JP2007033073A - 欠陥検査方法及び外観検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一の閾値と、それより低い第二の閾値を用いる。ダイ比較の場合には、閾値処理部52a,52bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第二の閾値で閾値判定し、検査チップの欠陥候補を求める。さらに、閾値処理部51a、51bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第一の閾値で閾値判定し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、少なくとも左右どちらかのチップとの差画像で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。セル比較の場合にも、差画像を、まず第二の閾値で処理して欠陥候補を求め、さらに、差画像を第一の閾値でも処理し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、2つのピークのうち少なくとも一方で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。
【選択図】 図1
Description
2…外観検査装置
3…画像データ取得部
4…画像処理部
7,70…画像入力部
11,11a,11b…画像比較部
51,51a,51b,52,52a,52b…閾値処理部
12…欠陥候補判定部
13…欠陥検出部
31,32,33…被検査物の画像あるいはそのデータ
41,42,73…被検査物の2つの画像データから生成された差画像あるいはそのデータ
Claims (4)
- 被検査物の、それぞれ同等のパターンが形成された異なる3箇所の画像を取得する工程と、
第1の画像と第2の画像の差を第1の閾値で処理する第1の処理工程と、
第1の画像と第2の画像の差を前記第1の閾値より小さい第2の閾値で処理する第2の処理工程と、
第2の画像と第3の画像の差を前記第1の閾値で処理する第3の処理工程と、
第2の画像と第3の画像の差を前記第2の閾値で処理する第4の処理工程と、
前記第2の処理工程と第4の処理工程でともに第2の閾値を超えた画素を欠陥候補とする工程と、
前記欠陥候補のうち、前記第1の処理工程と第3の処理工程の少なくとも一方で前記第1の閾値を超えた画素を欠陥と判定する工程と
を有することを特徴とする欠陥検査方法。 - 周期構造をもった被検査物の第1の画像を用い、前記周期構造の周期の整数倍だけ位置をずらした第2の画像を生成する工程と、
前記第1の画像と第2の画像との差画像を第2の閾値で処理する工程と、
前記差画像に前記第2の閾値を超えるピークが前記位置をずらした距離と同じ間隔で2箇所に現われた場合に欠陥候補とする工程と、
前記欠陥候補とされた2箇所のピークのうち少なくとも一方が前記第2の閾値より大きな第1の閾値を越えている場合に、前記ピークに対応する前記第1の画像の画素を欠陥として判定する工程と
を有することを特徴とする欠陥検査方法。 - 被検査物の画像データを取得する画像データ取得部と、
前記画像データ取得部で取得した第1の画像と第2の画像の差を第1の閾値で処理する第1の処理部と、
前記第1の画像と第2の画像の差を前記第1の閾値より小さい第2の閾値で処理する第2の処理部と、
前記画像データ取得部で取得した前記第2の画像と第3の画像の差を第1の閾値で処理する第3の処理部と、
前記第2の画像と第3の画像の差を前記第2の閾値で処理する第4の処理部と、
前記第2の処理部と第4の処理部でともに前記第2の閾値を超えた画素を欠陥候補とする欠陥候補判定部と、
前記欠陥候補判定部で欠陥候補とされた画素のうち、前記第1の処理部と第3の処理部の少なくとも一方で前記第1の閾値を超えた画素を欠陥と判定する欠陥検出部と
を備えることを特徴とする外観検査装置。 - 被検査物の画像データを取得する画像データ取得部と、
前記画像データ取得部で取得した被検査物の第1の画像に対して、前記被検査物の有する周期構造の周期の整数倍だけ位置をずらした第2の画像を生成する画像生成部と、
前記第1の画像と第2の画像との差画像を第2の閾値で処理する処理部と、
前記差画像に前記第2の閾値を超えるピークが前記位置をずらした距離と同じ間隔で2箇所に現われた場合に欠陥候補とする欠陥候補判定部と、
前記欠陥候補とされた2箇所のピークのうち少なくとも一方が前記第2の閾値より大きな第1の閾値を越えている場合に、前記ピークに対応する前記第1の画像の画素を欠陥として検出する欠陥検出部と
を備えることを特徴とする外観検査装置。
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