JP4009085B2 - パターン検査装置およびパターン検査方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は,パターンの良否を検査するパターン検査装置およびパターン検査方法に関する。さらに詳細には,パターン中に含まれる特定の図形について,消失や過剰等の欠陥を良好に検出できるパターン検査装置およびパターン検査方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板においては,その表面のパターンに特定の図形が含まれることがある。例えば,レーザ加工によるビアホール形成のため,上層配線板に開けられる穴がその例である。この穴は,位置,形状,径が仕様どおりに正しく形成されていないと,層間接続の失敗等の不良を引き起こすことになる。このため,穴あけ後に,穴が正しく形成されているか否かを検査する必要がある。
【0003】
この検査のための手法としては,特開2001−50906号公報に記載されている方法が挙げられる。この方法では,図6に示すように,プリント配線板の配線パターンを2値化したパターン画像に大臨界円52および小臨界円51を当てはめる。このとき,小臨界円51の内部の領域53の画素がすべて「暗」であり,大臨界円52の外側を沿う領域54の画素がすべて「明」であれば,領域53の暗画素およびこれに連続する暗画素を穴と認識する手法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら,前記した従来の検査手法には次のような問題点があった。すなわち,ダイレクトレーザ法により穴あけを行った場合,開けられた穴の周辺には,図7に示すような,銅の飛び散り(以下,「スパッタ」という)が生じる。このスパッタは,穴加工される部分の銅が飛び散ることで形成される。スパッタは,加工した穴60を囲むリング部61と,銅の飛び散り部分である放射部62とで構成されており,それぞれの形状は一定していない。そのため,従来の手法で必要なリング形状を安定して認識できない。
【0005】
また,ダイレクトレーザ加工の前段階に行われる銅箔表面の黒化処理において,ごみ等の付着により黒化処理されない箇所が生じることがある。そのような箇所として,例えば図8に示すような撮像結果が得られる場合がある。図8の例では,黒化されていない環状の部分の中に黒化された部分や汚れおよび凹んで影になる部分が存在している。従来の手法で図9のように小臨界円51,大臨界円52を適用すると,小臨界円51の内部の画素がすべて「暗」であり,大臨界円52の外側を沿う領域の画素がすべて「明」となり,穴と認識する条件を満たすこととなる。そのため,穴あけがされた箇所として誤認識してしまう。
【0006】
本発明は,前記した従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものである。すなわちその課題とするところは,銅の飛び散りに影響されず,欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
この課題の解決を目的としてなされた本発明のパターン検査装置は,ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査装置であって,穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンに基づく画像データを取得する画像データ取得部と,画像データ取得部が取得した画像データを2値化する2値化部と,2値化部により2値化された画像データを用いて,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによってリング部を認識し,取得した対象物の表面パターンのリング部を検査する検査部とを有し,画像データ取得部は,対象物を照らす照明光源と,照明光源と対象物との間に位置し照明光源からの光を拡散させる拡散手段と,対象物の表面パターンを撮像する撮像カメラとを有するものである。
【0008】
また,本発明のパターン検査方法は,ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査方法であって,拡散光で照らされた対象物の表面パターンを撮像カメラで撮像し,穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む画像データを取得する画像データ取得ステップと,取得した画像データを2値化する2値化ステップと,2値化された画像データを用い,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによってリング部を認識し,対象物のリング部の表面パターンを検査する検査ステップとを有している。
【0009】
【0010】
このパターン検査装置およびパターン検査方法では,対象物の表面パターンを拡散光で照らしている。すなわち,対象物の表面パターンは,単一方向の光ではなく,方向分布を有する光により照らされている。この対象物の表面パターンを撮像して画像データを取得し,取得した画像データを2値化する。そして,2値化された画像データを用いて対象物の表面パターンを検査する。例えば,対象物の表面にスパッタがある場合,そのリング部と放射部とでは,撮像カメラから見て明度が異なる。このため,リング部と放射部との間で明確なコントラストが得られる。そして,取得した画像データを適切な閾値で2値化することにより,リング部のみの形状を認識できる。これにより,リング部のみの形状による検査ができる。
【0011】
また,本発明の別のパターン検査装置は,ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査装置であって,穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンのうち,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによって当該リング部を認識した画像データを取得する画像データ取得部と,画像データ取得部が取得した画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識することにより対象物の表面パターンを検査する検査部とを有し,検査部における第1の検出条件は,第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,星形部および点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値である。
【0012】
また,本発明の別のパターン検査方法は,ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査方法であって,穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンのうち,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによって当該リング部を認識した画像データを取得する画像データ取得ステップと,画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識する欠陥抽出により対象物の表面パターンを検査する検査ステップとを有し,欠陥抽出における第1の検査条件として,第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,星形部および点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値であることを用いる。
【0013】
【0014】
このパターン検査装置およびパターン検査方法では,第1の被検図形の第1の検出条件として,星形部と複数の点部とで構成されるすべての位置で画像データが所定の値であることを用いる。この第1の検出条件により,所定の範囲以上に同じ値が連続している箇所を検出する。例えば,黒化処理後の対象物を撮像した画像データに対して,所定の値を「明」として第1の条件を満たす箇所は,黒化処理されていない箇所として認識することができる。これにより,黒化処理が実施されているか否かを検査することができる。
【0015】
さらに,このパターン検査装置において,画像データ取得部は,対象物を照らす照明光源と,照明光源と対象物との間に位置し照明光源からの光を拡散させる拡散手段と,対象物の表面パターンを撮像する撮像カメラとを有するものであるとよりよい。また,このパターン検査方法において,画像データ取得ステップは,拡散光で照らされた対象物の表面パターンを撮像カメラで撮像して画像データを取得するとよりよい。
【0016】
この画像データ取得部および画像データ取得ステップでは,対象物の表面パターンを拡散光で照らしている。すなわち,対象物の表面パターンは,単一方向の光ではなく,方向分布を有する光により照らされている。この対象物の表面パターンを撮像して得られた画像データを用いて対象物の表面パターンを検査する。例えば,対象物の表面にスパッタがある場合,そのリング部と放射部とでは,撮像カメラから見て明度が異なる。このため,リング部と放射部との間で明確なコントラストが得られる。そして,取得した画像データを適切な閾値で2値化することにより,リング部のみの形状を認識できる。これにより,リング部のみの形状を認識でき,併せて対象物の黒化処理されていない箇所も認識する検査をすることができる。
【0017】
さらに,第2の検出条件として,第2の被検図形に許容される最小サイズに相当する小臨界の内部の全域で画像データが所定の値であり,第2の被検図形に許容される最大サイズに相当する大臨界に沿う領域のすべての位置で画像データが別の所定の値であることを用い,第2の被検図形の存在または消失が検出された位置について第1の被検図形候補であるか否かを判断することとするとよりよい。
【0018】
この第2の検査条件を用いることにより,一定のエリアを穴あけされている箇所として認識することができる。そして,穴の存在が検出された位置について第1の検査条件を当てはめることにより,所定の範囲以上に同じ値が連続している箇所,例えば黒化処理されていない箇所を穴として誤認識しているか否かを判断することが出来る。また,穴の存在が消失した位置について第1の条件を当てはめることにより,消失した原因が例えば黒化処理されていないことであるか否かを認識することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下,本発明を具体化した実施の形態について,添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本形態は,プリント配線板の表面パターンを検査するパターン検査装置,およびその装置により実行されるパターン検査方法として本発明を適用したものである。特には,プリント配線板の製造途上で,上層銅箔に黒化処理を行った後,ダイレクトレーザ加工により上層銅箔に開けられた穴の検査のための装置および方法である。なお,本形態の検査対象物は最終製品ではなく,製造途上での中間品であるが,以下,この対象物をプリント配線板として説明する。
【0020】
本形態に係るパターン検査装置は,図1に示すように,撮像部20と検査部30とを有している。さらに,全体の統括制御を行うとともに,オペレータによる操作や検査結果の表示等を行うコンピュータ端末41が設けられている。また,コンピュータ端末41には,それ自身の表示画面の他に像モニタ42が付設されている。
【0021】
まず,撮像部20について説明する。撮像部20は,プリント配線板10上にレーザ加工等で形成されたパターン11を読み取ってパターン画像を取得する機能を有している。詳細には,パターンを撮像するテーブルカメラ部21と,アナログ画像をデジタル画像に変換するA/D変換部22と,デジタル信号を2値化する2値化部23とを有している。すなわち,2値化部23から出力される画像は,暗画素と明画素とからなる2値画像である。この画像は,おおむね,黒化処理が行われている場所やレーザ加工により開けられた穴の部分の画素が暗画素であり,それ以外の場所の画素が明画素である。ここで,それ以外の場所とは,ダイレクトレーザ加工により発生するスパッタの部分や,ごみ等により黒化処理が行われなかった部分等である。なお,本形態では,1画素のサイズを15μm四方としている。
【0022】
次に,検査部30について説明する。検査部30は,撮像部20からパターン画像を受け取り,穴の形成の良否を検査する機能を有している。詳細には,パターン画像の入力を受けてその中に含まれる穴の候補(以下,「穴候補」という)を認識する穴認識部31と,検査のためのマスタデータを記憶するマスタデータメモリ部32と,穴認識部31での認識結果とマスタデータとを照合して穴の消失や過剰を検出する消失・過剰検出部33と,検出結果を処理して虚報を排除する検出結果処理部34とを有している。
【0023】
次に,撮像部20の各構成部について説明する。まず,テーブルカメラ部21は,プリント配線板のパターン面を撮像する機能を有している。テーブルカメラ部21は,図2に示すように,パターン面を撮像する検査カメラ211と,光源となる照明器212と,入射した光を拡散させる拡散板213とを有している。検査カメラ211および照明器212は,垂線からの傾斜角がほぼ同じになるように配置されている。また,拡散板213は,照明器212とパターン面との間に配置されている。この拡散板213としては,すりガラス等が使用可能である。なお,拡散板213の材質はガラスに限るものではない。
【0024】
次に,A/D変換部22は,テーブルカメラ部21で撮影したアナログ画像データをデジタル画像データに変換する機能を有している。次に,2値化部23は,入力されたデジタル信号を2値化する機能を有している。なお,2値化のための閾値は,コンピュータ端末41を用いて変更することができる。
【0025】
次に,検査部30の各構成部について説明する。穴認識部31は,パターン画像の中の穴候補および黒化処理が行われていない部分(以下,「未黒化候補」という)を認識する機能を有している。まず,穴候補の認識は,図6に示すように,小臨界円51および大臨界円52からなるフォームを用いて行われる。小臨界円51は,穴の径の許容範囲の最小限に相当する。大臨界円52は,穴の径の許容範囲の最大限に相当する。これらは,ほぼ同心円状に配置されている。そして,次の2つの条件により穴候補の認識がなされる。第1の条件(以下,「内条件」という)は,小臨界円51の内部の領域53の画素がすべて暗画素であることである。第2の条件(以下,「外条件」という)は,大臨界円52の外側の全周にわたる領域54の画素がすべて明画素であることである。これら2つの条件がともに満たされるときに,領域53およびそれに暗画素が連続している範囲が穴候補として認識される。なお,小臨界円51と大臨界円52との間の領域55や,領域54の外側の領域56は,判断の対象外であり,暗画素でも明画素でもかまわない。
【0026】
一方,未黒化候補の認識は,図3に示すような4つの点部72と,十字線部71とからなるフォームを用いて行われる。当該フォームは,十字線部71がフォームの中心部から4方に引かれた直線で構成され,当該十字線部71で区切られたエリア内に点72が一つずつ存在するように構成されている。また,当該フォームの最大幅は,スパッタのリング部61(図7)を未黒化処理候補と認識しないようにするため,リング部61の幅より大きい。そして,未黒化候補とする認識条件としては,十字線部71およびすべての点部72が明画素であることである。本条件を満たすことにより,十字線部71,点部72,およびそれらに明画素が連続し,ある程度の大きさをもつ範囲が未黒化候補として認識される。なお,十字線部71および点部72以外の領域73は判断の対象外であり,暗画素でも明画素でもかまわない。
【0027】
なお,図3のフォームの変形例として,図10に示すようなフォーム81を用いることも考えられないわけではない。しかし,フォーム81では次のような問題点がある。すなわち,2値化部23での閾値によっては,未黒化部分であっても暗画素を含む場合もある。この場合にフォーム81を用いると,その暗画素の部分のため,未黒化の部分を正しく検出できない。このため,フォーム内の直線部をあまりに増加させるのは妥当ではない。
【0028】
また,図3のフォームの変形例として,図11に示すようなフォーム91を用いることも考えられないわけではない。しかし,フォーム91では次のような問題点がある。すなわち,未黒化部分以外でも明画素が散在する場合がある。フォーム91を用いると,そのような明画素のため,未黒化部分でない箇所を未黒化部分を誤認識するおそれがある。このため,フォーム内の直線部をなくすのは妥当ではない。
【0029】
このようにしてなされる穴候補であるか否かの認識,および未黒化候補であるか否かの認識は,フォームを縦横に1画素ずつずらしつつパターン画像の全領域の各画素について行われる。なお,各フォームの大きさや形状等は,コンピュータ端末41を用いて設定することができる。
【0030】
次に,マスタデータメモリ部32は,穴候補の認識のためのマスタデータを記憶する機能を有している。マスタデータとは,検査対象であるプリント配線板10において,穴が存在するはずの位置を示すデータである。マスタデータを用意する方法としては,プリント配線板10の標準品を用意してこれについてのパターン画像から作成する方法がある。標準品としては,穴が設計仕様通りに正しく形成されていることが別の方法で確認されている良品のプリント配線板10を用いることができる。また,同一の製造ロットで製造された多数の同一品種のプリント配線板10のうちの最初のものを用いてもよい。また,CADデータより作成することも可能である。
【0031】
マスタデータメモリ部32では,マスタデータの記憶を,120μm(15μm×8画素)四方を1セルとして1セル毎に行う。すなわち,1セルには64個(8×8)の画素が含まれる。そして,64個のうち,標準品のパターン画像において穴であると認識された画素が1つでも含まれていれば,そのセルはマスタデータ上,「穴あり」として扱われる。一方,64個のうち,標準品のパターン画像において穴であると認識された画素が1つも含まれていなければ,そのセルはマスタデータ上,「穴なし」として扱われる。なお,未黒化候補については,通常,全面黒化処理が施されているものが標準品に該当するため,マスタデータを作成しない。また,マスタデータと検査対象品の認識結果のデータとの対比も,セル単位に行われる。なお,セルのサイズは,コンピュータ端末41を用いて変更することができる。
【0032】
次に,消失・過剰検出部33は,前述のように穴認識部31での認識結果と,マスタデータとをセル単位で照合して穴の消失・過剰を検出する機能を有している。さらには,未黒化部分を検出する機能を有している。詳細には,消失・過剰検出部33は,消失出力機能と,過剰出力機能とを有している。消失出力機能では,マスタデータによれば穴があるはずなのに穴候補の認識データがないセルを出力する。そして,その出力を消失欠陥とする。一方,過剰出力機能では,マスタデータによれば穴ではないはずなのに穴候補の認識データがあるセルを出力する。そして,それら出力を過剰欠陥とする。また,未黒化候補の認識データが含まれるセルを黒化欠陥として出力する。
【0033】
次に,検出結果処理部34は,消失・過剰検出部33の検出結果を処理して虚報を排除する機能を有している。検出結果処理部34は,消失・過剰検出部33から出力された消失欠陥,過剰欠陥および黒化欠陥のうち消失欠陥について,虚報を排除して真に消失欠陥であると考えられるもののみを抽出する処理を行う。以上が,検査部30である。なお,着目セルの周囲を考慮する範囲は,コンピュータ端末41を用いて設定することができる。
【0034】
次に,図1のパターン検査装置により実行されるパターン検査方法を説明する。このパターン検査方法は大別して,プリント配線板の標準品によるマスタデータの作成と,そのマスタデータを用いて行うプリント配線板の検査対象品の検査との2段階に分けられる。
【0035】
マスタデータの作成は,次のようにして行われる。まず,撮像部20において,テーブルカメラ部21(図2参照)の撮影位置にプリント配線板10の標準品を設置する。次に,照明器212により,プリント配線板10に対して光を照射する。プリント配線板10は,上層銅箔を黒化処理した後,ダイレクトレーザ加工によって穴が開けられた状態である。そのため,上層表面の穴の周辺には,スパッタ(図7)が生じている。このスパッタは,図4に示すように,上層面上に銅が付着した状態となっている。すなわち,もともと穴加工部にあった銅箔が飛び散り,リング部61および放射部62を形成している。なお,リング部61の表面には凹凸があり,鏡面にはなっていない。
【0036】
次に,照明器212から射出された光は,拡散板213によって拡散される。このためプリント配線板10は,拡散光により照らされる。すると,検査カメラ211には,スパッタのリング部61については,ある程度の光量の光が得られる。一方,スパッタの放射部62からは光がほとんど得られない。このため,後述する2値化部23の閾値を適切に設定することにより放射部62を除去した画像を作成できる。
【0037】
そして,テーブルカメラ部21からの出力画像が,A/D変換部22でデジタルデータ化され,さらに2値化回路23で2値化される。このとき,2値化回路23の閾値をリング部61からの光量より小さく放射部62からの光量より大きい値に設定することにより,光のほとんど得られない放射部62は除去される。すなわち,スパッタの放射部62を除くリング部61のみの画像を得ることができる。そして,2値化された状態のパターン画像が,検査部30の穴認識部31に入力される。
【0038】
穴認識部31では,受け取ったパターン画像について,図6に示した小臨界円51および大臨界円52を用いて,穴候補の認識が行われる。例えば,図5の(a)のように本来の寸法通りに正常に形成されている穴を図6に当てはめると,内条件と外条件とがともに満たされる。「暗」の領域と「明」の領域との境界が,小臨界円51と大臨界円52との間に来るからである。よって,「暗」の領域内の画素が穴候補として認識される。一方,標準品のプリント配線板10であっても,異なる寸法の穴が,レーザ加工用以外の用途のために設けられている場合がある。しかしながら,図5の(b)のように大きい穴については,外条件が満たされない。よって,その場合には穴候補が認識されない。なお,ここで想定している穴の径は,100〜200μm程度である。よって,標準品における1つの穴に対し,1つのセルのみが「穴あり」として記憶されることもあれば,隣接する2つないし4つのセルのみが「穴あり」として記憶されることもある。
【0039】
かくして作成されたマスタデータは,通常,当該標準品を含む1ロットのプリント配線板10に対して有効とされる。ただし,ロット間のバラツキが小さい場合には,同一の仕様のすべてのプリント配線板10に対して有効として取り扱ってもよい。
【0040】
検査対象品の検査は,次のようにして行われる。まず,撮像部20において,テーブルカメラ部21の撮影位置にプリント配線板10の検査対象品を設置する。このとき検査対象品は,マスタデータ作成時の標準品と同様にアライメントされなければならないことはいうまでもない。検査対象品が正しく設置されたら,マスタデータ作成時と同様に,パターン11が撮像され,そして2値化されたパターン画像が穴認識部31に入力される。
【0041】
穴認識部31では,マスタデータ作成時の穴候補の認識処理と同様の処理が行われる。すなわち,図5の(a)のように本来の寸法通りに正常に形成されている穴を図6に当てはめると,内条件と外条件とがともに満たされ,「暗」の領域内の画素が穴候補として認識される。しかしながら,図5の(b)のように大きい穴については,外条件が満たされない。よって,その場合には穴候補が認識されない。また,図5の(c)のように小さい穴,もしくは,図5の(d)のように黒化処理が不十分でつぶれている穴については,内条件が満たされない。この場合についても穴候補が認識されない。また,図5の(e)のように本来あるべき位置に穴がない,もしくは,図5の(f)のように穴がある位置がずれている場合は,外条件が満たされない。当然,穴候補として認識されない。
【0042】
さらに,穴認識部31では,図3に示したフォームを用いて,未黒化候補の認識処理が行われる。当該フォームは,フォームの中心部から臨界までに引かれた4本の直線で構成される十字線部71と,当該十字線部71で区切られたエリア内に一つずつ存在している点72とで構成されている。当該フォームは,当該フォームの許容される幅は,スパッタ(図7)のリング部61の幅より大きい。そして,未黒化候補とする認識条件としては,十字線部71およびすべての点部72が明画素であることである。本条件を満たすことにより,十字線部71,点部72,およびそれらに明画素が連続し,ある程度の大きさをもつ範囲が未黒化候補として認識される。十字線部71および点部72のそれぞれの大きさなどの認識条件は,コンピュータ端末41を用いてあらかじめ設定しておく。これにより,例えば,図5の(g)のように異物等により未黒化部となっている箇所に図3に当てはめると,未黒化候補となるための条件が満たされる。十字線部71および点部72がすべて「明」の領域となるからである。また,図9のように異物等により穴と誤認識してしまう箇所の未黒化部分に図3に当てはめると,未黒化候補となるための条件が満たされる。十字線部71および点部72がすべて「明」の領域となるからである。よって,図9のようなセルは,穴候補かつ未黒化候補として認識される。
【0043】
穴候補か否かの認識は,図6の小臨界円51および大臨界円52を縦横に1画素ずつずらしつつパターン画像の全域の各画素について行われる。各画素についての穴候補の認識の有無のデータ(以下,「穴候補検査データ」という)は,消失・過剰検出部33に送られる。また,未黒化部か否かの認識は,図3の十字線部71および点部72を縦横に1画素ずつずらしつつ該当セルの全域の各画素について行われる。各画素についての未黒化候補の認識の有無のデータ(以下,「未黒化検査データ」という)は,消失・過剰検出部33に送られる。
【0044】
消失・過剰検出部33では,穴認識部31から未黒化検査データおよび穴候補検査データを受け取るとともに,マスタデータメモリ部32からマスタデータを受け取る。そして,穴候補検査データとマスタデータとをセル単位で比較する。これにより,消失欠陥および過剰欠陥が認識できる。また,穴候補として認識されたセルおよび消失欠陥となったセルについて,当該セルの穴候補検査データと未黒化検査データとを比較する。もし,穴候補検査データが「穴有り」であり未黒化検査データが「未黒化部無し」であれば,当該穴候補検査データによる穴はそのまま穴として認識する。また,穴候補検査データが「穴有り」であり未黒化検査データが「未黒化部有り」であれば,当該穴候補検査データによる穴は誤認識であり未黒化の部分として認識する。これにより,穴候補の誤認識およびその原因を知ることができる。また,消失欠陥となったセルの未黒化検査データが「未黒化部有り」であれば,当該消失欠陥の原因は未黒化によるものと認識できる。なお,穴候補として認識されたセルもしくは消失欠陥となったセル以外のセルについては,黒化の有無の影響はないため未黒化検査データとの比較を行わなくてもよい。
【0045】
かくして消失欠陥,過剰欠陥および黒化欠陥は,消失・過剰検出部33から検出結果処理部34へ送られる。検出結果処理部34は,受け取った消失欠陥および過剰欠陥について,虚報を排除する処理を行う。そして,虚報が排除された消失欠陥,過剰欠陥および黒化欠陥が,検出結果処理部34からコンピュータ端末41へ出力される。するとコンピュータ端末41では,報告された消失欠陥,過剰欠陥および黒化欠陥の情報を画面に表示する。これにより,検査対象品のプリント配線板10が合格品か否かについて,オペレータが判断することができる。また,オペレータは必要に応じて,当該欠陥を含む部位の画像を,像モニタ42にて目視で確認することもできる。
【0046】
以上詳細に説明したように本実施の形態では,プリント配線板10のパターンを撮像するテーブルカメラ21において,照明器212とパターン面との間に拡散板213を配置することとしている。これにより,プリント配線板10のパターン面を拡散光で照らしながら撮像することとしている。このため,スパッタの放射部62とリング部61との間に明確なコントラストが得られる。よって,2値化する際に放射部62を除去でき,リング部61のみの形状を認識できる。かくして,スパッタの飛び散りに影響されることのないパターン検査装置およびパターン検査方法が実現されている。
【0047】
さらに,読み取って得た2値画像について,検査部30の穴認識部31では,図6のフォームを用いて穴候補の認識を行うこととしている。さらに,図3のフォームを用いて未黒化候補の認識を併せて行うこととしている。すなわち,図5の(b,c,d,e,f)のような穴の異常を検出するだけでなく,図5の(g)や図9のような穴と誤認識してしまう形状も異常として検出できる。このため,穴候補に加えて未黒化部についても認識することができる。かくして,欠陥形状を高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法が実現されている。
【0048】
なお,本実施の形態は単なる例示にすぎず,本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に,その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良,変形が可能である。例えば,黒化処理直後に黒化処理そのものの良否を検査することもできる。この場合は,未黒化処理部があるか否かの検査のみを行う。
【0049】
また,本形態では,穴認識部31において未黒化候補を全領域について検査することとしているが,穴候補として認識された箇所に対してのみ未黒化候補の認識を行ってもよい。これでも,穴認識部31において穴候補として認識されているが,未黒化であり誤認識している箇所を認識するには十分である。
【0050】
また,本形態では,未黒化部分があればすべて黒化欠陥としたため,未黒化候補のマスタデータを作成する必要がなかった。しかし,意図的に黒化しない部分を形成し,当該部分の良否を検査する場合には,未黒化候補のマスタデータを作成する。そして,マスタデータと検出したデータとを消失・過剰検出部33で照合する。
【0051】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明によれば,銅の飛び散りに影響されず,欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法およびその方法により検査されたプリント配線板が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態に係るパターン検査装置の構成図である。
【図2】 実施の形態に係るテーブルカメラ部の構成図である。
【図3】 実施の形態に係る穴認識のフォームを示す概念図である。
【図4】 検査対象であるプリント配線板に係るレーザ加工部の断面図である。
【図5】 穴として認識される画像例と認識されない画像例を示す説明図である。
【図6】 従来の検査方法における穴認識のフォームを示す概念図である。
【図7】 ダイレクトレーザ法により穴あけを行った配線板の表面を示す概念図である。
【図8】 穴候補と誤認識するパターンの一例を示す概念図である。
【図9】 穴候補と誤認識するパターンの一例にフォームを適用した概念図である。
【図10】 穴認識のフォームの一例を示す概念図(その1)である。
【図11】 穴認識のフォームの一例を示す概念図(その2)である。
【符号の説明】
10 プリント配線板
20 撮像部
21 テーブルカメラ部
211 検査カメラ
212 照明器
213 拡散板
30 検査部
31 穴認識部
61 リング部
62 放射部
71 十字線部
72 点部
Claims (8)
- ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査装置において,
穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンに基づく画像データを取得する画像データ取得部と,
前記画像データ取得部が取得した画像データを2値化する2値化部と,
前記2値化部により2値化された画像データを用いて,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによってリング部を認識し,対象物の表面パターンのリング部を検査する検査部とを有し,
前記画像データ取得部は,
対象物を照らす照明光源と,
前記照明光源と対象物との間に位置し,前記照明光源からの光を拡散させる拡散手段と,
対象物の表面パターンを撮像する撮像カメラとを有することを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項1に記載するパターン検査装置において,
前記検査部は,画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識することにより対象物の表面パターンを検査するものであり,
前記検査部における第1の検査条件は,
第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって前記星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,
前記星形部および前記点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値であることを特徴とするパターン検査装置。 - ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査装置において,
穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンのうち,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによって当該リング部を認識した画像データを取得する画像データ取得部と,
前記画像データ取得部が取得した画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識することにより対象物の表面パターンを検査する検査部とを有し,
前記検査部における第1の検出条件は,
第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって前記星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,
前記星形部および前記点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値であることを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項2または請求項3に記載するパターン検査装置において,
前記検査部における第2の検出条件は,
第2の被検図形に許容される最小サイズに相当する小臨界の内部の全域で画像データが所定の値であり,
第2の被検図形に許容される最大サイズに相当する大臨界に沿う領域のすべての位置で画像データが別の所定の値であることであり,
前記検査部は,第2の被検図形の存在または消失が検出された位置について第1の被検図形候補であるか否かを判断することを特徴とするパターン検査装置。 - ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査方法において,
拡散光で照らされた対象物の表面パターンを撮像カメラで撮像し,穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む画像データを取得する画像データ取得ステップと,
取得した画像データを2値化する2値化ステップと,
2値化された画像データを用い,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによってリング部を認識し,対象物のリング部の表面パターンを検査する検査ステップとを有することを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項5に記載するパターン検査方法において,
前記検査ステップでは,
画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識する欠陥抽出を行い,
前記欠陥抽出における第1の検査条件として,
第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,
星形部および点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値であることを用いることを特徴とするパターン検査方法。 - ダイレクトレーザ加工で穴あけされた対象物の表面パターンを検査するパターン検査方法において,
穴の周囲に位置するリング部と放射部とを含む対象物の表面パターンのうち,リング部と放射部とのコントラストの差により,適切な閾値で2値化することによって当該リング部を認識した画像データを取得する画像データ取得ステップと,
画像データ中の各位置に所定の検出条件を当てはめ,検出条件に合致した場合にその位置を被検図形候補であると認識し,検出条件に合致しない場合に被検図形候補でないと認識する欠陥抽出により対象物の表面パターンを検査する検査ステップとを有し,
前記欠陥抽出における第1の検査条件として,
第1の被検図形に許容される最小エリアの外周に配置された複数の位置と被検図形の中心とを結んだ星形部と,第1の被検図形に許容される最小エリア内であって星形部により区画された各領域内にそれぞれ配置された複数の点部とについて,
星形部および点部を構成するすべての位置で画像データが所定の値であることを用いることを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項6または請求項7に記載するパターン検査方法において,
前記欠陥抽出における第2の検出条件として,
第2の被検図形に許容される最小サイズに相当する小臨界の内部の全域で画像データが所定の値であり,
第2の被検図形に許容される最大サイズに相当する大臨界に沿う領域のすべての位置で画像データが別の所定の値であることを用い,
前記検査ステップでは,第2の被検図形の存在または消失が検出された位置について第1の被検図形候補であるか否かを判断することを特徴とするパターン検査方法。
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