JPS6135303A - パタ−ン欠陥検査装置 - Google Patents
パタ−ン欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS6135303A JPS6135303A JP15536784A JP15536784A JPS6135303A JP S6135303 A JPS6135303 A JP S6135303A JP 15536784 A JP15536784 A JP 15536784A JP 15536784 A JP15536784 A JP 15536784A JP S6135303 A JPS6135303 A JP S6135303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- defect
- signal
- image
- contour
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は２次元図形パターンの欠陥検査装置に係り、特
にホトマスクやＬＳＩウエノ１等のパターンの欠陥検査
に好適女パターン欠陥検査装置に関する。
にホトマスクやＬＳＩウエノ１等のパターンの欠陥検査
に好適女パターン欠陥検査装置に関する。
従来のこの種のパターン欠陥検査装置では、被検査パタ
ーンと手本パターンとを比較してその差異が許容限度を
越えると欠陥と判定するが、この比較のためには被検査
パターンと手本パターンとを厳密に位置合せすることが
重要である。
ーンと手本パターンとを比較してその差異が許容限度を
越えると欠陥と判定するが、この比較のためには被検査
パターンと手本パターンとを厳密に位置合せすることが
重要である。
しかしながらパターンのエツジ部分（境界部分）では、
量子化誤差や寸法合せ誤差などのために厳密に位置合せ
することは困難である。このためパターンエツジ部（境
界部）で疑似欠陥（正常パターンでありながらみかけ上
欠陥と判定されるもの）が多数発生する。これを防止す
るため特公昭５４−３７４７５ 公報に開示されてい
る従来例では、フライングスポットスキャナで撮像し次
パターン信号を２値化した後の信号音遅延線を用いて遅
らせることにより、水平卦よぴ垂直方向の輪郭を創成し
てこの部分全不感帯とじている。
量子化誤差や寸法合せ誤差などのために厳密に位置合せ
することは困難である。このためパターンエツジ部（境
界部）で疑似欠陥（正常パターンでありながらみかけ上
欠陥と判定されるもの）が多数発生する。これを防止す
るため特公昭５４−３７４７５ 公報に開示されてい
る従来例では、フライングスポットスキャナで撮像し次
パターン信号を２値化した後の信号音遅延線を用いて遅
らせることにより、水平卦よぴ垂直方向の輪郭を創成し
てこの部分全不感帯とじている。
第１図はこの従来例の欠陥検出過程を示す波形図で、水
平方向の輪郭を作り出して欠陥検出する過程を示してい
る。す々わち、左パターンの検出信号（欠陥部有り）Ａ
、右パターンの検出信号Ｂの各輪郭部信号ＡＩ 、 Ｂ
′の論理積をとって輪郭信号Ｃ（＝Ａ’八Ｂへ ）とす
る一方、検出信号Ａ、Ｂを減算した信号Ｄｌ（＝Ａ−Ｂ
）を白。
平方向の輪郭を作り出して欠陥検出する過程を示してい
る。す々わち、左パターンの検出信号（欠陥部有り）Ａ
、右パターンの検出信号Ｂの各輪郭部信号ＡＩ 、 Ｂ
′の論理積をとって輪郭信号Ｃ（＝Ａ’八Ｂへ ）とす
る一方、検出信号Ａ、Ｂを減算した信号Ｄｌ（＝Ａ−Ｂ
）を白。
黒レベルしきい値＋Ｔｈ 、−Ｔｈで２値化した信号（
欠陥候補抽出信号）Ｄ、−６取り出して、この信号Ｄ！
と上記輪郭信号Ｃの否定信号でとの論理積金とって欠陥
信号Ｄ （＝ Ｄ、凸τ）としている。
欠陥候補抽出信号）Ｄ、−６取り出して、この信号Ｄ！
と上記輪郭信号Ｃの否定信号でとの論理積金とって欠陥
信号Ｄ （＝ Ｄ、凸τ）としている。
しかしながらこの従来装置では、水平および垂直方向だ
けに作用するもので、それ以外の方向ニラいてはパター
ンエツジ部（境界部）の疑似欠陥を厳密に除去できなり
問題点を有している。
けに作用するもので、それ以外の方向ニラいてはパター
ンエツジ部（境界部）の疑似欠陥を厳密に除去できなり
問題点を有している。
本発明の目的は上記した従来技術の問題点を解決し、パ
ターン比較検査のさいノくターンエツジ部分（境界部分
）で量子化誤差や位置合せ誤差による不一致のため発生
しつる疑似欠陥をより厳密に除去できるパターン欠陥検
査装置を提供するにある。
ターン比較検査のさいノくターンエツジ部分（境界部分
）で量子化誤差や位置合せ誤差による不一致のため発生
しつる疑似欠陥をより厳密に除去できるパターン欠陥検
査装置を提供するにある。
本発明は、２つのパターンを比較して検査するさいに、
一方のパターン（手本パターン）から該パターンを全方
向に拡大したパターンと縮小したパターンを創成し、こ
の拡大パターンの内側と縮小パターンの外側の間では欠
陥判定を行わない（横歪不感帯とする）ことによって、
パターンエツジ部（境界部）で発生する疑似欠陥を除去
するようにしたパターン欠陥検査装置である。
一方のパターン（手本パターン）から該パターンを全方
向に拡大したパターンと縮小したパターンを創成し、こ
の拡大パターンの内側と縮小パターンの外側の間では欠
陥判定を行わない（横歪不感帯とする）ことによって、
パターンエツジ部（境界部）で発生する疑似欠陥を除去
するようにしたパターン欠陥検査装置である。
以下に本発明の一実施例を第２図ないし第１０図により
説明する。
説明する。
第２図は本発明によるホトマスクのパターン欠陥検査装
置の一実施例を示す全体構成図である。第２図において
、ＸＹステージ１の上に搭載したホトマスク２の対応す
る２つの集積回路チップパターンは、それぞれ対物レン
ズ３．４により拡大され、その像をリニアイメージセン
サ等のパターン検出器（撮像器）５．６により検出して
、電気信号に変換され次パターン検出信号ｐ、、ｐＢを
欠陥判定処理回路７により比較して検査される。
置の一実施例を示す全体構成図である。第２図において
、ＸＹステージ１の上に搭載したホトマスク２の対応す
る２つの集積回路チップパターンは、それぞれ対物レン
ズ３．４により拡大され、その像をリニアイメージセン
サ等のパターン検出器（撮像器）５．６により検出して
、電気信号に変換され次パターン検出信号ｐ、、ｐＢを
欠陥判定処理回路７により比較して検査される。
第３図（ａｌ 、 （Ａｌはそれぞれ第２図のレンズ３
゜４を介しパターン検出器（撮像器）５．６で検出した
パターン検出信号Ｆ、 、ＰＢのパターン像を例示する
図で、それぞれ視野内のパターンＡは欠陥がないがパタ
ーンＢに欠陥８がある。第４図は第３図のパターンＡと
パターン検出器ね合わせた状態を例示する図で、両パタ
ーンの位置合せ全精密に行なっても位置合・せ誤差によ
るパターンエツジ部分（境界部分）のパターン誤差δだ
けが残る。したがって、このままの状態で欠陥判定処理
回路７により両パターン像を比較すると、パターン誤差
δの部分は本来正常な部分であるが不一致部分として欠
陥と判定されるそこで第５図は本発明により手本パター
ンから拡大パターンと縮小パターンを創成して両者の間
の部分では欠陥判定を行なわないようにする説明図で、
たとえば第３図に示すパターンＡｆ手本パターン９とし
て、第１２図に示すように対物レンズｄａ、ハーフミラ
−４０％及び中間レンズ４−で拡大してリニアイメージ
センサ等の検出器６ｈに結像され、この検出器６ｈで検
出される全方向に拡大したパターン１０と、第１２図に
示すように対物レンズ４ｇ、ハーフミラ−４ｂ１及び中
間レンズ４ｄで縮小してリニアイメージセンサ等の検出
器６αに結像され、この検出器６αで検出される全方向
に縮小したパターンとを創成出力し、拡大パターン１０
から縮小パターン１１を減算して輪郭パターン１２ヲえ
、この輪郭パターン１２の部分では欠陥判定を行なわれ
るようにすれば、パターンエツジ部分（境界部分）の疑
似欠陥を除去できる。
゜４を介しパターン検出器（撮像器）５．６で検出した
パターン検出信号Ｆ、 、ＰＢのパターン像を例示する
図で、それぞれ視野内のパターンＡは欠陥がないがパタ
ーンＢに欠陥８がある。第４図は第３図のパターンＡと
パターン検出器ね合わせた状態を例示する図で、両パタ
ーンの位置合せ全精密に行なっても位置合・せ誤差によ
るパターンエツジ部分（境界部分）のパターン誤差δだ
けが残る。したがって、このままの状態で欠陥判定処理
回路７により両パターン像を比較すると、パターン誤差
δの部分は本来正常な部分であるが不一致部分として欠
陥と判定されるそこで第５図は本発明により手本パター
ンから拡大パターンと縮小パターンを創成して両者の間
の部分では欠陥判定を行なわないようにする説明図で、
たとえば第３図に示すパターンＡｆ手本パターン９とし
て、第１２図に示すように対物レンズｄａ、ハーフミラ
−４０％及び中間レンズ４−で拡大してリニアイメージ
センサ等の検出器６ｈに結像され、この検出器６ｈで検
出される全方向に拡大したパターン１０と、第１２図に
示すように対物レンズ４ｇ、ハーフミラ−４ｂ１及び中
間レンズ４ｄで縮小してリニアイメージセンサ等の検出
器６αに結像され、この検出器６αで検出される全方向
に縮小したパターンとを創成出力し、拡大パターン１０
から縮小パターン１１を減算して輪郭パターン１２ヲえ
、この輪郭パターン１２の部分では欠陥判定を行なわれ
るようにすれば、パターンエツジ部分（境界部分）の疑
似欠陥を除去できる。
第６図は第２図の欠陥判定処理回路７内の拡大パターン
と縮小パターンを創成する前段の局所画像切出し回路（
多値切出し回路）全例示する回路図で、検出された画像
信号ｐ、からシフトレジスタ１３．１４により手本パタ
ーン９を形成する画素の３×３局所画像１５を切り出す
。なおこのシフトレジスタ１６−４はすべて多階調のパ
ターンを切り出すために、多階調たとえば８ビツトの濃
度情報をもつものである。−！た第７図は第６図により
切カ出しｆＣ，３×３局所画偉１５ヲ示す図である。第
７図の局所面（ｉｌｉ１５の画像データ？、−Ｐ、につ
いて、 ｐｔ＝帽Ｉｓ （Ｐ、 −Ｐ（、） ｌ
ｔ）として、このＰｔでＰ、を置換すれば、この処理を
全画面に施すことにより拡大パターン１０ヲうろことが
できる。着た逆に、 Ｐｚ＝ｍｉル（Ｐ、〜Ｐ、 ） （２１
として、このＩＩでＰａｔ置換すれば、この処理を全画
面に施すことにより縮小パターン１１をうることができ
る。
と縮小パターンを創成する前段の局所画像切出し回路（
多値切出し回路）全例示する回路図で、検出された画像
信号ｐ、からシフトレジスタ１３．１４により手本パタ
ーン９を形成する画素の３×３局所画像１５を切り出す
。なおこのシフトレジスタ１６−４はすべて多階調のパ
ターンを切り出すために、多階調たとえば８ビツトの濃
度情報をもつものである。−！た第７図は第６図により
切カ出しｆＣ，３×３局所画偉１５ヲ示す図である。第
７図の局所面（ｉｌｉ１５の画像データ？、−Ｐ、につ
いて、 ｐｔ＝帽Ｉｓ （Ｐ、 −Ｐ（、） ｌ
ｔ）として、このＰｔでＰ、を置換すれば、この処理を
全画面に施すことにより拡大パターン１０ヲうろことが
できる。着た逆に、 Ｐｚ＝ｍｉル（Ｐ、〜Ｐ、 ） （２１
として、このＩＩでＰａｔ置換すれば、この処理を全画
面に施すことにより縮小パターン１１をうることができ
る。
第８図は第２図の欠陥判定処理回路７内の拡大パターン
と縮小パターンを創成して輪郭信号ｔうる回路の一実施
例を示す回路図である。第８図において、第６図で切り
出された第７図の３×３局所画像１５の画像データｐ、
ｐ、から最大値検出回路１６により拡大パターン画素信
号（拡大画像信号）ｐｔ’２つる一方、最小値検出回路
１７により縮小パターン画素信号（縮小画像信号）Ｐｓ
ｆうる。この両信号から差動増幅器１８によりパターン
の輪郭画素信号Ｐｏ （Ｐ ｏ ＝ＰＬ −Ｐｇ ）が
取り出される。また第９図は第８図の各信号Ｐｉ ｓＰ
ｔ 、Ｐｓ、Ｐｏの波形側図で、この輪郭画素信号Ｐ
ｏは手本パターン信号９のパターン画素信号（画像信号
）Ｐ、に対する輪郭信号となっているので、この信号を
欠陥判定のさいの不感帯信号（マスク信号）にすること
ができる。
と縮小パターンを創成して輪郭信号ｔうる回路の一実施
例を示す回路図である。第８図において、第６図で切り
出された第７図の３×３局所画像１５の画像データｐ、
ｐ、から最大値検出回路１６により拡大パターン画素信
号（拡大画像信号）ｐｔ’２つる一方、最小値検出回路
１７により縮小パターン画素信号（縮小画像信号）Ｐｓ
ｆうる。この両信号から差動増幅器１８によりパターン
の輪郭画素信号Ｐｏ （Ｐ ｏ ＝ＰＬ −Ｐｇ ）が
取り出される。また第９図は第８図の各信号Ｐｉ ｓＰ
ｔ 、Ｐｓ、Ｐｏの波形側図で、この輪郭画素信号Ｐ
ｏは手本パターン信号９のパターン画素信号（画像信号
）Ｐ、に対する輪郭信号となっているので、この信号を
欠陥判定のさいの不感帯信号（マスク信号）にすること
ができる。
！１０図は第２図の欠陥判定処理回路７内の欠陥判定回
路の一実施例を示す回路図である。第１０図において、
たとえば第２図のパターン検出器（撮像器）５により検
出されたパターンＡを手本パターン９とする画像信号Ｐ
Ａの手本パターン画素信号（画像信号）Ｐ、と、対応す
るパターン検出器（撮像器）６により検出されたパター
ンＢｆ検査パターンとする画像信号ｐ、の検査パターン
画素信号Ｐ、Ｂとを比較器１９により比較判定して、ゲ
ート２１へ出力する。一方で第８図により パターンＡ
ｆ手本パターンとしてえたパターン輪郭画素信号ＰＯが
所定しきい値Ｔ、を越えると比較器２０よりネ感歪信号
（マスク信号） ｐｏ。
路の一実施例を示す回路図である。第１０図において、
たとえば第２図のパターン検出器（撮像器）５により検
出されたパターンＡを手本パターン９とする画像信号Ｐ
Ａの手本パターン画素信号（画像信号）Ｐ、と、対応す
るパターン検出器（撮像器）６により検出されたパター
ンＢｆ検査パターンとする画像信号ｐ、の検査パターン
画素信号Ｐ、Ｂとを比較器１９により比較判定して、ゲ
ート２１へ出力する。一方で第８図により パターンＡ
ｆ手本パターンとしてえたパターン輪郭画素信号ＰＯが
所定しきい値Ｔ、を越えると比較器２０よりネ感歪信号
（マスク信号） ｐｏ。
を出力し、この出力をゲート２１の制御に用いて欠陥検
出信号Ｐｄヲ出力する。
出信号Ｐｄヲ出力する。
なお、上記実施例では拡大および縮小パターンを創成す
るのに３×３局所画像を用いているが、５Ｘ５，７×７
等局所画像を用いてもよい。
るのに３×３局所画像を用いているが、５Ｘ５，７×７
等局所画像を用いてもよい。
また光学的に拡大および縮小したパターンを用いても同
様の効果が期待できる。
様の効果が期待できる。
以上のように本発明のパターン欠陥検査装置によれば、
従来装置で厳密性を欠すていた斜方向をはじめ全方向の
パターンの比較検査がより精密化できる。
従来装置で厳密性を欠すていた斜方向をはじめ全方向の
パターンの比較検査がより精密化できる。
第１図は従来のパターン欠陥検査装置の欠陥検出過程を
例示する各波形図、第２図は本発明によるパターン欠陥
検査装置の一実施例を示す構成図、第３図＋５１ 、
（ＡＩ Ｆｉそれぞれ第２図の検出パターン像を例示す
る図、第４図は第３図（ａ）。 （Ａｌのパターンを重ね合わせた図、第５図は第２図の
拡大および縮小パターンを創成する説明図、第６図は第
２図の欠陥判定処理回路内の局所画像切出し回路図、第
７図は第６図の局所画像図、第８図は第２図の欠陥判定
処理回路内の拡大および縮小パターン創成回路図、第９
図は第８図の各波形側図、第１０図は第２図の欠陥判定
処理回路内の欠陥判定回路図、第１１図は第２図に示す
パターン検出光学系を具体的に示した図である。 １・・・ＸＹステージ ２・・・ホトマスク３．４
・・・対物レンズ ５．６・・・パターン検出器（撮像器）７・・・欠陥判
定処理回路 ８・・・欠陥９・・・手本パターン
１０・・・拡大パターン１１・・・１ｍ 小パターン
１２・・・輪郭パターン１３．１４・・・３×３局
所画像切出し回路のシフトレジスタ １５・・・３×３局所画像 １６・・・拡大および縮小パターン創成回路の最大値検
出回路 １７・・・同じく最小値検出回路 １８・・・差動増幅器 １９．２０・・・欠陥判定回路の比較器２１・・・ゲー
） ＰＡ＊Ｐａ・・・画像信号ｐ、−ｐ、
・・・パターン画素信号（画像データ）ｐｔ・・・拡大
パターン画素信号 Ｐｉ・・・縮小パターン画素信号 ｐｏ・・・パターン輪郭画素信号 Ｐｏｏ・・・不感帯信号（マスク信号）Ｆｄ・・・欠陥
検出信号
例示する各波形図、第２図は本発明によるパターン欠陥
検査装置の一実施例を示す構成図、第３図＋５１ 、
（ＡＩ Ｆｉそれぞれ第２図の検出パターン像を例示す
る図、第４図は第３図（ａ）。 （Ａｌのパターンを重ね合わせた図、第５図は第２図の
拡大および縮小パターンを創成する説明図、第６図は第
２図の欠陥判定処理回路内の局所画像切出し回路図、第
７図は第６図の局所画像図、第８図は第２図の欠陥判定
処理回路内の拡大および縮小パターン創成回路図、第９
図は第８図の各波形側図、第１０図は第２図の欠陥判定
処理回路内の欠陥判定回路図、第１１図は第２図に示す
パターン検出光学系を具体的に示した図である。 １・・・ＸＹステージ ２・・・ホトマスク３．４
・・・対物レンズ ５．６・・・パターン検出器（撮像器）７・・・欠陥判
定処理回路 ８・・・欠陥９・・・手本パターン
１０・・・拡大パターン１１・・・１ｍ 小パターン
１２・・・輪郭パターン１３．１４・・・３×３局
所画像切出し回路のシフトレジスタ １５・・・３×３局所画像 １６・・・拡大および縮小パターン創成回路の最大値検
出回路 １７・・・同じく最小値検出回路 １８・・・差動増幅器 １９．２０・・・欠陥判定回路の比較器２１・・・ゲー
） ＰＡ＊Ｐａ・・・画像信号ｐ、−ｐ、
・・・パターン画素信号（画像データ）ｐｔ・・・拡大
パターン画素信号 Ｐｉ・・・縮小パターン画素信号 ｐｏ・・・パターン輪郭画素信号 Ｐｏｏ・・・不感帯信号（マスク信号）Ｆｄ・・・欠陥
検出信号
Claims (1)
- ２つの対応するパターンを検出してパターン信号をう
る手段と、上記２つのパターン信号を比較して該パター
ンの欠陥判定を行ないパターン欠陥信号をうる手段と、
上記一方のパターン信号あるいは光学的なパターンその
ものより該パターンの拡大パターンおよび縮小パターン
を創成して拡大パターン信号および縮小パターン信号を
うる手段と、上記拡大パターン信号および縮小パターン
より両信号差をとりパターン輪郭信号をうる手段と、上
記パターン欠陥信号を上記パターン輪郭信号によりマス
クし該パターン輪郭部を不感帯として出力する手段とか
らなるパターン欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15536784A JPS6135303A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | パタ−ン欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15536784A JPS6135303A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | パタ−ン欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6135303A true JPS6135303A (ja) | 1986-02-19 |
Family
ID=15604372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15536784A Pending JPS6135303A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | パタ−ン欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6135303A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616360A (ja) * | 1984-06-16 | 1986-01-13 | 木村 恭次 | パイル植毛ミシン |
| JPH0452773A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-20 | Seikosha Co Ltd | 画像監視方法 |
| JPH04353990A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Hitachi Eng Co Ltd | パターンマッチングを用いる検査装置およびパターンマッチング方法 |
| US7707953B2 (en) | 2006-02-24 | 2010-05-04 | Groz-Beckert Kg | Gripper device for tufting machine |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15536784A patent/JPS6135303A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616360A (ja) * | 1984-06-16 | 1986-01-13 | 木村 恭次 | パイル植毛ミシン |
| JPS6218663B2 (ja) * | 1984-06-16 | 1987-04-23 | Kyoji Kimura | |
| JPH0452773A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-20 | Seikosha Co Ltd | 画像監視方法 |
| JPH04353990A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Hitachi Eng Co Ltd | パターンマッチングを用いる検査装置およびパターンマッチング方法 |
| US7707953B2 (en) | 2006-02-24 | 2010-05-04 | Groz-Beckert Kg | Gripper device for tufting machine |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI412739B (zh) | 缺陷檢測方法及缺陷檢測裝置 | |
| US6272236B1 (en) | Inspection technique of photomask | |
| KR900005350B1 (ko) | 패턴 결함 검출 방법 및 장치 | |
| JPS59157505A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| JP2003287505A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2776416B2 (ja) | レチクル外観検査装置 | |
| JP2005106725A (ja) | 被検査物の外観検査方法及び外観検査装置 | |
| JPS6135303A (ja) | パタ−ン欠陥検査装置 | |
| JPH08327559A (ja) | パターン検査装置およびその検査方法 | |
| JPH03278057A (ja) | パターン検査装置 | |
| KR100503274B1 (ko) | 그레이톤 마스크의 결함 검사 방법 및 결함 검사 장치 | |
| JPS6186639A (ja) | パターン検査装置 | |
| JPH058762B2 (ja) | ||
| JP2000258349A (ja) | フォトマスク外観検査装置 | |
| JP2003203218A (ja) | 外観検査装置および方法 | |
| JP4474006B2 (ja) | 検査装置 | |
| JP2712803B2 (ja) | 配線パターン検査装置 | |
| JPS61140804A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| JP2676990B2 (ja) | 配線パターン検査装置 | |
| JPH0453253B2 (ja) | ||
| JPH0617875B2 (ja) | パターン検査方法およびその装置 | |
| JPH07175205A (ja) | レチクル検査方法 | |
| JP2765339B2 (ja) | スルーホール検査装置 | |
| JP3090121B2 (ja) | 微小欠陥検出方法及び装置 | |
| JPH03252546A (ja) | 配線パターン検査装置 |