層)の膜が出来るように塗布した。これに線画用マス
クを通して4分間の露光を施した。露光後、トリエタノ
ールアミン5部、水90部、ジオキサン5部よシなる現
像液に2分間浸漬することにより露光部を溶出させた。
た後、銅箔を張合わせたプリント基板上に厚さ1μ(固
形層)の膜が出来るように塗布した。これに線画用マス
クを通して4分間の露光を施した。露光後、トリエタノ
ールアミン5部、水90部、ジオキサン5部よシなる現
像液に2分間浸漬することにより露光部を溶出させた。
続いて露出した銅を塩化第二鉄水溶液により溶出させた
後、最後にジメチルアセトアミドを用いて残りの重合物
塗膜を除去すると必要な回路を持ったプリント基板が得
られた。
後、最後にジメチルアセトアミドを用いて残りの重合物
塗膜を除去すると必要な回路を持ったプリント基板が得
られた。
実施例18
(メタリルスルホニルクロライドの合成)メタリルスル
ホン酸ナトリウム10.71とハイドロキノン0.11
.Fとクロロホルム90.Fを混合し攪拌しなから0〜
5℃に冷却し、PCl518,9を少しずつ添加した。
ホン酸ナトリウム10.71とハイドロキノン0.11
.Fとクロロホルム90.Fを混合し攪拌しなから0〜
5℃に冷却し、PCl518,9を少しずつ添加した。
pct5の添加終了後液温を45〜50℃にあげ、2.
5時間攪拌を続けた。これを室温に戻し、反応液を濾過
した後、蒸溜により大部分のクロロホルムを留去した。
5時間攪拌を続けた。これを室温に戻し、反応液を濾過
した後、蒸溜により大部分のクロロホルムを留去した。
残液を分液ロートに移し、これに100.9のベンゼン
を加え、さらに約5oIIの水を加えてよく振って洗浄
し水相を捨てた。この水による洗浄を3回縁シ返した後
、ベンゼン層を分別してCa Ct 2を加え一夜放置
した。Ca CL 2を濾別し、ベンゼンを留去するこ
とにより無色透明なメタリルスルホニルクロライド7.
51を得た。
を加え、さらに約5oIIの水を加えてよく振って洗浄
し水相を捨てた。この水による洗浄を3回縁シ返した後
、ベンゼン層を分別してCa Ct 2を加え一夜放置
した。Ca CL 2を濾別し、ベンゼンを留去するこ
とにより無色透明なメタリルスルホニルクロライド7.
51を得た。
(重合)
窒素雰囲気下にラジカル重合開始剤としてのアゾイソブ
チルニトリルを用いて重合を行なった。
チルニトリルを用いて重合を行なった。
メタリルスルホニルクロライド7.0gと、アゾイソブ
チルニトリル0.211iと、スチレン0,52jlと
を、テトラヒドロフラン65.9に加えた後、窒素ガス
で雰囲気を置換した。その後液温を65℃に上げた後、
このままで8時間加熱を続けた。反応液を常温迄冷却し
た後、石油エーテル500CC中に反応液を注ぎ重合物
を沈澱させた。沈澱物を濾別した後、再びテトラヒドロ
フランに溶解しセキユニーチル中に注いで沈澱させる工
程を繰り返した。沈澱物を濾別した後乾燥し、淡黄色の
重合物5.42を得た。
チルニトリル0.211iと、スチレン0,52jlと
を、テトラヒドロフラン65.9に加えた後、窒素ガス
で雰囲気を置換した。その後液温を65℃に上げた後、
このままで8時間加熱を続けた。反応液を常温迄冷却し
た後、石油エーテル500CC中に反応液を注ぎ重合物
を沈澱させた。沈澱物を濾別した後、再びテトラヒドロ
フランに溶解しセキユニーチル中に注いで沈澱させる工
程を繰り返した。沈澱物を濾別した後乾燥し、淡黄色の
重合物5.42を得た。
(エステル化)
得られた重合物3.31Iを2011のテトラヒドロフ
ラyK溶解t、た後、0−ニトロベンジルアルコールを
化学量論的量03倍である9、2I加え、その後液温を
0〜5℃に冷却した。この溶液を激しく攪拌しなからカ
セイカリの10係水溶液16.8I(化学量論的量の1
.5倍)をゆっ〈9温度が上昇しないように気をつけな
がら滴下した。3時間攪拌を続けた後、反応液を弱い塩
酸性メタノールに注ぎエステル化物を沈澱させた。沈澱
物を濾別乾燥し、淡褐色の感光性重合物4.11を得た
。
ラyK溶解t、た後、0−ニトロベンジルアルコールを
化学量論的量03倍である9、2I加え、その後液温を
0〜5℃に冷却した。この溶液を激しく攪拌しなからカ
セイカリの10係水溶液16.8I(化学量論的量の1
.5倍)をゆっ〈9温度が上昇しないように気をつけな
がら滴下した。3時間攪拌を続けた後、反応液を弱い塩
酸性メタノールに注ぎエステル化物を沈澱させた。沈澱
物を濾別乾燥し、淡褐色の感光性重合物4.11を得た
。
(印刷版の製作)
この重合物をテトラヒドロフランに溶解し、砂目室てし
たアルミニウム板上に厚さ2μの層が残るように塗布し
た。この塗布乾燥された板の上に透明陽画像のフィルム
を真空密着させた後2kWの水銀灯で70副の距離から
4分間露光した。続いてこの露光された板を2チのメタ
珪酸水溶液に2分間浸漬し、露光部の塗布物を除去する
ことによシ平版印刷版を得た。
たアルミニウム板上に厚さ2μの層が残るように塗布し
た。この塗布乾燥された板の上に透明陽画像のフィルム
を真空密着させた後2kWの水銀灯で70副の距離から
4分間露光した。続いてこの露光された板を2チのメタ
珪酸水溶液に2分間浸漬し、露光部の塗布物を除去する
ことによシ平版印刷版を得た。
(印刷テスト)
得られた平版印刷版をオフセット印刷機にセ。
トシ、印刷を行なったところ1万枚以上の良好な印刷物
が得られた。
が得られた。
実施例19
(p−アリルベンゼンスルホニルクロライドの合成)p
−アリルベンゼンスルホン酸カリウムホルム140gを
混合し、この混合物を0〜5℃に冷却し、これにPCl
527 Nを少しずつ添加した。pct、の添加後、液
温を45〜50℃にあげ2.5時間攪拌を続けた。この
反応液を室温に戻した後、蒸溜により反応液中の大部分
のクロロホルムを留去した。残液を分液ロートに移し、
これに150Ilのベンゼンを加え、さらに約100.
9の水を加えてよく振って洗浄し、水相を捨てた。この
水による洗浄を3回繰り返した後、ベンゼン層を分別し
てCaCtzを加え一夜放置した。Ca CL 2を炉
別し、ベンゼンを留去することによシ無色透明なp−ア
リルベンゼンスルホニルクロライド15.5Sを得た。
−アリルベンゼンスルホン酸カリウムホルム140gを
混合し、この混合物を0〜5℃に冷却し、これにPCl
527 Nを少しずつ添加した。pct、の添加後、液
温を45〜50℃にあげ2.5時間攪拌を続けた。この
反応液を室温に戻した後、蒸溜により反応液中の大部分
のクロロホルムを留去した。残液を分液ロートに移し、
これに150Ilのベンゼンを加え、さらに約100.
9の水を加えてよく振って洗浄し、水相を捨てた。この
水による洗浄を3回繰り返した後、ベンゼン層を分別し
てCaCtzを加え一夜放置した。Ca CL 2を炉
別し、ベンゼンを留去することによシ無色透明なp−ア
リルベンゼンスルホニルクロライド15.5Sを得た。
(重合)
窒素雰囲気下にラジカル重合開始剤としてのアゾイソブ
チルニトリルを用いてp−アリルベンゼンスルホニルク
ロライドを重合した。p−アリルベンゼンスルホニルク
ロライド5゜51とアゾインブチルニトリル0.151
1とをテトラヒドロフラン50.9に加えた後、反応器
内空気を窒素ガスで置換した。その後液温を65℃に上
け、このままで8時間加熱を続けた。反応液を常温迄冷
却した後、n−ヘキサン500CC中に反応液を注ぎ重
合物を沈澱させた。沈澱物を濾別した後、これを再びテ
トラヒドロフランに溶解しn−ヘキサン中に注いで沈澱
させる工程を繰り返した。沈澱物を濾別した後乾燥し、
淡黄色の重合物ポリ−p−アリルベンゼンスルホニルク
ロライド3.8gを;Im。
チルニトリルを用いてp−アリルベンゼンスルホニルク
ロライドを重合した。p−アリルベンゼンスルホニルク
ロライド5゜51とアゾインブチルニトリル0.151
1とをテトラヒドロフラン50.9に加えた後、反応器
内空気を窒素ガスで置換した。その後液温を65℃に上
け、このままで8時間加熱を続けた。反応液を常温迄冷
却した後、n−ヘキサン500CC中に反応液を注ぎ重
合物を沈澱させた。沈澱物を濾別した後、これを再びテ
トラヒドロフランに溶解しn−ヘキサン中に注いで沈澱
させる工程を繰り返した。沈澱物を濾別した後乾燥し、
淡黄色の重合物ポリ−p−アリルベンゼンスルホニルク
ロライド3.8gを;Im。
(エステル化)
得られた重合物3.21を171のテトラヒドロフラン
に溶解した後、この溶液に0−ニトロベンジルアルコー
ル6.8.9(化学量論的量の3倍)を加え、その後液
温を0〜5℃に冷却する。この溶液を激しく攪拌しなが
ら、カセイカリの10チ水浴液8.3.f(化学量論的
量の1.5倍)をゆっくり温度が上昇しないように気を
つけながら滴下した。
に溶解した後、この溶液に0−ニトロベンジルアルコー
ル6.8.9(化学量論的量の3倍)を加え、その後液
温を0〜5℃に冷却する。この溶液を激しく攪拌しなが
ら、カセイカリの10チ水浴液8.3.f(化学量論的
量の1.5倍)をゆっくり温度が上昇しないように気を
つけながら滴下した。
3時間攪拌を続けた後、反応液を弱い塩酸性メタノール
に注ぎエステル化物を沈澱させた。沈澱物を濾別乾燥し
、淡褐色の感光性重合物3.7Iを得た。
に注ぎエステル化物を沈澱させた。沈澱物を濾別乾燥し
、淡褐色の感光性重合物3.7Iを得た。
(平版印刷版の製作)
上記感光性重合物をテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液を砂目立てしたアルミニウム板上に厚さ2μの固形
層が残るように塗布した。この塗布乾燥された板の上に
透明陽画像のフィルムを真離から4分間露光した。続い
てこの露光された板を2俤のメタ珪酸水溶液に2分間浸
漬し、露光部の塗布層を除去することにより平版印刷版
を得た。
溶液を砂目立てしたアルミニウム板上に厚さ2μの固形
層が残るように塗布した。この塗布乾燥された板の上に
透明陽画像のフィルムを真離から4分間露光した。続い
てこの露光された板を2俤のメタ珪酸水溶液に2分間浸
漬し、露光部の塗布層を除去することにより平版印刷版
を得た。
(印刷テスト)
得られた平版印刷版をオフセット印刷機にセットし、印
刷を行なったところ2万枚以上の良好な印刷物が得られ
た。
刷を行なったところ2万枚以上の良好な印刷物が得られ
た。
実施例20〜21
実施例20〜21の各々において実施例2のp−スチレ
ンスルホニルクロライトド、スチレントを9:1のモル
分率比で仕込み、重合して得た重合体3.OfIに、下
記0−ニトロカルビノール誘導体を下記のように化学量
論的量の3倍量加えて、エステル化を行わせ、下記収量
の感光性重合物を得た。
ンスルホニルクロライトド、スチレントを9:1のモル
分率比で仕込み、重合して得た重合体3.OfIに、下
記0−ニトロカルビノール誘導体を下記のように化学量
論的量の3倍量加えて、エステル化を行わせ、下記収量
の感光性重合物を得た。
メチルナフタレン 8.6113.9NIf
21:1−ニトロ−2ヒドロキシメチルアントラキ
ノン 11.3 3.8これに実施例1と同様に
して塗布、露光・現像を施し、露光部を溶出して印刷版
を得た。これをオフセット印刷機により印刷を行なった
とζろ1万枚以上の良好印刷物を得ることができた。
21:1−ニトロ−2ヒドロキシメチルアントラキ
ノン 11.3 3.8これに実施例1と同様に
して塗布、露光・現像を施し、露光部を溶出して印刷版
を得た。これをオフセット印刷機により印刷を行なった
とζろ1万枚以上の良好印刷物を得ることができた。
本発明により、感光性が良好で、露光によりアルカリ可
溶性ないしアルカリ不溶性、高親水性化合物に変化する
ととができ、貯蔵性の良好な、かつ、応用範囲の広いポ
ジ型感光性樹脂を得ることができる。
溶性ないしアルカリ不溶性、高親水性化合物に変化する
ととができ、貯蔵性の良好な、かつ、応用範囲の広いポ
ジ型感光性樹脂を得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリオレフィン性主鎖と、それに結合している側鎖
とを有する重合体を主成分として含み、前記側鎖の少な
くとも一部が下記一般式( I ):▲数式、化学式、表
等があります▼( I ) 〔但し、上式( I )中、Rは置換された、および、置
換されていない2価ベンゼン環基、並びに、炭素原子数
1〜8のアルキレン基およびアルアルキレン基から選ば
れた一員を表わし、Xは、水素原子、置換された、およ
び、置換されていない、炭素原子数1〜8のアルキル基
、および、アラルキル基、置換された、および、置換さ
れていない、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、並びに
、置換された、および置換されていないアリール基から
選ばれた一員を表わし、Aは、少なくとも1個のニトロ
基を有し、その他の置換基を有する、又は有しない、炭
素原子数6〜14の芳香族環基を表わす〕により表わさ
れる、少なくとも1種の芳香族ニトロカルビノールスル
ホン酸エステル基からなる、ことを特徴とするポジ量感
光性樹脂。 2、前記重合体が500以上の分子量を有する、特許請
求の範囲第1項記載の感光性樹脂。 3、前記一般式( I )の芳香族ニトロカルビノールス
ルホン酸エステル基が下記一般式(II)および(III)
:▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化
学式、表等があります▼(III) 〔但し上式(II)および(III)中R、およびXは、前
記規定の通りであり、Bは、炭素原子数6〜14の芳香
族環構造を補完している、置換された、又は、置換され
ていない炭化水素グループを表わす〕のo−およびp−
ニトロカルビノールスルホン酸エステル基から選ばれる
、特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂。 4、前記重合体中の、前記一般式( I )の側鎖の含有
率が20〜100モル%である、特許請求の範囲第1項
記載の感光性樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9200187A JPS63257750A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | ポジ型感光性樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9200187A JPS63257750A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | ポジ型感光性樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63257750A true JPS63257750A (ja) | 1988-10-25 |
Family
ID=14042180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9200187A Pending JPS63257750A (ja) | 1987-04-16 | 1987-04-16 | ポジ型感光性樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63257750A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0869394A1 (en) * | 1997-04-03 | 1998-10-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic original plate |
US6017677A (en) * | 1997-01-24 | 2000-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
-
1987
- 1987-04-16 JP JP9200187A patent/JPS63257750A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6017677A (en) * | 1997-01-24 | 2000-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
EP0869394A1 (en) * | 1997-04-03 | 1998-10-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic original plate |
US6007964A (en) * | 1997-04-03 | 1999-12-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic original plate |
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