JPS6039214B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JPS6039214B2 JPS6039214B2 JP52109778A JP10977877A JPS6039214B2 JP S6039214 B2 JPS6039214 B2 JP S6039214B2 JP 52109778 A JP52109778 A JP 52109778A JP 10977877 A JP10977877 A JP 10977877A JP S6039214 B2 JPS6039214 B2 JP S6039214B2
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- Japan
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- photosensitive composition
- parts
- composition according
- photosensitive
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性物質としてｏ−ナフトキノンジアジド
化合物並びにハロゲンを有し酸を解離する感光性化合物
及び染料を含有し、既に光に露出後オリジナルに相応す
る明らかな画像が認められる感光性組成物に関する。
化合物並びにハロゲンを有し酸を解離する感光性化合物
及び染料を含有し、既に光に露出後オリジナルに相応す
る明らかな画像が認められる感光性組成物に関する。
ドイツ特許第８５４８９ぴ号及び第９３８２３３号明細
書からは、例えばプリセンシタィズ印刷原板の製造に感
光性物質として、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
化合物を使用することは公知である。
書からは、例えばプリセンシタィズ印刷原板の製造に感
光性物質として、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
化合物を使用することは公知である。
しかしながらか〉るセンシタィズ層は、黄色のナフトキ
ノン−（１，２）ージアジド層は光に露出すると腿色し
た黄色の光の分解生成物を生じ、光で分解されない層の
部分（画像個所）は、光の分解生成物（非画像個所）か
ら辛うじて区別し得るのに過ぎない欠点を有する。実際
にこれによって、殊に単一の透明陽画を、例えばラベル
を印刷する際印刷原板に数回投影するいわゆるコンポー
ザで露出する場合に不十分な複写が屡々生じる。殊に製
版室で感光性印刷原板を処理するのに必要な黄色の光を
考慮る場合、露出後の印刷原板上の原像個所と非画像個
所との間のコントラストが不十分であるので、例えば正
確でかつまた場所を省く原板を重ね合わす作業をするの
は極めて困難である。既にこの欠点を、例えば着色有機
指示薬染料を感光性層に均一に添加することにより除去
することが提案されており、この染料によって色がｐＨ
２．５〜６．５の範囲内で変化する（ドイツ公開特許第
１４４７０１１号明細書参照）。
ノン−（１，２）ージアジド層は光に露出すると腿色し
た黄色の光の分解生成物を生じ、光で分解されない層の
部分（画像個所）は、光の分解生成物（非画像個所）か
ら辛うじて区別し得るのに過ぎない欠点を有する。実際
にこれによって、殊に単一の透明陽画を、例えばラベル
を印刷する際印刷原板に数回投影するいわゆるコンポー
ザで露出する場合に不十分な複写が屡々生じる。殊に製
版室で感光性印刷原板を処理するのに必要な黄色の光を
考慮る場合、露出後の印刷原板上の原像個所と非画像個
所との間のコントラストが不十分であるので、例えば正
確でかつまた場所を省く原板を重ね合わす作業をするの
は極めて困難である。既にこの欠点を、例えば着色有機
指示薬染料を感光性層に均一に添加することにより除去
することが提案されており、この染料によって色がｐＨ
２．５〜６．５の範囲内で変化する（ドイツ公開特許第
１４４７０１１号明細書参照）。
米国特許第３６６９６５８号明細書には異なる方法が記
載されており、この方法ではｏ−キノンジアジド又はナ
フトキノンジアジド‘まロィコ染料と一緒になって露出
後に露出個所に着色画像を生ぜしめる。しかしながらこ
れらの層は、多くの場合得られた画像のコントラストは
実際にまだ不十分であり、引続く現像で再び消失する欠
点を有する。ドイツ公開特許第２３３１３７７号明細書
には、露出すると色の変化をうけかつまた感光性成分は
ｏ−ナフトキノンジアジド−４ースルホン酸の塩化物を
含有する複写層が記載されており、適当な染料と一緒に
これによって化学光線への露出後並びに現像後にはっき
りと見分けることができかつ持続する画像のコントラス
トが得られる。
載されており、この方法ではｏ−キノンジアジド又はナ
フトキノンジアジド‘まロィコ染料と一緒になって露出
後に露出個所に着色画像を生ぜしめる。しかしながらこ
れらの層は、多くの場合得られた画像のコントラストは
実際にまだ不十分であり、引続く現像で再び消失する欠
点を有する。ドイツ公開特許第２３３１３７７号明細書
には、露出すると色の変化をうけかつまた感光性成分は
ｏ−ナフトキノンジアジド−４ースルホン酸の塩化物を
含有する複写層が記載されており、適当な染料と一緒に
これによって化学光線への露出後並びに現像後にはっき
りと見分けることができかつ持続する画像のコントラス
トが得られる。
しかしながら欠点は、前述の組成の複写層及び一定の支
持体、例えばワイヤ一でブラッシングしたアルミニウム
よりなる印刷原板から製造し現像後に露出した印刷型に
よっては、比較し得る標準条件下に製造しかつ画像のコ
ントラストをもたらす前記添加物を含有しない複写層で
得られるよりもわずかな版が得られることである。それ
故、本発明の目的は、例えば印刷原板、導体画像、シル
クスクリン型又は耐食膜を製造するために、前記欠点を
有せずオリジナル下で露出後にこの種の常用の複写材で
よりもコントラストに富んだオルジナルの複写を示し、
かつまたアルカリ性溶液で現像後にコントラストに富ん
だ前述の感光性複写層を得ることである。
持体、例えばワイヤ一でブラッシングしたアルミニウム
よりなる印刷原板から製造し現像後に露出した印刷型に
よっては、比較し得る標準条件下に製造しかつ画像のコ
ントラストをもたらす前記添加物を含有しない複写層で
得られるよりもわずかな版が得られることである。それ
故、本発明の目的は、例えば印刷原板、導体画像、シル
クスクリン型又は耐食膜を製造するために、前記欠点を
有せずオリジナル下で露出後にこの種の常用の複写材で
よりもコントラストに富んだオルジナルの複写を示し、
かつまたアルカリ性溶液で現像後にコントラストに富ん
だ前述の感光性複写層を得ることである。
本発明は、ｏーナフトキノンジアジドスルホン酸又はカ
ルポン酸のェステル又はアミド及び−この化合物の軍に
対して一塩を形成し得る有機染料１〜５の重量％及びハ
ロゲンを有し露出すると酸を解離する感光性ジアゾニウ
ム化合物５〜７５重量％よりなる感光性組成物をもとと
する。
ルポン酸のェステル又はアミド及び−この化合物の軍に
対して一塩を形成し得る有機染料１〜５の重量％及びハ
ロゲンを有し露出すると酸を解離する感光性ジアゾニウ
ム化合物５〜７５重量％よりなる感光性組成物をもとと
する。
本発明による複写層は、ハロゲンを有するジアゾニゥム
化合物は一般式：〔式中Ｒａは水素、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、アリール、アリールメルカプト、アリ
−ルオキシ、アリールアミ ノ又はペンゾィルアミノ基を表わ し、 Ｒｂ及びＲｃは水素、アルキル、アルコキシ、アリール
オキシ、アリールメルカプト又はアリールメルカプトを
表わし、 ＡはＰＦ６，ＢＦ４，ＡＳＦ６，Ｓ〇ＣＩ６，ＳｎＣｉ
６，ＢｉＣ１５，ＺｎＣ１４又はＳｂＦ６を表わし、ｘ
は１又は２であり、Ｒａ及びＲｃは同時に水素を表わさ
ない。
化合物は一般式：〔式中Ｒａは水素、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、アリール、アリールメルカプト、アリ
−ルオキシ、アリールアミ ノ又はペンゾィルアミノ基を表わ し、 Ｒｂ及びＲｃは水素、アルキル、アルコキシ、アリール
オキシ、アリールメルカプト又はアリールメルカプトを
表わし、 ＡはＰＦ６，ＢＦ４，ＡＳＦ６，Ｓ〇ＣＩ６，ＳｎＣｉ
６，ＢｉＣ１５，ＺｎＣ１４又はＳｂＦ６を表わし、ｘ
は１又は２であり、Ｒａ及びＲｃは同時に水素を表わさ
ない。
〕のジアゾニウム塩であることを特徴とする。
すぐれた実施形式では、複写層はｏ−ナフトキノンジア
ジドの重量に対して、ジアゾニウム塩１０〜４の重量％
及び染料３〜３の重量％を含有する。
ジドの重量に対して、ジアゾニウム塩１０〜４の重量％
及び染料３〜３の重量％を含有する。
本発明による感光性組成物中に存在するジアゾニゥム塩
は、光に露出すると光分解によって分解し、引続く反応
で染料と反応して色変化を生ぜしめるので、化学光線に
露出後に露出画像個所と非露出画像個所との間に著しい
コントラストが得られる。更に光にあたらない着色個所
は使用すべき現像剤に耐性であるので、現像後にさえも
強いコントラストを有するオリジナルの着色した複写が
維持される。一般式のジアゾニウム塩としては、利用し
得る吸収値３００〜６０物帆を有するジアゾ印刷で公知
の化合物を使用することができる。
は、光に露出すると光分解によって分解し、引続く反応
で染料と反応して色変化を生ぜしめるので、化学光線に
露出後に露出画像個所と非露出画像個所との間に著しい
コントラストが得られる。更に光にあたらない着色個所
は使用すべき現像剤に耐性であるので、現像後にさえも
強いコントラストを有するオリジナルの着色した複写が
維持される。一般式のジアゾニウム塩としては、利用し
得る吸収値３００〜６０物帆を有するジアゾ印刷で公知
の化合物を使用することができる。
酸を解離する感光性化合物の１部分として、本発明によ
る複写層で使用するのに好適なジアゾニウム塩の例は、
次のをのである：４ーアルコキシ−ベンゼン、４ークロ
ルー２，５ージアルコキシ−ベンゼン、４ーベンゾイル
アミノーベンゼン、４ーベンゾイルアミノ−２，５−ジ
アルコキシーベンゼン、４ーアリ−ルアミノ−ベンゼン
、４−アルキルメルカプトーベンゼン、４ーアリールメ
ルカプトーベンゼン、４−アルキルメルカプト−２，５
ージアルコキシーベンゼン、及び４ーアリールオキシー
２，５−ジアルコキシーベンゼンジアゾニウム塩確証さ
れかつまた経験から明らかなように十分な保存性を有す
る若干のジアゾニウム化合物が実施例に記載されてる：
談化合物は好ましくは有機溶剤に可溶のその塩、特に複
合酸とのその塩、例えばテトラフルオルボレート、ヘキ
サフルオルホスフェート又はへキサフルオルアルセネー
トの形で使用される。
る複写層で使用するのに好適なジアゾニウム塩の例は、
次のをのである：４ーアルコキシ−ベンゼン、４ークロ
ルー２，５ージアルコキシ−ベンゼン、４ーベンゾイル
アミノーベンゼン、４ーベンゾイルアミノ−２，５−ジ
アルコキシーベンゼン、４ーアリ−ルアミノ−ベンゼン
、４−アルキルメルカプトーベンゼン、４ーアリールメ
ルカプトーベンゼン、４−アルキルメルカプト−２，５
ージアルコキシーベンゼン、及び４ーアリールオキシー
２，５−ジアルコキシーベンゼンジアゾニウム塩確証さ
れかつまた経験から明らかなように十分な保存性を有す
る若干のジアゾニウム化合物が実施例に記載されてる：
談化合物は好ましくは有機溶剤に可溶のその塩、特に複
合酸とのその塩、例えばテトラフルオルボレート、ヘキ
サフルオルホスフェート又はへキサフルオルアルセネー
トの形で使用される。
特に適当な化合物は、一般式において、
Ｒａはアリールメルカプト、ベンゾイルアミノ又はアル
コキシフェニル基を表わし、Ｒｂ及びＲｃはアルコキシ
基、特にェトキシ基を表わし、ＡはＰＦ６，ＢＦ４又は
ＡｓＦ６を表わすものである。
コキシフェニル基を表わし、Ｒｂ及びＲｃはアルコキシ
基、特にェトキシ基を表わし、ＡはＰＦ６，ＢＦ４又は
ＡｓＦ６を表わすものである。
本発明で使用する適当な染料は、殊にトリフェニルメタ
ン群からの塩基性染料、即ちトリフェニルメタンからフ
ェニル基をＮ比−、ＯＨ−、ＨＳ０３−基又は他の基又
は原子で置換することによって誘導されるか又はアジン
、例えばフェナジン、オキサジン群からの染料又はアン
トラキノン群からの染料、即ちアントラキノンから誘導
される染料（その際発色団は＞ｃ＝亘及び＞ｃ＝ｃく）
、例えばクリスタルバイオレット（４２５５５）、メチ
ルバイオレットが（４２、５３５）、マラカイトグリー
ン（４２０００）、フクシン（４２５１０）、クリスタ
ルバイオレット（カルビノ−ル基質）（４２５５５：１
）、パラフクシン（４２５００）、スダンブルーＧ（６
１５２０）、アシランブリリアントブルー斑（４２７４
０）、アシランバイオレットＳ位Ｎ（４２６４０）、ア
ストラジアモンドグリーワＧＸ（４２０４０）、ロダミ
ン（４５１７０）、サマ。ンブルーＧＳＬ（６２５００
）、ビクトリアブルーＢ（４４０４５）、アリザリンダ
イレクトブルー（６２０５５）、ビクトリアピエアブル
−ＢＯＤ（４２５９５）、ブリリアワトグリーン（４２
０４０）、ナイルブルーＢＸ（５１１８５）、ニュート
ラルレッド（５００４０）及びロデュリンピュアブル−
匁（５１００４）である。かっこの中の数字は染料を同
定するために、“カラー・インデックス（ＣｏｌｏｍＩ
ｎｄｅｘ）’’〔第３版、１９７１年、ロンドン〕で使
用されるＣ．１．構成数である。
ン群からの塩基性染料、即ちトリフェニルメタンからフ
ェニル基をＮ比−、ＯＨ−、ＨＳ０３−基又は他の基又
は原子で置換することによって誘導されるか又はアジン
、例えばフェナジン、オキサジン群からの染料又はアン
トラキノン群からの染料、即ちアントラキノンから誘導
される染料（その際発色団は＞ｃ＝亘及び＞ｃ＝ｃく）
、例えばクリスタルバイオレット（４２５５５）、メチ
ルバイオレットが（４２、５３５）、マラカイトグリー
ン（４２０００）、フクシン（４２５１０）、クリスタ
ルバイオレット（カルビノ−ル基質）（４２５５５：１
）、パラフクシン（４２５００）、スダンブルーＧ（６
１５２０）、アシランブリリアントブルー斑（４２７４
０）、アシランバイオレットＳ位Ｎ（４２６４０）、ア
ストラジアモンドグリーワＧＸ（４２０４０）、ロダミ
ン（４５１７０）、サマ。ンブルーＧＳＬ（６２５００
）、ビクトリアブルーＢ（４４０４５）、アリザリンダ
イレクトブルー（６２０５５）、ビクトリアピエアブル
−ＢＯＤ（４２５９５）、ブリリアワトグリーン（４２
０４０）、ナイルブルーＢＸ（５１１８５）、ニュート
ラルレッド（５００４０）及びロデュリンピュアブル−
匁（５１００４）である。かっこの中の数字は染料を同
定するために、“カラー・インデックス（ＣｏｌｏｍＩ
ｎｄｅｘ）’’〔第３版、１９７１年、ロンドン〕で使
用されるＣ．１．構成数である。
露出層の所望の画像に応じた色のコントラストは、この
中に含まれた染料が赤色、青色又は緑の場合に最も明瞭
である。それ故か）る染料を使用するのが好ましい。複
写層中に含まれた感光性物質は、前記キノンジァジド化
合物の１種以上からなる。
中に含まれた染料が赤色、青色又は緑の場合に最も明瞭
である。それ故か）る染料を使用するのが好ましい。複
写層中に含まれた感光性物質は、前記キノンジァジド化
合物の１種以上からなる。
これらの化合物の製造は、例えばドイツ特許第８５４８
９ぴ号、第８６５１０叫号、第８７９２０３号、第８９
４９５９号、第９３８２３３号、第１１０９５２１号、
第１１１４７０５号、第１１１８６０６号、第１１２０
２７３号、第１１２４８１７号及び第１５４３７２１号
明細書に記載されている。本発明による複写層は通常感
光性層に存在する常用の添加剤、例えば樹脂及び可塑剤
その他を含有していてもよい。樹脂の含量は著しく大き
くてもよく、例えばｏ−ナフトキノンジアジド化合物の
全含量の数百％であってもよい。通常アルカリ性水溶液
に可溶の樹脂、殊にノボラックが優れている。複写層の
支持体としては、複写法で常用のもの、例えば適当に前
処理した表面を有する金属プレート又はシート、例えば
アルミニウム又は亜鉛；多重金属プレート、例えば、ク
ロム／銅、クロム／銅／アルミニウム、クロム／銅／亜
鋼；又は紙、プラスチックフィルム、シルクスクリーン
印刷に適当な織物又は金属化絶縁材プレートを使用する
ことができる。
９ぴ号、第８６５１０叫号、第８７９２０３号、第８９
４９５９号、第９３８２３３号、第１１０９５２１号、
第１１１４７０５号、第１１１８６０６号、第１１２０
２７３号、第１１２４８１７号及び第１５４３７２１号
明細書に記載されている。本発明による複写層は通常感
光性層に存在する常用の添加剤、例えば樹脂及び可塑剤
その他を含有していてもよい。樹脂の含量は著しく大き
くてもよく、例えばｏ−ナフトキノンジアジド化合物の
全含量の数百％であってもよい。通常アルカリ性水溶液
に可溶の樹脂、殊にノボラックが優れている。複写層の
支持体としては、複写法で常用のもの、例えば適当に前
処理した表面を有する金属プレート又はシート、例えば
アルミニウム又は亜鉛；多重金属プレート、例えば、ク
ロム／銅、クロム／銅／アルミニウム、クロム／銅／亜
鋼；又は紙、プラスチックフィルム、シルクスクリーン
印刷に適当な織物又は金属化絶縁材プレートを使用する
ことができる。
本発明による組成物によって、長年確証されている正で
操作する複写層を露出によって露出個所で明瞭な色変化
を維持することが可能となるが、複写層はこの中に含ま
れている染料によって十分に固有の色を有し、これによ
って黄色の照明下でさえも非露出個所とくつきりと対照
をなすコントラストに富んだ画像が得られる。
操作する複写層を露出によって露出個所で明瞭な色変化
を維持することが可能となるが、複写層はこの中に含ま
れている染料によって十分に固有の色を有し、これによ
って黄色の照明下でさえも非露出個所とくつきりと対照
をなすコントラストに富んだ画像が得られる。
露出部分をアルカリ性現像剤で除去した後にさえも、な
おオリジナルに相応するコントラストに富んだ型が得ら
れる。
おオリジナルに相応するコントラストに富んだ型が得ら
れる。
これによって、通常現像後に除去又は補正しなければな
らない一緒に写したフィルムの縁及び身分証明書はより
明瞭になる。それ故、フィルムをより明瞭にするために
一緒に写したフィルムの縁を着色する必要はない。本発
明によって製造した複写層のもう１つの利点は、極端な
、例えば熱帯性条件下でもその優れた保存性並びに現像
後に光に露出した印刷型を使用する場合かえの印刷版の
安定性である。本発明に使用され光に露出すると酸を解
離するハロゲンを有する化合物は、西ドイツ国有鉄道の
鉄道運輸条例付則Ｃの危険物部門皿（可燃物）の分類で
示されるように比較的安定な化合物であり、それ故該化
合物は従来この目的に使用された若干の化合物よりも広
い使用範囲を有する。次に実施例につき本発明を説明す
る。
らない一緒に写したフィルムの縁及び身分証明書はより
明瞭になる。それ故、フィルムをより明瞭にするために
一緒に写したフィルムの縁を着色する必要はない。本発
明によって製造した複写層のもう１つの利点は、極端な
、例えば熱帯性条件下でもその優れた保存性並びに現像
後に光に露出した印刷型を使用する場合かえの印刷版の
安定性である。本発明に使用され光に露出すると酸を解
離するハロゲンを有する化合物は、西ドイツ国有鉄道の
鉄道運輸条例付則Ｃの危険物部門皿（可燃物）の分類で
示されるように比較的安定な化合物であり、それ故該化
合物は従来この目的に使用された若干の化合物よりも広
い使用範囲を有する。次に実施例につき本発明を説明す
る。
例中１容量部は１の【であり、１重量部は１夕である。
例１２，３，４−トリヒド。
例１２，３，４−トリヒド。
キシーベンゾフエノン１モルとナフトキノン
−（１，２）−ジアジド−（２）−
５−スルホン酸の塩化物３モルとの
ェステル化生成物 ０．６重量部２
，２′−ジヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−スルホン酸の塩化物２モ ルとのェステル化生成物 ０．４重量部ク
レゾール／ホルムアルデヒド／ノボラック〔毛管実験法
、ドイツ工 業規格（ＤＩＮ）５３１８１による軟化 点：１０５〜１２０℃〕 ６．４５
重量部クリスタルバイオレット（Ｃ．１．Ｎｏ．４２５
５５） ０．１紅重量部４
−（ｐ−トリルメルカプト）−２，５−ジエトキシ−ベ
ンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．３の重量部
を、次のものよりなる溶剤混合物にとかす：エチレング
リコ一ルモノメチルエーテル
８坪容量部酢酸ブチル
１接客量部ブラッシングによる粗面化アルミニウム
シートに、この溶液を被覆する。
，２′−ジヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−スルホン酸の塩化物２モ ルとのェステル化生成物 ０．４重量部ク
レゾール／ホルムアルデヒド／ノボラック〔毛管実験法
、ドイツ工 業規格（ＤＩＮ）５３１８１による軟化 点：１０５〜１２０℃〕 ６．４５
重量部クリスタルバイオレット（Ｃ．１．Ｎｏ．４２５
５５） ０．１紅重量部４
−（ｐ−トリルメルカプト）−２，５−ジエトキシ−ベ
ンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．３の重量部
を、次のものよりなる溶剤混合物にとかす：エチレング
リコ一ルモノメチルエーテル
８坪容量部酢酸ブチル
１接客量部ブラッシングによる粗面化アルミニウム
シートに、この溶液を被覆する。
こうして得られた感光性印刷原板は、著しく濃青色に着
色した複写層を有する。
色した複写層を有する。
透明陽画下に光に対するその露出後に、層の非露出個所
は著しい青色であるが、層の露出個所は薄に色か又は殆
んど無色に過ぎない。このようにしてオリジナルの画像
が、黄色の光でさえも細かにはっきりと見分け得る良好
なコントラストで認められる。印刷版を製作するために
、露光した印刷原板を常法で〆タ珪酸ナトリウム・餌２
０ ５．丸重量部オルト燐酸ナトリウム・１２Ｌ
０ ３．４重量部燐酸＝水素ナトリウム（無水）
０．立重量部水 ９１
容量部よりなる溶液で現像し、その際露出層個所を除去
する。
は著しい青色であるが、層の露出個所は薄に色か又は殆
んど無色に過ぎない。このようにしてオリジナルの画像
が、黄色の光でさえも細かにはっきりと見分け得る良好
なコントラストで認められる。印刷版を製作するために
、露光した印刷原板を常法で〆タ珪酸ナトリウム・餌２
０ ５．丸重量部オルト燐酸ナトリウム・１２Ｌ
０ ３．４重量部燐酸＝水素ナトリウム（無水）
０．立重量部水 ９１
容量部よりなる溶液で現像し、その際露出層個所を除去
する。
残る非露出層個所は、無色の背景に対して十分なコント
ラストで見分けることができる。次の例２〜例８の方法
は例１の方法と同じであり、得られた感光性印刷原板の
露出後、現像の前及び後にも画像のコントラストに対し
て同じ結果が得られる。それ故次例では多くの場合被覆
溶液の成分及び使用せる支持体の種類を記載するのに過
ぎず、機に応じて短かし、注を付けるのに過ぎない。例
２ 被覆液： ２，４ージヒドロキシ−ペンゾフ エノン１モルとナフトキノン− （１，２）ージアジド−（２）−５ −スルホン酸の塩化物２モルとのェ ステル化生成物 １．２０重量部
２，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−
メタン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．７０重量部 フェノールノホルムアルデヒド／ ノボラック〔ＯＨ基の含量：１４重量 ％；毛細実験法、ドイツ工業規格 （ＤＩＮ）５３１８１による軟化点１１０〜１２０℃〕
４．８の重量部ポリ
ビニルブチラール ０．２の重量部アストラ
ジアモンドグリーンＧＸ（Ｃ．１．恥．４２０４０）
０．１５重量部４−（ｐ−トリルメ
ルカプト）一２，５−ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．３の重量部
例１による溶剤混合物 ９接客量部複写層
支持体：クロムメッキアルミニウムシート例３ 被覆液： ２，４ージヒド。
ラストで見分けることができる。次の例２〜例８の方法
は例１の方法と同じであり、得られた感光性印刷原板の
露出後、現像の前及び後にも画像のコントラストに対し
て同じ結果が得られる。それ故次例では多くの場合被覆
溶液の成分及び使用せる支持体の種類を記載するのに過
ぎず、機に応じて短かし、注を付けるのに過ぎない。例
２ 被覆液： ２，４ージヒドロキシ−ペンゾフ エノン１モルとナフトキノン− （１，２）ージアジド−（２）−５ −スルホン酸の塩化物２モルとのェ ステル化生成物 １．２０重量部
２，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−
メタン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．７０重量部 フェノールノホルムアルデヒド／ ノボラック〔ＯＨ基の含量：１４重量 ％；毛細実験法、ドイツ工業規格 （ＤＩＮ）５３１８１による軟化点１１０〜１２０℃〕
４．８の重量部ポリ
ビニルブチラール ０．２の重量部アストラ
ジアモンドグリーンＧＸ（Ｃ．１．恥．４２０４０）
０．１５重量部４−（ｐ−トリルメ
ルカプト）一２，５−ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．３の重量部
例１による溶剤混合物 ９接客量部複写層
支持体：クロムメッキアルミニウムシート例３ 被覆液： ２，４ージヒド。
キシーベンゾフエノン１モルとナフトキノンー
（１，２）ジアジド−（２）一５ー
スルホン酸の塩化物２モルとのェス
テル化生成物 ０．６の重量部
２，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−
メタン１モルとナ フトキノン−（１，２）ージアジド ー（２）−５ースルホン酸の塩化物 ２モルとのヱステル化生成物 ０．４の重量部 ノボラツク（例１におけるもの） ６．４の重量部サマ
ロンフルーＧＳＬ（Ｃ．１．Ｍ．６２５００）
０．１５重量部４一（ｐートリル
メルカプト）一２，５−ジエトキシーベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルボレート ０．４の重量部 例１による溶剤混合物 ９泣き量部複写層
支持体：ブラッシングによる粕面化アルミニウムシート
例４被覆液： ナフトキノンー（１，２）ージア ジドー（２）−４ースルホン酸のｐ ークミルベンゾールエステル ０．９の重量部 ２，２′−ジヒドロキシージナフチ ルー（１，１）ーメタン１モルとナ フトキノン−（１，２）ージアジド −（２）−５ースルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 １．０の重量部 ／ボラツク（例２におけるもの） ５．０の重量部ポリ
ビニルブチラール ０．２の重量部ブリリア
ントグリーン（Ｃ．１．Ｎｏ．４２０４０）０．１５重
量部４ーベンゾイルアミノー２，５ー ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオルホスフエート ０．３の重量部 例１による溶剤混合物 ９接客量部複写層
支持体：ブラシングによる粗面化アルミニウムシート例
５ 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシ−ペ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）ージアジドー（２）一 ５ースルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．９の重量部２
，２ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メタ
ン１モルとナ フトキノンー（１，２）−ジアジド ー（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．６の重量部 ノボラツク（例１におけるもの） ５．４の重量部クリ
スタルバイオレットベース（Ｃ．１．Ｍ．４２５５５：
１） ０．０５重量部４一（４′−ヱ
トキシーフエニル）一２，５ージエトキシ−ベンゼンジ アゾニウムヘキサフルオルホスフエ ート ０．１５重量部
燐酸トリー（Ｂークロルェチル）−ェステル
０．５の重量部例１による溶剤混合物
９球容量部複写層支持体：電解により粕
面化した陽極酸化処理アルミニウムシート例６ 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシーベ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）−ジアジド−（２）一 ５−スルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．９の重量部２
，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノンー（１，２）−ジアジド −（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．０重量部 ノボラック（例１におけるもの） ５．３の重量部ビク
トリアブルーＢ（Ｃ．１．Ｎｏ．４４０４５）
０．０紅重量部４一（ｐ−トリル
メルカプト）一２，５−ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルボレー ０．３の重量部 燐酸トリー（８ークロルェチル） −ェステル ０．５の重量部例
１による溶剤 ９朝容量部複写層支
持体：電解により粗面化した陽極酸化処理アルミニウム
シート例７ ． 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシーベ ンゾフヱノン１モルとナフトキノン ー（１，２）−ジアジド−（２）− ５ースルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．６の重量部２
，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−６ースルホン酸の塩化物 ２モルとのヱステル化生成物 ０．４の重量部 クレゾール／ホルムアルデヒド／ ノボラツク（例１におけるもの） ６．４５重量部 クリスタルノゞイオレツトベース （Ｃ．１．船．４２５５５：１） ０
．１４重量部４一（ｐートリルメルカプト）−２，５−
ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルアルセネー ト ０．３５重量部
例１による溶剤混合物 ９＆容量部複写層
支持体：ブラシングによる粗面化アルミニウムシート例
８ 本例には種々の目的、殊に例えば成形品及び標札を食刻
するための耐食膜を製作するため及び殊に電子工学で導
体画像を製作する際のポジの感光性耐食膜として使用す
ることのできる複写層溶液が記載されてる。
２，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−
メタン１モルとナ フトキノン−（１，２）ージアジド ー（２）−５ースルホン酸の塩化物 ２モルとのヱステル化生成物 ０．４の重量部 ノボラツク（例１におけるもの） ６．４の重量部サマ
ロンフルーＧＳＬ（Ｃ．１．Ｍ．６２５００）
０．１５重量部４一（ｐートリル
メルカプト）一２，５−ジエトキシーベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルボレート ０．４の重量部 例１による溶剤混合物 ９泣き量部複写層
支持体：ブラッシングによる粕面化アルミニウムシート
例４被覆液： ナフトキノンー（１，２）ージア ジドー（２）−４ースルホン酸のｐ ークミルベンゾールエステル ０．９の重量部 ２，２′−ジヒドロキシージナフチ ルー（１，１）ーメタン１モルとナ フトキノン−（１，２）ージアジド −（２）−５ースルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 １．０の重量部 ／ボラツク（例２におけるもの） ５．０の重量部ポリ
ビニルブチラール ０．２の重量部ブリリア
ントグリーン（Ｃ．１．Ｎｏ．４２０４０）０．１５重
量部４ーベンゾイルアミノー２，５ー ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオルホスフエート ０．３の重量部 例１による溶剤混合物 ９接客量部複写層
支持体：ブラシングによる粗面化アルミニウムシート例
５ 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシ−ペ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）ージアジドー（２）一 ５ースルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．９の重量部２
，２ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メタ
ン１モルとナ フトキノンー（１，２）−ジアジド ー（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．６の重量部 ノボラツク（例１におけるもの） ５．４の重量部クリ
スタルバイオレットベース（Ｃ．１．Ｍ．４２５５５：
１） ０．０５重量部４一（４′−ヱ
トキシーフエニル）一２，５ージエトキシ−ベンゼンジ アゾニウムヘキサフルオルホスフエ ート ０．１５重量部
燐酸トリー（Ｂークロルェチル）−ェステル
０．５の重量部例１による溶剤混合物
９球容量部複写層支持体：電解により粕
面化した陽極酸化処理アルミニウムシート例６ 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシーベ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）−ジアジド−（２）一 ５−スルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．９の重量部２
，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノンー（１，２）−ジアジド −（２）−５−スルホン酸の塩化物 ２モルとのェステル化生成物 ０．０重量部 ノボラック（例１におけるもの） ５．３の重量部ビク
トリアブルーＢ（Ｃ．１．Ｎｏ．４４０４５）
０．０紅重量部４一（ｐ−トリル
メルカプト）一２，５−ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルボレー ０．３の重量部 燐酸トリー（８ークロルェチル） −ェステル ０．５の重量部例
１による溶剤 ９朝容量部複写層支
持体：電解により粗面化した陽極酸化処理アルミニウム
シート例７ ． 被覆液： ２，３，４ートリヒドロキシーベ ンゾフヱノン１モルとナフトキノン ー（１，２）−ジアジド−（２）− ５ースルホン酸の塩化物３モルとの ェステル化生成物 ０．６の重量部２
，２′ージヒドロキシージナフチル−（１，１′）−メ
タン１モルとナ フトキノン−（１，２）−ジアジド −（２）−６ースルホン酸の塩化物 ２モルとのヱステル化生成物 ０．４の重量部 クレゾール／ホルムアルデヒド／ ノボラツク（例１におけるもの） ６．４５重量部 クリスタルノゞイオレツトベース （Ｃ．１．船．４２５５５：１） ０
．１４重量部４一（ｐートリルメルカプト）−２，５−
ジエトキシ−ベンゼンジア ゾニウムテトラフルオルアルセネー ト ０．３５重量部
例１による溶剤混合物 ９＆容量部複写層
支持体：ブラシングによる粗面化アルミニウムシート例
８ 本例には種々の目的、殊に例えば成形品及び標札を食刻
するための耐食膜を製作するため及び殊に電子工学で導
体画像を製作する際のポジの感光性耐食膜として使用す
ることのできる複写層溶液が記載されてる。
溶液は良好な有効寿命を有する。被膜の種類及び層の厚
さは広範囲内でそれぞれの必要性に適合する。光への露
出後、露出個所は非露出個所に関して良好なコントラス
トを有する。露出個所はアルカリ性現像液（ｐＨ約ｉ２
．８）で容易に除去することができる。被覆液： ２，３，４−トリヒドロキシーベ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）ージアジドー（２）一 ５−スルホン酸の塩化物２モルとの ヱステル化生成物 １．５重量部４
一（ｐ−トリルメルカプト）−２，５ージエトキシ−ベ
ンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．４重量部ク
リスタルバイオレット（Ｃ．１・Ｎｏ．４２５５５）
０．１重量部フェノールノホ
ルムアルデヒド／ノボラツク（例２におけるもの） １０．の重量部 ェポキシ樹脂（Ｅｐｉｋｏに■１００１）２．の重量部 エチレングリコ一ルモノメチルエ ーテル ４畔容量部テ
トラヒドロフラン ５岬容量部酢酸ブチ
ル １舷容量部厚さ３５仏の
銅シートを重ねた絶縁物質のプレート（Ｋｕｐｆｅｒ−
Ｐｅ心服ｘ■）に、この溶液を被覆する。
さは広範囲内でそれぞれの必要性に適合する。光への露
出後、露出個所は非露出個所に関して良好なコントラス
トを有する。露出個所はアルカリ性現像液（ｐＨ約ｉ２
．８）で容易に除去することができる。被覆液： ２，３，４−トリヒドロキシーベ ンゾフエノン１モルとナフトキノン −（１，２）ージアジドー（２）一 ５−スルホン酸の塩化物２モルとの ヱステル化生成物 １．５重量部４
一（ｐ−トリルメルカプト）−２，５ージエトキシ−ベ
ンゼンジア ゾニウムヘキサフルオルホスフエー ト ０．４重量部ク
リスタルバイオレット（Ｃ．１・Ｎｏ．４２５５５）
０．１重量部フェノールノホ
ルムアルデヒド／ノボラツク（例２におけるもの） １０．の重量部 ェポキシ樹脂（Ｅｐｉｋｏに■１００１）２．の重量部 エチレングリコ一ルモノメチルエ ーテル ４畔容量部テ
トラヒドロフラン ５岬容量部酢酸ブチ
ル １舷容量部厚さ３５仏の
銅シートを重ねた絶縁物質のプレート（Ｋｕｐｆｅｒ−
Ｐｅ心服ｘ■）に、この溶液を被覆する。
表：本発明による複写層を露出した
際の色の変化
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸又はカルボン
酸のエステル又はアミド及びこの化合物の量に対して塩
を形成し得る機染料１〜５０重量％とハロゲンを有し、
露出すると酸を解離する感光性ジアゾニウム化合物５〜
７５重量％とからなる感光性組成物において、ハロゲン
を有するジアゾニウム化合物は一般式：▲数式、化学式
、表等があります▼ 〔式中Ｒ＿ａは水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ
、アリール、アリールメルカプト、アリールオキシ、ア
リールア ミノ又はベンゾイルアミノ基を表 わし、 Ｒ＿ｂ及びＲ＿ｃは水素、アルキル、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アルキルメルカプト又はアリールメルカプ
ト基を表わ し、 ＡはＰＦ＿６，ＢＦ＿４，Ａ＿ｓＦ＿６，ＳｂＣｌ＿６
，ＳｎＣｌ＿６，ＢｉＣｌ＿５，ＺｎＣｌ＿４又はＳｂ
Ｆ＿６を表わし、Ｘは１又は２であり、 Ｒ＿ａ及びＲ＿ｃは同時に水素を表わさない。 〕のジアゾニウム塩である感光性組成物。２ ナフトキ
ノンジアジド化合物に対して、ジアゾニウム塩１０〜４
０重量％及び染料３〜３０重量％を有する、特許請求の
範囲第１項記載の感光性組成物。 ３ 赤色、青色及び緑色の染料を有する、特許請求の範
囲第１項又は第２項記載の感光性組成物。 ４ Ｒ＿ａはアリールメルカプト、ベンゾイルアミノ又
はアルコキシフエニル基を表わし、Ｒ＿ｂ及びＲ＿ｃは
アルコキ基、特にエトキを表わし、ＡはＰＦ＿６，ＢＦ
＿４又はＡｓＦ＿６を表わす一般式よりなる、特許請求
の範囲囲第１項記載の感光性組成物。 ５ 染料はトリフエニルメタン、アジン又はアントラキ
ノン染料である、特許請求の範囲第１項記載の感光性組
成物。 ６ 更にアルカリ水溶液に可容又は膨潤し得る樹脂を有
する、特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ７ 樹脂はノボラツクである、特許請求の範囲第６項記
載の感光性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19762641099 DE2641099A1 (de) | 1976-09-13 | 1976-09-13 | Lichtempfindliche kopierschicht |
| DE2641099.1 | 1976-09-13 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPS5336222A JPS5336222A (en) | 1978-04-04 |
| JPS6039214B2 true JPS6039214B2 (ja) | 1985-09-05 |
Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP52109778A Expired JPS6039214B2 (ja) | 1976-09-13 | 1977-09-12 | 感光性組成物 |
Country Status (13)
| Country | Link |
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| AU (1) | AU518225B2 (ja) |
| BE (1) | BE858620A (ja) |
| BR (1) | BR7706067A (ja) |
| CA (1) | CA1097124A (ja) |
| CH (1) | CH629313A5 (ja) |
| DE (1) | DE2641099A1 (ja) |
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| GB (1) | GB1591109A (ja) |
| NL (1) | NL7709935A (ja) |
| SE (1) | SE417758B (ja) |
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| US4348471A (en) * | 1981-06-15 | 1982-09-07 | Polychrome Corporation | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff |
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| TW439016B (en) * | 1996-09-20 | 2001-06-07 | Sumitomo Chemical Co | Positive resist composition |
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| DE2331377C2 (de) * | 1973-06-20 | 1982-10-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Kopiermaterial |
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- 1977-09-09 SE SE7710117A patent/SE417758B/xx unknown
- 1977-09-12 GB GB37896/77A patent/GB1591109A/en not_active Expired
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- 1977-09-12 JP JP52109778A patent/JPS6039214B2/ja not_active Expired
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- 1977-09-12 BE BE180843A patent/BE858620A/xx not_active IP Right Cessation
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