JPH04203955A - 印刷パターンの検査方法 - Google Patents
印刷パターンの検査方法Info
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- JPH04203955A JPH04203955A JP2337304A JP33730490A JPH04203955A JP H04203955 A JPH04203955 A JP H04203955A JP 2337304 A JP2337304 A JP 2337304A JP 33730490 A JP33730490 A JP 33730490A JP H04203955 A JPH04203955 A JP H04203955A
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- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、セラミックパッケージ等の印刷パターンの検
査方法に係り、より詳細には、印刷パターン検査に際し
て、照明による反射光等によって生しる不要反射画像を
除去して検査を行えるようにした印刷パターンの検査方
法に関する。
査方法に係り、より詳細には、印刷パターン検査に際し
て、照明による反射光等によって生しる不要反射画像を
除去して検査を行えるようにした印刷パターンの検査方
法に関する。
セラミックパッケージ等の印刷パターンの欠陥検査は、
通常、欠陥のないパターン、すなわち設計どおりに描か
れた原パターン等を基準パターンとして、これと検査対
象パターンの二値化画像を比較して行うようにしている
。
通常、欠陥のないパターン、すなわち設計どおりに描か
れた原パターン等を基準パターンとして、これと検査対
象パターンの二値化画像を比較して行うようにしている
。
しかし、検査対象パターンの二値化画像を得るには、該
パターンに照明を当てて撮像したものを用いるため、該
撮像画像による二値化画像において、印刷直後の濡れ状
態のペーストからの照明の直接反射光、印刷乾燥状態の
ペースト中の結晶成分からの輝点反射等の不要反射もノ
イズとして検出され、該不要反射と欠陥との区別ができ
ず、適正な画像処理ができないという問題がある。
パターンに照明を当てて撮像したものを用いるため、該
撮像画像による二値化画像において、印刷直後の濡れ状
態のペーストからの照明の直接反射光、印刷乾燥状態の
ペースト中の結晶成分からの輝点反射等の不要反射もノ
イズとして検出され、該不要反射と欠陥との区別ができ
ず、適正な画像処理ができないという問題がある。
従来、かかる問題は、次のような手法でもって対処して
いる。すなわち、 ■ 偏光フィルターを使用する手法 本手法は、第3図に示すように、カメラlの光軸上にハ
ーフミラ−2を傾斜配置すると共に、該ハーフミラ−2
の光軸上で、かつカメラ1の光軸に対して直交する部位
に落斜光照明源3を配し、またカメラレンズと落斜光照
明源とに偏光フィルター4.5を設け、該落斜光照明に
よる直接反射光等を除去した状態の印刷パターンを撮像
できるようにした構成よりなる。
いる。すなわち、 ■ 偏光フィルターを使用する手法 本手法は、第3図に示すように、カメラlの光軸上にハ
ーフミラ−2を傾斜配置すると共に、該ハーフミラ−2
の光軸上で、かつカメラ1の光軸に対して直交する部位
に落斜光照明源3を配し、またカメラレンズと落斜光照
明源とに偏光フィルター4.5を設け、該落斜光照明に
よる直接反射光等を除去した状態の印刷パターンを撮像
できるようにした構成よりなる。
■ 斜光照明を使用する手法
本手法は、第4図に示すように、カメラ1の光軸に対し
て斜め方向に照明−a3を配設し、該カメラに入射する
直接反射光を軽減した状態で、印刷パターンを撮像でき
るようにした構成よりなる。
て斜め方向に照明−a3を配設し、該カメラに入射する
直接反射光を軽減した状態で、印刷パターンを撮像でき
るようにした構成よりなる。
そして、これらの手法の場合、印刷パターンを撮像する
カメラに照明源よりの直接反射光の入射を除去または軽
減できる。
カメラに照明源よりの直接反射光の入射を除去または軽
減できる。
しかし、上述した手法の場合、次のような問題がある。
すなわち、
■ 微細な欠陥検出をする場合が多く、その拡大率を大
きくする必要があるため、大きい照度の照明源を必要と
することになり、直接反射光がカメラに入射する度合い
が多くなる。また、ペースト内の輝点反射の度合いが増
加する。
きくする必要があるため、大きい照度の照明源を必要と
することになり、直接反射光がカメラに入射する度合い
が多くなる。また、ペースト内の輝点反射の度合いが増
加する。
■ 検査対象印刷パターンが、−平面でない場合が多い
ため、その欠陥部を鮮明化するための光学的条件を得る
のに多くの時間を要する。
ため、その欠陥部を鮮明化するための光学的条件を得る
のに多くの時間を要する。
■ 検査対象印刷パターンに応して、不要反射除去手法
を選択使用する必要がある。
を選択使用する必要がある。
従って、不要反射を充分に除去できない場合が生じるた
め、欠陥検査等に際して、適正な画像処理ができない場
合が生しる。
め、欠陥検査等に際して、適正な画像処理ができない場
合が生しる。
本発明は、上述した点に対処して創案したものであって
、その目的とする処は、セラミックパンケージ等の印刷
パターンの欠陥検査等を行うに際し、印刷パターンから
の直接反射光等の不要反射であるノイズを撮像した画像
より除去でき、適正な画像処理を行えるようにした印刷
パターンの検査方法を提供することにある。
、その目的とする処は、セラミックパンケージ等の印刷
パターンの欠陥検査等を行うに際し、印刷パターンから
の直接反射光等の不要反射であるノイズを撮像した画像
より除去でき、適正な画像処理を行えるようにした印刷
パターンの検査方法を提供することにある。
そして、上記目的を達成する手段としての本発明の印刷
パターンの検査方法は、セラミックテープ等の印刷ベー
ス面の印刷パターンを撮像し、該印刷パターンの濃淡画
像を得て、該濃淡画像より該印刷ベース面の輝度レベル
を閾値とする印刷ベース面二値化画像と、該印刷ベース
面輝度レベルより高い輝度レベルを閾値とする不要反射
二値化画像とを得て、該不要反射二値化画像を印刷へ一
ス面二値化画像より減算処理して該不要反射二値化画像
を除去することで印刷パターンを検査できるようにした
構成よりなる。
パターンの検査方法は、セラミックテープ等の印刷ベー
ス面の印刷パターンを撮像し、該印刷パターンの濃淡画
像を得て、該濃淡画像より該印刷ベース面の輝度レベル
を閾値とする印刷ベース面二値化画像と、該印刷ベース
面輝度レベルより高い輝度レベルを閾値とする不要反射
二値化画像とを得て、該不要反射二値化画像を印刷へ一
ス面二値化画像より減算処理して該不要反射二値化画像
を除去することで印刷パターンを検査できるようにした
構成よりなる。
また、本発明の印刷パターンの検査方法は、上記構成に
おいて、通常、不要反射二値化画像を画像処理により必
要画素数の膨張化処理、または印刷ベース面二値化画像
を細線化処理した後、両二値化画像を減算処理するよう
にした構成としてい〔作用〕 そして、上記構成に基づく、本発明の印刷パターンの検
査方法によれば、不要反射を含む印刷パターンの輝度レ
ヘルによる濃淡画像を撮像し、これを、画像処理によっ
て印刷パターンベース面の輝度レベルと不要反射の輝度
レヘルを閾値する二値化画像とすることで、該不要反射
を削除できるので、検査対象印刷パターンを撮像するに
際して、各種の不要反射を含んだ状態で撮像できること
より、照明用光源の位置等の光学条件設定を短時間で行
えるように作用する。
おいて、通常、不要反射二値化画像を画像処理により必
要画素数の膨張化処理、または印刷ベース面二値化画像
を細線化処理した後、両二値化画像を減算処理するよう
にした構成としてい〔作用〕 そして、上記構成に基づく、本発明の印刷パターンの検
査方法によれば、不要反射を含む印刷パターンの輝度レ
ヘルによる濃淡画像を撮像し、これを、画像処理によっ
て印刷パターンベース面の輝度レベルと不要反射の輝度
レヘルを閾値する二値化画像とすることで、該不要反射
を削除できるので、検査対象印刷パターンを撮像するに
際して、各種の不要反射を含んだ状態で撮像できること
より、照明用光源の位置等の光学条件設定を短時間で行
えるように作用する。
従って、本発明の印刷パターンの検査方法によれば、適
正な画像処理が容易に行え、印刷パターンの検査能率を
向上させ得る。
正な画像処理が容易に行え、印刷パターンの検査能率を
向上させ得る。
以下、図面を参照しながら、本発明を具体化した実施例
について説明する。
について説明する。
ここに、第1.2図は、本発明の一実施例を示し、第1
図は工程図、第2図は不要反射除去二値化画像を得る工
程の画像の説明図である。
図は工程図、第2図は不要反射除去二値化画像を得る工
程の画像の説明図である。
本実施例の印刷パターンの検査方法は、セラミックテー
プ面上の印刷パターンの欠陥検査方法であって、概略す
ると、■検査対象パターン撮像工程、■印刷ベース面二
値化函像処理工程、■不要反射二値化画像処理工程、■
不要反射二値化画像除去処理工程、■欠陥検査工程の五
工程をを有する印刷パターンの検査方法である。以下、
各工程について説明する。
プ面上の印刷パターンの欠陥検査方法であって、概略す
ると、■検査対象パターン撮像工程、■印刷ベース面二
値化函像処理工程、■不要反射二値化画像処理工程、■
不要反射二値化画像除去処理工程、■欠陥検査工程の五
工程をを有する印刷パターンの検査方法である。以下、
各工程について説明する。
一検査対象印刷パターン撮像工程−
本工程は、検査対象物であるセラミックテープ面上の印
刷パターンをカメラで拡大撮像し、濃淡画像として入力
する工程である。
刷パターンをカメラで拡大撮像し、濃淡画像として入力
する工程である。
本工程では、検査対象物をカメラの光軸下に移動(配置
)させると共に、該検査対象物に落射光照明または斜光
照明を照射して、カメラで撮像し輝度レベル差による画
像を得ている。ここで、該画像は、照明により検査対象
物のセラミックテープ面、ピンホール等の欠陥部、印刷
面とで輝度レベルが相違することより輝度レベルの差に
よる濃淡画像として得られるが、この他に照明によるペ
ーストからの直接反射、ペースト中の結晶成分からの輝
点反射等の不要反射も輝度レベルが相違することより、
上記濃淡画像にはノイズ(直接反射)である不要反射を
含む画像として得られる(第2図C参照)。
)させると共に、該検査対象物に落射光照明または斜光
照明を照射して、カメラで撮像し輝度レベル差による画
像を得ている。ここで、該画像は、照明により検査対象
物のセラミックテープ面、ピンホール等の欠陥部、印刷
面とで輝度レベルが相違することより輝度レベルの差に
よる濃淡画像として得られるが、この他に照明によるペ
ーストからの直接反射、ペースト中の結晶成分からの輝
点反射等の不要反射も輝度レベルが相違することより、
上記濃淡画像にはノイズ(直接反射)である不要反射を
含む画像として得られる(第2図C参照)。
本実施例の場合、濃淡画像より、印刷パターン中に、2
個のピンホール等の欠陥部aまたは不要反射すの存在す
ることが認められる。しかし、この濃淡画像においては
、該画像が欠陥部であるのか、ノイズであるかの識別が
できない。
個のピンホール等の欠陥部aまたは不要反射すの存在す
ることが認められる。しかし、この濃淡画像においては
、該画像が欠陥部であるのか、ノイズであるかの識別が
できない。
−印刷ベース面二値化画像処理工程−
本工程は、検査対象印刷パターン撮像工程により撮像入
力された濃淡画像を、セラミックテープ面輝度レベルの
閾値により二値化画像処理する工程である。
力された濃淡画像を、セラミックテープ面輝度レベルの
閾値により二値化画像処理する工程である。
ここで、二値化画像処理は、濃淡画像おける輝度レベル
が、通常、セラミックテープ面とピンホール等の欠陥部
とで相違し、また該欠陥部と不要反射とにおいても相違
することに鑑みて処理するものであって、印刷パターン
におけるピンホール等の欠陥部が欠陥としての許容範囲
臨界輝度レヘルを閾値として処理を行う(第2図す参照
)、そして、この処理を行うことにより、不要反射を含
む濃淡画像における二値化画像が得られる(第2図C参
照)。
が、通常、セラミックテープ面とピンホール等の欠陥部
とで相違し、また該欠陥部と不要反射とにおいても相違
することに鑑みて処理するものであって、印刷パターン
におけるピンホール等の欠陥部が欠陥としての許容範囲
臨界輝度レヘルを閾値として処理を行う(第2図す参照
)、そして、この処理を行うことにより、不要反射を含
む濃淡画像における二値化画像が得られる(第2図C参
照)。
そして、本実施例の場合、ピンホール等の欠陥部と不要
反射の両方を含んだ二値化画像として得られることにな
る。
反射の両方を含んだ二値化画像として得られることにな
る。
一不要反射二値化画像処理工程一
本工程は、検査対象印刷パターン撮像工程により撮像入
力された濃淡画像を、不要反射輝度レベルの閾値により
二値化画像処理する工程である。
力された濃淡画像を、不要反射輝度レベルの閾値により
二値化画像処理する工程である。
ここで、二値化画像処理は、不要反射は、通常、セラッ
クテープ面における輝度レベルより高い輝度レベルであ
ることより、該セラミックテープ面輝度レベルより高い
輝度レベルを不要反射輝度レベルの閾値として処理を行
う(第2図C参照)、そして、この処理を行うことによ
り、不要反射の二値化画像が得られる(第2図C参照)
、不要反射二値化画像は、二値化処理するための閾値が
セラックテープ面輝度レヘルより高い輝度レベルにある
ため、不要反射のみの二値化画像として得られる。
クテープ面における輝度レベルより高い輝度レベルであ
ることより、該セラミックテープ面輝度レベルより高い
輝度レベルを不要反射輝度レベルの閾値として処理を行
う(第2図C参照)、そして、この処理を行うことによ
り、不要反射の二値化画像が得られる(第2図C参照)
、不要反射二値化画像は、二値化処理するための閾値が
セラックテープ面輝度レヘルより高い輝度レベルにある
ため、不要反射のみの二値化画像として得られる。
そして、本実施例の場合、1個の不要反射を示す二値化
画像として得られることになる。
画像として得られることになる。
−不要反射二値化画像除去処理工程−
本工程は、不要反射二値化画像処理工程により画像処理
されて得られた不要反射二値化画像について膨張化処理
を行った後、印刷ベース面二値化画像より減算処理し、
不要反射を除去した二値化画像を得る工程である。
されて得られた不要反射二値化画像について膨張化処理
を行った後、印刷ベース面二値化画像より減算処理し、
不要反射を除去した二値化画像を得る工程である。
本工程での膨張化処理は、不要反射二値化画像の画像メ
モリにおいて、少なくとも印刷ベース面二値化画像にお
ける不要反射二値化画像の画素数だけ膨張化処理を行う
(第2図C参照)、そして、印刷ベース面二値化画像よ
り不要反射膨張処理済二値化画像を減算処理することに
より不要反射除去済二値化画像を得る(第2図C参照)
。
モリにおいて、少なくとも印刷ベース面二値化画像にお
ける不要反射二値化画像の画素数だけ膨張化処理を行う
(第2図C参照)、そして、印刷ベース面二値化画像よ
り不要反射膨張処理済二値化画像を減算処理することに
より不要反射除去済二値化画像を得る(第2図C参照)
。
そして、本実施例の場合、膨張化処理、減算処理によっ
て、1個のピンホール等の欠陥部を有する二値化画像と
して得られることになる。
て、1個のピンホール等の欠陥部を有する二値化画像と
して得られることになる。
−欠陥検査工程−
本工程は、予め作成している標準印刷パターンの二値化
画像と、不要反射二値化画像除去処理工程で得た不要反
射膨張処理済二値化画像とを重ね合わせて比較すること
で欠陥の有無を検査する工程である。
画像と、不要反射二値化画像除去処理工程で得た不要反
射膨張処理済二値化画像とを重ね合わせて比較すること
で欠陥の有無を検査する工程である。
ここで、標準印刷パターンニ値化画像は、標準印刷パタ
ーンについて検査対象印刷パターンを検査する条件と同
一の条件下(カメラの位置、照明の位置・照度)で撮像
入力し、これを画像処理によって二値化処理することで
得ている。そして、両二値化画像の比較は、検査員によ
る目視またはコンピュータによるソフト処理によって行
うようにしている。
ーンについて検査対象印刷パターンを検査する条件と同
一の条件下(カメラの位置、照明の位置・照度)で撮像
入力し、これを画像処理によって二値化処理することで
得ている。そして、両二値化画像の比較は、検査員によ
る目視またはコンピュータによるソフト処理によって行
うようにしている。
そして、上述した本実施例の印刷パターンの検査方法の
場合、不要反射を含む印刷パターンの輝度レベルによる
濃淡画像を撮像し、これを、画像処理によって印刷パタ
ーンベース面の輝度レベルと不要反射の輝度レベルを閾
値する二値化画像とすることで、該不要反射を削除する
ので、検査対象印刷パターンを撮像するに際して、各種
の不要反射を含んだ状態で撮像できることより、照明用
光源の位置等の光学条件設定を短時間で行えるように作
用する。
場合、不要反射を含む印刷パターンの輝度レベルによる
濃淡画像を撮像し、これを、画像処理によって印刷パタ
ーンベース面の輝度レベルと不要反射の輝度レベルを閾
値する二値化画像とすることで、該不要反射を削除する
ので、検査対象印刷パターンを撮像するに際して、各種
の不要反射を含んだ状態で撮像できることより、照明用
光源の位置等の光学条件設定を短時間で行えるように作
用する。
なお、本発明は、上述した実施例に限定されるものでな
く、本発明の要旨を変更しない範囲内で変形実施できる
ものを含む、因みに、上述した実施例では、不要反射二
値化画像を膨張化処理し、これを印刷ベース面こ値化画
像と減算処理する構成で説明したが、印刷ベース面二値
化画像を細線化処理して、これを不要反射二値化画像と
減算処理する構成としてもよい。
く、本発明の要旨を変更しない範囲内で変形実施できる
ものを含む、因みに、上述した実施例では、不要反射二
値化画像を膨張化処理し、これを印刷ベース面こ値化画
像と減算処理する構成で説明したが、印刷ベース面二値
化画像を細線化処理して、これを不要反射二値化画像と
減算処理する構成としてもよい。
以上の説明より明らかなように、本発明の印刷パターン
の検査方法によれば、セラミックテープ面等の印刷ベー
ス面上の印刷パターンを検査を行う際に、印i!11パ
ターンを撮像することにより得た濃淡画像を異なる輝度
レベルを閾値とする二値化画像を得て、これを減算処理
し、不要反射画像を画像処理により除去するようにして
いるので、セラミックパッケージ等の印刷パターンの欠
陥検査等を行うに際し、印刷パターンからの直接反射光
等の不要反射を含む濃淡画像として入力できることより
、欠陥検査等を画像処理によって連続して行えるという
効果を有する。
の検査方法によれば、セラミックテープ面等の印刷ベー
ス面上の印刷パターンを検査を行う際に、印i!11パ
ターンを撮像することにより得た濃淡画像を異なる輝度
レベルを閾値とする二値化画像を得て、これを減算処理
し、不要反射画像を画像処理により除去するようにして
いるので、セラミックパッケージ等の印刷パターンの欠
陥検査等を行うに際し、印刷パターンからの直接反射光
等の不要反射を含む濃淡画像として入力できることより
、欠陥検査等を画像処理によって連続して行えるという
効果を有する。
また、本発明の印刷パターンの検査方法によれば、従来
と異なり、不要反射除去に偏光フィルター等を必要とす
ることがな(、印刷パターンの撮像のための光学条件を
設定する時間を短縮でき、検査を効率的に行えると共に
、適正な画像処理が行えるという効果を有する。
と異なり、不要反射除去に偏光フィルター等を必要とす
ることがな(、印刷パターンの撮像のための光学条件を
設定する時間を短縮でき、検査を効率的に行えると共に
、適正な画像処理が行えるという効果を有する。
第1.2図は、本発明の一実施例を示し、第1図は工程
図、第2図は不要反射除去二値化画像を得る工程の画像
の説明図、第3.4図は、従来例における不要反射除去
手法の概略構成図である。 a・・・ピンホール等の欠陥部、b・・・不要反射 第1図 ↓−偏屯 3=儂化 13vA 第4図
図、第2図は不要反射除去二値化画像を得る工程の画像
の説明図、第3.4図は、従来例における不要反射除去
手法の概略構成図である。 a・・・ピンホール等の欠陥部、b・・・不要反射 第1図 ↓−偏屯 3=儂化 13vA 第4図
Claims (2)
- (1)セラミックテープ等の印刷ベース面の印刷パター
ンを撮像し、該印刷パターンの濃淡画像を得て、該濃淡
画像より該印刷ベース面の輝度レベルを閾値とする印刷
ベース面二値化画像と、該印刷ベース面輝度レベルより
高い輝度レベルを閾値とする不要反射二値化画像とを得
て、該不要反射二値化画像を印刷ベース面二値化画像よ
り減算処理して該不要反射二値化画像を除去することで
印刷パターンを検査できるようにしたことを特徴とする
印刷パターンの検査方法。 - (2)不要反射二値化画像を、画像処理により必要画素
数の膨張化処理、または印刷ベース面二値化画像を細線
化処理した後、両二値化画像を減算処理するようにして
いる請求項1に記載の印刷パターンの検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2337304A JPH04203955A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 印刷パターンの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2337304A JPH04203955A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 印刷パターンの検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04203955A true JPH04203955A (ja) | 1992-07-24 |
Family
ID=18307367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2337304A Pending JPH04203955A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 印刷パターンの検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04203955A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001158083A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-06-12 | Man Roland Druckmas Ag | 印刷製品の品質管理のための測定装置 |
JP2008195073A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Heidelberger Druckmas Ag | インキスプリット修正方法 |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2337304A patent/JPH04203955A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001158083A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-06-12 | Man Roland Druckmas Ag | 印刷製品の品質管理のための測定装置 |
JP2008195073A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Heidelberger Druckmas Ag | インキスプリット修正方法 |
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