JP2005106725A - 被検査物の外観検査方法及び外観検査装置 - Google Patents

被検査物の外観検査方法及び外観検査装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 本発明は、外観的に異常のある部分の画像の異常信号レベルと異常のない部分の画像のノイズレベルとの差を拡大して検出感度を向上し得る被検査物の外観検査方法及び外観検査装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、被検査物1の外観検査装置2において、被検査物1の画像データA〜Cを複数取得する画像データ取得手段3と、この画像データ取得手段3により取得された画像データA〜Cを比較して複数の符号付差画像データD,Eを作成する画像比較手段14,22と、この差画像比較手段14,22により作成された符号付差画像データD,Eの差を求める差画像比較手段15,24と、この差画像比較手段15,24で得られた差画像の差のデータFを閾値処理する判別手段16を設けたのである。
【選択図】 図1

Description

本発明は、例えば、被検査物である半導体ウェハ、フォトマスク、プリント基板等の製造工程における変形、パターンの欠陥、異物混入や付着等の異常を外観から検査する被検査物の外観検査方法及び外観検査装置に関する。
従来において被検査物の外観検査は、例えば複数のチップに同じパターンが繰り返し形成された半導体ウェハ上を走査しながら画像データを取得し、2つの互いに隣接するチップの画像を比較して外観から欠陥を検査する方法が知られている。
そして、画像の比較の方法は、例えば特許文献1に開示されているように、2つの画像データを位置合わせした後に差をとり、得られた差画像データを閾値処理して欠陥を検出する方法等が既に知られている。
特開昭61−212708号公報
上記画像の比較方法においては、外観の異常を検出するためには、異常のある部分の画像の差、即ち、欠陥の信号レベルが、異常のない部分の画像の差、即ち、ノイズレベルに比べて十分に大きいことが必要となる。特に、小さな異常ほど結像系の分解能の制限によって画像に生じる差が小さくなるので、検出感度が低下する。そのために、検出感度を高めるには、結像系の分解能を向上させるか、画像のノイズレベルを低減しなければならない。
しかし、結像系の分解能は、例えば光学系の場合、使用する光の波長やレンズの性能によって決まるので、改善を見込むことには限度がある。また、画像のノイズレベルも、画像を取り込む素子や画像取り込み時に被検査物を安置するステージの振動、さらには、画像データ比較時の位置合わせ、被検査物の種類によって決まるので、低減させることに限度がある。
本発明の目的は、外観的に異常のある部分の画像の差の信号レベルと異常のない部分の画像のノイズレベルとの差を画像処理によって拡大して検出感度を向上し得る被検査物の外観検査方法及び外観検査装置を提供することにある。
本発明は上記目的を解決するために、被検査物の外観検査装置において、被検査物の画像データを複数取得する画像データ取得手段と、この画像データ取得手段により取得された画像データを比較して複数の符号付差画像データを作成する画像比較手段と、この画像比較手段により作成された符号付差画像データを比較する差画像比較手段と、この差画像比較手段で得られたデータを閾値処理する判別手段を設けたのである。
本発明は差画像データをさらに比較する上記構成とすることにより、異常のある部分の画像の最終異常信号レベルを異常のない部分の画像の最終ノイズレベルに比べて約1.4倍大きくすることができ、その分、検出感度を向上することができる。
以上説明したように本発明によれば、外観的に異常のある部分の画像の異常信号レベルと異常のない部分の画像のノイズレベルとの差を拡大して検出感度を向上し得る被検査物の外観検査方法及び外観検査装置を得ることができる。
以下、本発明による被検査物の外観検査装置の第1の実施の形態を図1〜図3に基づいて説明する。
被検査物1は、図3に示す例えば同じ配線パターンを形成した複数のチップ17を有する半導体ウェハであり、この被検査物1を外観から検査するための外観検査装置2は、大きく分けて被検査物1の画像データを取得する画像データ取得手段3と画像処理部4とから構成されている。
前記画像データ取得手段2は、被検査物1を安置してX,Y,Z方向及びθ方向に移動させるためのステージ5と、このステージ5上の被検査物1の光学像を撮像する光学系6と、この光学系により撮像された光学像を画像データに変換し前記画像処理部4へ出力する画像入力部7とを有している。
前記光学系6は、照明光学系と結像光学系とを有し、照明光学系は、光源8と、光源8からの光を集光する照明用レンズ9と、照明用レンズ9から出た光を被検査物1側ヘ導くビームスプリッタ10と、対物レンズ11とを備えており、結像光学系は、被検査物1からの反射光を通過させる対物レンズ11,ビームスプリッタ10及び結像用レンズ12と、結像用レンズ12を通過した光で形成される像を撮像する撮像素子13とを備えている。
上記光源8は、キセノンランプや超高圧水銀ランプのようなインコヒーレント光源や、高調波レーザ等が用いられる。従来は主に可視光の波長領域の光が用いられていたが、最近では紫外或いは深紫外領域の光も用いられる。
また、撮像素子13としては、TDIイメージセンサ等のラインセンサや、エリヤセンサ等が用いられる。
撮像素子13により撮像された画像データは、画像入力部7に入力されてAD変換され、画像処理部4に入力される。
画像処理部4は、AD変換された画像データを入力する第1画像比較手段14A及び第2画像比較手段14Bを有する画像比較手段14と、画像比較手段14(14A,14B)から出力された差画像データを入力する差画像比較手段15と、差画像比較手段15から出力された比較データを入力して良否を判定する判別手段16とを備えている。
次に、上記構成の外観検査装置2を用いての被検査物1の検査方法を説明する。
図3に示すように、被検査物1である半導体ウェハをステージ5上に安置する。この被検査物1には、同じ配線パターン等を有するチップ17が複数形成されており、ステージ5を矢印方向に移動させながら撮像することにより、各チップ17A〜17Cから3つの画像データA〜Cを取得する。ここで、3つの画像データA〜Cは、被検査物1の上の異なったチップ17A〜17Cを夫々撮影したものを用いたが、1つの画像データと、その画像データを画像中の繰り返しパターンの周期の整数倍だけずらした画像データと、それをさらに繰り返しパターンの周期の整数倍だけずらして画像データA〜Cとしてもよく、さらに、3つの別々の被検査物1を一つ一つ撮影して画像データA〜Cとしてもよい。
取得された画像データA〜Cのうち1つの画像データBは2系統に出力され、第1画像比較手段14Aには、画像データA,Bが、第2画像比較手段14Bには画像データB,Cが入力される。第1画像比較手段14A及び第2画像比較手段14Bに入力された画像データA,B及び画像データB,Cは、画像の位置ずれが補正された後に夫々比較され、それらの差が差の符号を保ったまま差画像データD,Eとして出力される。
符号付差画像データD,Eは、差画像比較手段15に入力され、そこで、さらに比較され符号付差画像の差のデータFが出力される。符号付差画像の差のデータFは、判別手段16に入力され、そこで閾値処理され、良否が判定される。
具体的に、外観的に異常のある部分の画像の異常信号レベルと異常のない部分の画像のノイズレベルとの差が拡大できる理由を図2を用いて説明する。
この例では、画像入力部7(図1)から送られてきた3つの画像データA〜Cに、共通のパターン18が存在し、画像データBには欠陥部19も存在する。これら画像データA〜Cの欠陥部19を通るX−X線断面の信号形状は、(20A)〜(20C)となる。
第1画像比較手段14A(図1)で、画像データAから画像データBを引いて差画像データDを生成すると、この差画像データDでは、欠陥部19Aは正の画素値aを持つ。欠陥部19Aのない部分は、撮像素子13(図1)のノイズや撮像時の振動の影響等によってランダムなノイズ成分bをもつ。そこで、この差画像データDのSN比をa/bで表すことができる。
また、第2画像比較手段14B(図1)で、画像データBから画像データCを引いて差画像データEを生成すると、この差画像データEでは、欠陥部19Bは負の画素値−aを持つ。欠陥部19Bのない部分のノイズ成分は、画像データDと同じノイズ成分bと近似する。そこで、この差画像データEのSN比も画像データDと同じa/bで表すことができる。
このように、符号を持った差画像データD,Eは、差画像比較手段15(図1)に入力されて比較されるが、欠陥部19A,19Bでは、逆符号の画素値a,−aを有するので、生成される差のデータFにおける欠陥部19Cの画素値a´は2aで近似できる。一方、欠陥部のない部分のランダムなノイズ成分b´は、差画像データD,Eとで無相関にあるので、これらの差をとっても1.4bにしかならない。
したがって、差画像データD,Eの差のデータFのSN比は、a´/b´=1.4a/bとなる。
このように、符号付差画像データD,Eの差のデータFでは、ランダムなノイズ成分に対して画素値を1.4倍高くすることができ、したがって、その分異常信号レベルとノイズレベルとの差を拡大して検出感度を向上することができるのである。これは、云い代えれば、より小さな欠陥を検出することが可能になることである。
次に、本発明による被検査物の外観検査装置の第2の実施の形態を図4に基づいて説明する。
本実施の形態においても、外観検査装置2が、大きく分けて被検査物1の画像データを取得する画像データ取得手段3と画像処理部20とから構成されている点で、第1の実施の形態と同じである。ただ、本実施の形態においては、画像処理部20において画像データが時系列的に処理される点で、第1の実施の形態と大きく異なる。尚、画像データ取得手段3は第1の実施の形態と同じであるので、再度の説明は省略する。
即ち、画像データ取得手段3の画像入力部7から次々に画像データが入力される画像処理部20は、画像入力部7から出力された画像データを入力する画像メモリ等の第1遅延回路21と、画像入力部7から出力された画像データ及び第1遅延回路21を経由した画像データとを入力して比較する画像比較手段22とを備えている。第1遅延回路21では、一つの画像データが取得される時間に相当する時間だけ、画像データを出力するタイミングが遅延される。
画像比較手段22では、第1遅延回路21に先行して入力され遅延されて出力される画像データと新規に画像入力部7から入力される画像データとの画像の位置合わせが行われ、その後に、両画像データの差が求められ、差画像データを出力する。差画像データは、差の符号を持ったものである。尚、両画像の位置合わせ情報が差画像データに付与されて出力される。
また、画像処理部20は、画像比較手段22から出力された符号付差画像データを入力する第2遅延回路23と、画像比較手段22から出力された符号付差画像データと第2遅延回路23を経由した符号付差画像データとを入力してその差を計算する差画像比較手段24と、差画像比較手段24から出力された符号付差画像の差を閾値処理して異常の有無を判別する判断手段16とを備えている。
次に上記構成の外観検査装置2の検査方法について説明する。
被検査物1である複数のチップ17(図3)が形成された半導体ウェハを安置したステージ5を、スキャンラインに沿って移動させ、画像を取得すると、隣り合うチップ17A,17B,17Cの画像データA,B,Cが時系列で取得される。
画像処理部20では、最初に取得されたチップ17Aの画像データAが、第1遅延回路21に入力されると共に、画像比較手段22に入力される。続いて、取得されたチップ17Bの画像データBが同様に第1遅延回路21に入力されると共に、画像比較手段22に入力される。このとき、画像比較手段22では、チップ17Bの画像データBと先行して第1遅延回路21に入力されたチップ17Aの画像データAが比較される。
具体的に、画像比較手段22では、チップ17Aの画像データAとチップ17Bの画像データBとの位置ずれが補正された後、両画像データの差が差画像データDとして求められる。このように求められた差画像データDには、差のデータと共に位置合わせ情報が付与されており、この差画像データDは次の手段である第2遅延回路と23差画像比較手段24とに入力される。
さらに、取得されたチップ17Cの画像データCが、第1遅延回路21に入力されると共に、画像比較手段22に入力される。画像比較手段22に入力されたチップ17Cの画像データCは、先行して第1遅延回路21に入力されているチップ17Bの画像データBと比較され、チップ17Bの画像データBとチップ17Cの画像データCとの位置ずれが補正された後、両画像データの差が差画像データEとして求められる。このように求められた差画像データEには、差のデータと共に位置合わせ情報が付与されており、この差画像データEは次の手段である第2遅延回路23と差画像比較手段24とに入力される。
差画像比較手段24では、符号付の差画像データEと先行して第2遅延回路23を経由して入力された符号付差画像データDと比較される。そして、差画像データの位置ずれが補正された後、両差画像データの差のデータFが求められる。
このように求められた差画像の差のデータFは、判別手段16に入力され、閾値処理されて異常部の有無が判別される。
尚、被検査物1の種類によっては、欠陥部の存在が画像比較手段22での比較で十分判断できるものは、画像比較手段22からの出力を、2点鎖線で示すように、直接判断手段16に入力するようにしてもよく、直接入力したことにより判断ができない場合には、差画像比較手段24での比較を行ってから判断手段16に入力するようにしてもよい。
以上説明したように本発明は、少なくとも3つの画像データの異なる画像データを比較して少なくとも2つの符号付差画像データを作成し、さらに異なる符号付差画像データの差を閾値処理するようにしたことで、異常信号レベルとノイズレベルとの差を拡大して検出感度を向上することができるのである。
ところで、上記被検査物の外観検査装置においては、光学像を取得して適用した例を示したが、電子線を用いて取得した画像を利用して検査することを妨げない。
さらに本発明による各実施の形態では、ハードウェアにより画像データを処理しているが、画像データ処理の一部または全てをソフトウェアで処理することを妨げない。
この外、本実施の形態においては、画像比較手段14,22で画像データA−B間及び画像データB−C間の画像のずれを補正して位置合わせした情報を符号化して差画像データD,Eに付して差画像比較手段15,24に入力させている。しかし、位置合わせ情報を差画像比較手段15,24に入力させることは必須ではなく、例えば、図1に示す実施の形態において、位置合わせする際、画像データBを基準に画像データA,Cの画像位置を調整すれば、差画像データD,Eには画像のずれはない。したがって、差画像比較手段15,24に位置合わせ情報を入力させることも、差画像比較手段15,24で位置合わせする必要はない。
さらにまた、上記各実施の形態においては、チップ17同士の画像データA〜Cを比較する例を示したが、同一チップ17内で同一形状が繰り返し形成される領域(セル部)で、その繰り返し周期の定数倍、画像データをずらして画像を比較する場合(セル比較)にも適用することができる。
本発明による被検査物の外観検査装置の第1の実施の形態を示すブロック図。 図1による画像データの変化を示す説明図。 図1に用いられる被検査物の例を示す平面図。 本発明による被検査物の外観検査装置の第2の実施の形態を示すブロック図。
符号の説明
1…被検査物、2…外観検査装置、3…画像データ取得手段、4…画像処理部、14,22…画像比較手段、15,24…差画像比較手段、16…判別手段、21…第1遅延回路、23…第2遅延回路、A〜C…画像データ、D,E…差画像データ、F…差画像の差のデータ。

Claims (10)

  1. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査方法において、被検査物の画像データを複数取得する第1の工程と、異なる画像データを比較して符号付差画像データを取得する第2の工程と、異なる符号付差画像データを比較する第3の工程と、第3の工程で得られたデータを閾値処理する第4の工程とを有する被検査物の外観検査方法。
  2. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査方法において、被検査物の画像データを少なくとも3つ取得する第1の工程と、異なる画像データを比較して少なくとも2つの符号付差画像データを作成する第2の工程と、異なる符号付差画像データを比較する第3の工程と、第3の工程で得られたデータを閾値処理する第4の工程とを有する被検査物の外観検査方法。
  3. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査方法において、被検査物の画像データを少なくとも3つ取得する第1の工程と、第1の画像データと第2の画像データ及び第2の画像データと第3の画像データを比較して第1の符号付差画像データ及び第2の符号付差画像データを作成する第2の工程と、第1の符号付差画像データと第2の符号付差画像データを比較する第3の工程と、第3の工程で得られたデータを閾値処理する第4の工程を有する被検査物の外観検査方法。
  4. 前記第1の工程で取得される画像データは、それぞれ別の被検査物より得られたデータである請求項3記載の被検査物の外観検査方法。
  5. 前記第1の工程で取得される画像データは、一つの被検査物より得られたデータである請求項3記載の被検査物の外観検査方法。
  6. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査装置において、被検査物の画像データを複数取得する画像データ取得手段と、この画像データ取得手段により取得された画像データを比較して複数の符号付差画像データを作成する画像比較手段と、この差画像比較手段により作成された符号付差画像データを比較する差画像比較手段と、この差画像比較手段で得られたデータを閾値処理する判別手段を備えてなる被検査物の外観検査装置。
  7. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査装置において、被検査物の画像データを第1〜第3の少なくとも3つ取得する画像データ取得手段と、画像データ取得手段により取得された第1の画像データと第2の画像データ及び第2の画像データと第3の画像データを比較して第1の符号付差画像データ及び第2の符号付差画像データを作成する画像比較手段と、画像比較手段により作成された第1の符号付差画像データと第2の符号付差画像データを比較する差画像比較手段と、差画像比較手段により作成された比較データを閾値処理する判別手段を備えたことを特徴とする被検査物の外観検査装置。
  8. 撮像した被検査物の画像を比較し、その画像の差から被検査物の外観を検査する被検査物の外観検査装置において、少なくとも3つの被検査物から取得した第1の画像データ〜第3の画像データ或いは1つの被検査物から取得した3つの画像データを取得する第1の工程と、第1の画像データと第2の画像データを比較して第1の差画像データを符号付で保持すると共に、第2の画像データと第3の画像データを比較して第2の差画像データを符号付きで作成する第2の工程と、第1及び第2の符号付差画像データを比較する第3の工程と、第3の工程で得られたデータを閾値処理する第4の工程とを有する被検査物の外観検査方法。
  9. 第1の符号付差画像データ及び第2の符号付差画像データを取得するに際し、第1の画像データと第2の画像データのパターン及び第2の画像データと第3の画像データのパターンの位置ずれを補正してから差を算出し、また、第1の符号付差画像データと第2の符号付差画像データの差を算出するに際し、第1の差画像データ算出に用いた位置ずれ情報と第2の差画像データ算出に用いた位置ずれ情報とを用い、第1の符号付差画像データと第2の符号付差画像データの位置ずれを補正してから差を計算するようにしたことを特徴とする被検査物の外観検査方法。
  10. 撮像素子によって時系列で取得された画像データを2系統に分配し、分配した一方を第1の遅延回路を経て画像比較部に入力すると共に、分配した他方を直接画像比較部に入力させ、かつ画像比較部で得た符号付差画像データを2系統に分配し、分配した一方を第2の遅延回路を経て差画像比較部に入力すると共に、分配した他方を直接差画像比較部に入力させ、差画像比較部で得られたデータを閾値処理するようにしたことを特徴とする被検査物の外観検査方法。
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