JPS5856968B2 - ウエハ−突起状欠陥除去装置 - Google Patents
ウエハ−突起状欠陥除去装置Info
- Publication number
- JPS5856968B2 JPS5856968B2 JP51042120A JP4212076A JPS5856968B2 JP S5856968 B2 JPS5856968 B2 JP S5856968B2 JP 51042120 A JP51042120 A JP 51042120A JP 4212076 A JP4212076 A JP 4212076A JP S5856968 B2 JPS5856968 B2 JP S5856968B2
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- JP
- Japan
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- defect
- wafer
- protruding
- laser processing
- defect position
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- Expired
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ウェハー表面上に発生する突起状欠陥の除去
装置に関するものである。
装置に関するものである。
従来、ウェハー表面上の突起状欠陥除去は、作業者が顕
微鏡を用いてウェハー面を目視により検査し、欠陥位置
をとらえ、ピンセットまたは石英ガラスエツジを使用し
て欠陥除去を行なっていた。
微鏡を用いてウェハー面を目視により検査し、欠陥位置
をとらえ、ピンセットまたは石英ガラスエツジを使用し
て欠陥除去を行なっていた。
それ故、小さな突起状欠陥の除去が困難であり、生産性
が低く、良好なウェハ一部に1で傷をつけてし1うとい
う欠点があった。
が低く、良好なウェハ一部に1で傷をつけてし1うとい
う欠点があった。
本発明は、これらの欠点を除去するため、自動化された
ウェハーの突起状欠陥除去装置を提供することにある。
ウェハーの突起状欠陥除去装置を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、高い生産性をもつ、高速
度な欠陥除去が行なえるウェハーの突起状欠陥除去装置
を提供するにある。
度な欠陥除去が行なえるウェハーの突起状欠陥除去装置
を提供するにある。
本発明によれば、ウェハーの一部または全体のパターン
を光学的に適当な大きさに拡大して光電変換器上に投影
しかつ投影されたパターンを適当な大きさに分割して二
次元のパターンに光電変換する光電走査手段と、かかる
走査手段の出力信号より突起状欠陥の走査信号を抽出し
、突起状欠陥位置を認識する欠陥位置認識手段と、この
検出された欠陥位置を記憶する欠陥位置記憶手段と、記
憶手段により記憶されたICウェハー上の突起状欠陥位
置を位置決めするウェハー移動位置決め手段とを備え、
該欠陥位置記憶手段に記憶されたICウェハー上の突起
状欠陥位置を前記レーザ加工手段のレーザ集光部に順次
位置決めし、該レーザ加工手段により突起状欠陥を自動
的に除去することができるウェハーの突起状欠陥除去装
置が実現できる。
を光学的に適当な大きさに拡大して光電変換器上に投影
しかつ投影されたパターンを適当な大きさに分割して二
次元のパターンに光電変換する光電走査手段と、かかる
走査手段の出力信号より突起状欠陥の走査信号を抽出し
、突起状欠陥位置を認識する欠陥位置認識手段と、この
検出された欠陥位置を記憶する欠陥位置記憶手段と、記
憶手段により記憶されたICウェハー上の突起状欠陥位
置を位置決めするウェハー移動位置決め手段とを備え、
該欠陥位置記憶手段に記憶されたICウェハー上の突起
状欠陥位置を前記レーザ加工手段のレーザ集光部に順次
位置決めし、該レーザ加工手段により突起状欠陥を自動
的に除去することができるウェハーの突起状欠陥除去装
置が実現できる。
このように構成した本発明装置の特徴は、人手を介しな
い全自動のウェハー突起状欠陥除去装置を実現できるこ
とであり、傷の検出を人間の目に頼ることなく比較的容
易に検出でき、欠陥除去も自動的に高速で行なうことが
できる。
い全自動のウェハー突起状欠陥除去装置を実現できるこ
とであり、傷の検出を人間の目に頼ることなく比較的容
易に検出でき、欠陥除去も自動的に高速で行なうことが
できる。
また、欠陥除去をレーザ光線により行なうため、ウェハ
ー面の加工部周辺に熱影響をトよぼさず、加工部の残留
応力も生じないという利点を有する。
ー面の加工部周辺に熱影響をトよぼさず、加工部の残留
応力も生じないという利点を有する。
次に本発明を図面を用いて詳細に説明する。
図は本発明の1実施例を示すブロック図である。
図において、2は突起状欠陥の有無を検査するウニ・・
−1を載量し、X、Y〔横、縦〕方向に移動させるモー
タのついたX−Yテーブル2である。
−1を載量し、X、Y〔横、縦〕方向に移動させるモー
タのついたX−Yテーブル2である。
このX−YテープA/2に載置されたウェハー1は照明
装置5で照明され、光学レンズ3でITVカメラ6の光
電変換面上に結像される。
装置5で照明され、光学レンズ3でITVカメラ6の光
電変換面上に結像される。
光学レンズ3とITVカメラ6の間にあるハーフ−ミラ
ー4はパルス・レーザ加工装置7よりのレーザ光線12
を光学レンズ3の集魚位置に集光させる。
ー4はパルス・レーザ加工装置7よりのレーザ光線12
を光学レンズ3の集魚位置に集光させる。
ITVカメラ6は、光学レンズ3により結像されたウェ
ハーの表面欠陥像を電気信号に変換する。
ハーの表面欠陥像を電気信号に変換する。
変換されたITVカメラ6よりの電気信号は、増幅器8
で増幅され、欠陥位置認識回路9に供給され、欠陥の位
置を認識する。
で増幅され、欠陥位置認識回路9に供給され、欠陥の位
置を認識する。
箱13は、認識回路9とウェハー移動位置決め装置15
との整合回路である。
との整合回路である。
ウェハー移動位置決め装置15は、欠陥の位置の記憶回
路14を含み、記憶回路14の出力信号に基づいて、X
−Yテーブル2のX方向モータ制御回路10とY方向モ
ータ制御回路11に制御信号を発生する。
路14を含み、記憶回路14の出力信号に基づいて、X
−Yテーブル2のX方向モータ制御回路10とY方向モ
ータ制御回路11に制御信号を発生する。
パルス・レーザ加工装置7は整合回路を介し、位置決め
装置15よりレーザ発振信号を受け、レーザ光線12を
発振させる。
装置15よりレーザ発振信号を受け、レーザ光線12を
発振させる。
次にこの装置の動作について説明する。
図において、検出する突起状欠陥を有するウェハー1は
照明装置5で照明される。
照明装置5で照明される。
照明されたウェハー1は光学レンズ3によりITVカメ
ラ6に結像される。
ラ6に結像される。
このITVカメラ6の光電変換の出力信号は適当な増幅
器8により増幅整形されて、欠陥位置認識回路9に供給
される。
器8により増幅整形されて、欠陥位置認識回路9に供給
される。
欠陥位置認識回路9では、該信号からウェハー面上の欠
陥部に対応したノイズ信号部を検出し、その位置、大き
さを記憶回路14へ入力させる。
陥部に対応したノイズ信号部を検出し、その位置、大き
さを記憶回路14へ入力させる。
かかる欠陥信号検出手段は、一般に画像処理技術分野で
広く用いられており、ここでの詳細説明は省略する。
広く用いられており、ここでの詳細説明は省略する。
記憶回路14に記1意された欠陥位置認識回路9からの
欠陥位置データに基づいて、ウェハー移動位置決め装置
15は、整合回路13を介してX方向モータ制御回路1
0、Y方向モータ制御回路11に位置決め信号を与える
。
欠陥位置データに基づいて、ウェハー移動位置決め装置
15は、整合回路13を介してX方向モータ制御回路1
0、Y方向モータ制御回路11に位置決め信号を与える
。
位置決め信号を受けたX方向モータ制御回路10とY方
向モータ制御回路11を介し、X−Yテーブル2により
パルス・レーザ加工装置7の加工部に位置決めされた突
起状欠陥は、ウェハー移動位置決め装置15から整合回
路13を介して与えられるレーザ発振信号を受けたパル
ス・レーザ加工装置7のレーザ光線12により順次、除
去される。
向モータ制御回路11を介し、X−Yテーブル2により
パルス・レーザ加工装置7の加工部に位置決めされた突
起状欠陥は、ウェハー移動位置決め装置15から整合回
路13を介して与えられるレーザ発振信号を受けたパル
ス・レーザ加工装置7のレーザ光線12により順次、除
去される。
な釦パルス・レーザ加工装置7の代りに、Q−スイッチ
・レーザ加工装置を採用することも可能である。
・レーザ加工装置を採用することも可能である。
また、ウェハー表面上の突起状欠陥検出能力は、ウェハ
ーのITVカメラへの拡大率で与えられ、より小さなウ
ェハー上の突起状欠陥除去を行なうためには、高倍率で
使用することが可能である。
ーのITVカメラへの拡大率で与えられ、より小さなウ
ェハー上の突起状欠陥除去を行なうためには、高倍率で
使用することが可能である。
なお、ここで本実施例で説明された構成要素は、以下に
述べる手段により代替可能である。
述べる手段により代替可能である。
例えば、光電変換器はITVカメラのような二次元に分
割されたものでなく固体スキャナーのように一次元の光
電変換器でも有効である。
割されたものでなく固体スキャナーのように一次元の光
電変換器でも有効である。
この場合、一次元スキャナーをスキャナーと垂直方向に
機械的、光学的に振らせて二次元に分割する。
機械的、光学的に振らせて二次元に分割する。
このようにして本発明では、ウェハー上の突起状欠陥検
出も・よび除去を自動的に順次実施することができ、捷
た突起状欠陥除去は、パルスあるいはQスイッチシー1
発振光により行なわれるので除去時間は極めて短くて済
みかつ加工部周辺への熱影響も少ない。
出も・よび除去を自動的に順次実施することができ、捷
た突起状欠陥除去は、パルスあるいはQスイッチシー1
発振光により行なわれるので除去時間は極めて短くて済
みかつ加工部周辺への熱影響も少ない。
また、非接触加工なのでウェハーに機械的な力が全く加
わらないのでウェハー割れが生じない。
わらないのでウェハー割れが生じない。
図は本発明の実施例を示すブロック図である。
なお図にむいて、1はICウェハー 2はX−Yテーブ
ル、3は光学レンズ、4はハーフ・ミラー5は照明装置
、6はITVカメラ、7はパルス・レーザ加工装置、8
は増幅器、9は欠陥位置認識回路、11はY方向モータ
制御回路、12はレーザ光線、13は整合回路、14は
記憶回路、15はウェハー移動位置決め装置である。
ル、3は光学レンズ、4はハーフ・ミラー5は照明装置
、6はITVカメラ、7はパルス・レーザ加工装置、8
は増幅器、9は欠陥位置認識回路、11はY方向モータ
制御回路、12はレーザ光線、13は整合回路、14は
記憶回路、15はウェハー移動位置決め装置である。
Claims (1)
- I ICウェハーの一部または全体のパターンを光学
的に適当な大きさに拡大して光電変換器上に投影し、か
つ投影されたパターンを適当な大きさに分割して二次元
のノ、クターンに光電変換する光電走査手段と、かかる
走査手段の出力信号より突起状欠陥の走査信号を抽出し
、突起状欠陥位置を認識する欠陥位置認識手段と、この
検出された欠陥位置を記憶する欠陥位置記憶手段と、突
起状欠陥を除去するためのレーザ加工手段と、記憶手段
により記憶されたICウェハー上の突起状欠陥位置を位
置決めするウェハー移動位置決め手段とを備え、前記欠
陥位置記憶手段に記憶されたICウェハー上の突起状欠
陥位置を前記レーザ加工手段部のレーザ集光部に順次位
置決めし、該レーザ加工手段により突起状欠陥を自動的
に除去するようにしたことを特徴とするウェハー突起状
欠陥除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51042120A JPS5856968B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | ウエハ−突起状欠陥除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51042120A JPS5856968B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | ウエハ−突起状欠陥除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52125269A JPS52125269A (en) | 1977-10-20 |
JPS5856968B2 true JPS5856968B2 (ja) | 1983-12-17 |
Family
ID=12627084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51042120A Expired JPS5856968B2 (ja) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | ウエハ−突起状欠陥除去装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5856968B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5598829A (en) * | 1978-01-05 | 1980-07-28 | Hitachi Ltd | Method and device for selective treatment |
JPS56114315A (en) * | 1980-02-14 | 1981-09-08 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JPS5772324A (en) * | 1980-10-23 | 1982-05-06 | Fujitsu Ltd | Reticle amendment |
JPS57115824A (en) * | 1981-01-10 | 1982-07-19 | Nec Home Electronics Ltd | Removing epitaxial layer mound |
JPS58178520A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-19 | Toshiba Corp | フオトマスクの検査および修正装置 |
JPS6175524A (ja) * | 1985-08-23 | 1986-04-17 | Hitachi Ltd | 選択処理装置 |
JP2518847Y2 (ja) * | 1991-07-24 | 1996-11-27 | 積水化成品工業株式会社 | フィンヒータ |
WO2003023836A1 (fr) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Appareil permettant de reparer un defaut d'un substrat |
-
1976
- 1976-04-14 JP JP51042120A patent/JPS5856968B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52125269A (en) | 1977-10-20 |
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