JPS5853840A - ベ−ク炉 - Google Patents
ベ−ク炉Info
- Publication number
- JPS5853840A JPS5853840A JP15198281A JP15198281A JPS5853840A JP S5853840 A JPS5853840 A JP S5853840A JP 15198281 A JP15198281 A JP 15198281A JP 15198281 A JP15198281 A JP 15198281A JP S5853840 A JPS5853840 A JP S5853840A
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- JP
- Japan
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- wafers
- baking
- furnace
- wafer
- elevator
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67748—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67751—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber vertical transfer of a single workpiece
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ベーク炉に関し、さらに詳しく述べると、フ
ォトレジスト塗布後のプレペーク工程。
ォトレジスト塗布後のプレペーク工程。
現偉後のポストペーク工程、その他の熱処理工程におい
てウェハを連続的に熱処理するためのぺ−り炉に関する
。
てウェハを連続的に熱処理するためのぺ−り炉に関する
。
ベーク炉［２つのタイプがあることは周知の通りである
。第１のタイプのベーク炉は、バッチ式と呼ばれている
もので、多数個のウェハをキャリヤに収納してキャリヤ
ごと熱処理に供することを特徴としている。このタイプ
のベーク炉は、バッチ単位の処理が可能であるため、多
量のウェハを一度に熱処理しなければならない時など好
都合である。たソ、現在、多品種少量生産の甥向かあり
かつ今後もその傾向が強まると考えられるので。
。第１のタイプのベーク炉は、バッチ式と呼ばれている
もので、多数個のウェハをキャリヤに収納してキャリヤ
ごと熱処理に供することを特徴としている。このタイプ
のベーク炉は、バッチ単位の処理が可能であるため、多
量のウェハを一度に熱処理しなければならない時など好
都合である。たソ、現在、多品種少量生産の甥向かあり
かつ今後もその傾向が強まると考えられるので。
バッチ式のベーク炉が有利であるとの断定をすることが
できない、さらに、バッチ式のベーク炉は。
できない、さらに、バッチ式のベーク炉は。
炉内温度を所定のレベルまで高めかつそのレベルを一定
に維持するためにかなり長い昇温時間が必要であるとい
う欠点を有している。
に維持するためにかなり長い昇温時間が必要であるとい
う欠点を有している。
第２のタイプは、ベルト式のベーク炉である。
このタイプのベーク炉は、一定速度で動いているコンベ
ヤベルト上にウェハを載置して連続的に熱処理を行なう
ことを特徴として諭る。このベーク炉を使用した場合、
上記バッチ式の欠点である長い昇温時間を解消し得ると
いうものの（炉内温度を一定に保り・た後で連続的にベ
ーク工程を実施できるから）、新たに別の欠点を甘受し
なければならない、実際、この方式による熱処理は画一
的（定速、定温度、そして定ベーク時間）であるため１
個々のウェハに応じて弾力的な熱処理を行なうことが不
可能である。九壕さか多量のウェハを処理するとしても
、それらのベーク時間が長い場合、コンベヤベルトを延
長するかベルトの速度を遅くするかの処置をとらねばな
らず、極めて不経済である。なぜなら、ベルトの延長は
炉の設置面積の拡大を意味し、そしてベルトの速度低下
はウェハ処理枚数の低下を意味するからである。
ヤベルト上にウェハを載置して連続的に熱処理を行なう
ことを特徴として諭る。このベーク炉を使用した場合、
上記バッチ式の欠点である長い昇温時間を解消し得ると
いうものの（炉内温度を一定に保り・た後で連続的にベ
ーク工程を実施できるから）、新たに別の欠点を甘受し
なければならない、実際、この方式による熱処理は画一
的（定速、定温度、そして定ベーク時間）であるため１
個々のウェハに応じて弾力的な熱処理を行なうことが不
可能である。九壕さか多量のウェハを処理するとしても
、それらのベーク時間が長い場合、コンベヤベルトを延
長するかベルトの速度を遅くするかの処置をとらねばな
らず、極めて不経済である。なぜなら、ベルトの延長は
炉の設置面積の拡大を意味し、そしてベルトの速度低下
はウェハ処理枚数の低下を意味するからである。
本発明の目的は、多量のウェハを連続的に、 Ｌかもウ
ェハの一枚一枚を任意のベーク時間で熱処理することが
できるようなベーク炉を提供することにある。
ェハの一枚一枚を任意のベーク時間で熱処理することが
できるようなベーク炉を提供することにある。
本発明の別の目的は、設置面積の小さいベーク炉を提供
するととＫある。
するととＫある。
本発明者らは、これらの目的を達成すべく研究を行なっ
た結果、棚段の形をした豪数個のウェハホルダーからな
るベーク室をベーク炉内に設けるとともに、ウェハホル
ダーへの未処理ウェハノ格納とウェハホルダーからのベ
ーク時間に応じた処理済みウェハの取り出しとをコント
ロールされた条件下に行なうことのできるハンドリング
手段（ベーク炉ヘウェハを搬入搬出するためのパルプや
ウェハホルダーの所定位置にウェハを格納したりそこか
ら取り出したりするためのエレベータをここでは総称的
に８ハンドリング手段１と呼ぶ）を使用することによっ
て所期の目的を達成し得るということを見い出した。な
お、コントロールサれた条件を達成するため１例えばマ
イクロコンピュータのような制御装置を利用することが
できる。
た結果、棚段の形をした豪数個のウェハホルダーからな
るベーク室をベーク炉内に設けるとともに、ウェハホル
ダーへの未処理ウェハノ格納とウェハホルダーからのベ
ーク時間に応じた処理済みウェハの取り出しとをコント
ロールされた条件下に行なうことのできるハンドリング
手段（ベーク炉ヘウェハを搬入搬出するためのパルプや
ウェハホルダーの所定位置にウェハを格納したりそこか
ら取り出したりするためのエレベータをここでは総称的
に８ハンドリング手段１と呼ぶ）を使用することによっ
て所期の目的を達成し得るということを見い出した。な
お、コントロールサれた条件を達成するため１例えばマ
イクロコンピュータのような制御装置を利用することが
できる。
本発明は、その好ましい１態様に従うと、べ−り炉の片
側にのみ搬入搬出兼用のパルプ（このパルプの開口部は
、ウェハの出し入れができる程度の大きさを有すること
が望ましい）を設けて、そのパルプとベーク室との中間
に設けた昇降可能なハンドリング手段１例えばエレベー
タを介してベーク室へのウェハの格納及びそれからの取
り出しを行なうことができる。
側にのみ搬入搬出兼用のパルプ（このパルプの開口部は
、ウェハの出し入れができる程度の大きさを有すること
が望ましい）を設けて、そのパルプとベーク室との中間
に設けた昇降可能なハンドリング手段１例えばエレベー
タを介してベーク室へのウェハの格納及びそれからの取
り出しを行なうことができる。
本発明は、そのもう１つの好ましい態様に従うと、ベー
ク炉の両側にパルプを設けて一方のパルプをウェハ搬入
用に、そして他方のパルプをウェハ搬出用とすることが
でき、ま九、これに関連して、ベーク室の両側にエレベ
ータを配置することができる。このようにすることＫよ
って、ウェハの流れをより円滑ならしめることができ、
また。
ク炉の両側にパルプを設けて一方のパルプをウェハ搬入
用に、そして他方のパルプをウェハ搬出用とすることが
でき、ま九、これに関連して、ベーク室の両側にエレベ
ータを配置することができる。このようにすることＫよ
って、ウェハの流れをより円滑ならしめることができ、
また。
炉のインライン化が容易に可能である。
本発明は、そのもう１つの好ましい態様に従うと、棚段
の形をしたウェハホルダーを水平にならひかえて、横方
向に一列に伸びた並置タイプのウェハホルダーとするこ
とができる。
の形をしたウェハホルダーを水平にならひかえて、横方
向に一列に伸びた並置タイプのウェハホルダーとするこ
とができる。
本発明は、そのもう１つの好ましい態様に従うと、ベー
ク室全体を例えば銅、アルミニウムなどのような金属材
料で製作することができる。なぜなら、ベーク室をかか
る材料で構成した場合、従来かなりの長時間を要したそ
の昇温時間を著しく短縮することができるからである。
ク室全体を例えば銅、アルミニウムなどのような金属材
料で製作することができる。なぜなら、ベーク室をかか
る材料で構成した場合、従来かなりの長時間を要したそ
の昇温時間を著しく短縮することができるからである。
以上からも想到されるように１本発明に従うと。
多品種少量生産というユーザ側の要求を満たす、ベーク
炉を提供することができる。具体的には、多数個のウェ
ハをベーク室内において同時に熱処理に供することがで
き、しかも１個々のウェハについてそれぞれに適切なベ
ーク時間でもって熱処理を施すことができ、熱処理の済
んだウェハは遅滞なく炉外に送り出し、そして、この代
りに、空のウェハホルダーに次の新しい未処理ウェハを
直ちに格納することができる０本発明に従うと１間断な
く効率よくベーク炉を運転することができるので、多量
のウェハを短時間のうちに処理することができる。
炉を提供することができる。具体的には、多数個のウェ
ハをベーク室内において同時に熱処理に供することがで
き、しかも１個々のウェハについてそれぞれに適切なベ
ーク時間でもって熱処理を施すことができ、熱処理の済
んだウェハは遅滞なく炉外に送り出し、そして、この代
りに、空のウェハホルダーに次の新しい未処理ウェハを
直ちに格納することができる０本発明に従うと１間断な
く効率よくベーク炉を運転することができるので、多量
のウェハを短時間のうちに処理することができる。
さらに１本発明に従うと、マイコンの利用で炉そのもの
のコントロールができるため、一枚一枚のウェハを所望
のベーク条件で処理することができ、その際、ことさら
余計な処置を行なうことが不必要である。これに関連し
て、一枚一枚のウェハのベーク時間をコン）０−ルする
ので、いろいろなベーク時間のウェハを混在させること
ができる。このことは、処理の切れ目をなくすうえで有
効である。
のコントロールができるため、一枚一枚のウェハを所望
のベーク条件で処理することができ、その際、ことさら
余計な処置を行なうことが不必要である。これに関連し
て、一枚一枚のウェハのベーク時間をコン）０−ルする
ので、いろいろなベーク時間のウェハを混在させること
ができる。このことは、処理の切れ目をなくすうえで有
効である。
さらに１本発明によるベーク炉のベーク室はコンバクト
に構成することができるため、処理能力の割には小さい
床専有面積でベーク炉を設置することができる。
に構成することができるため、処理能力の割には小さい
床専有面積でベーク炉を設置することができる。
本発明に従うと、ウェハ搬入搬出のためのパルプ開口部
を小さくとるので、ベーク炉内の温度変化をより低く抑
えることができる。
を小さくとるので、ベーク炉内の温度変化をより低く抑
えることができる。
次に、添付の図面を参照しながら本発明を説明する。
第１図は、ベーク炉の片側にのみパルプを設けた例を示
した略示図である０図中の１はベーク炉であり、この内
部にベーク室２が配置されている。
した略示図である０図中の１はベーク炉であり、この内
部にベーク室２が配置されている。
ベーク室２は１図示の通り、縦長に作られており。
そして棚段の形をし九複数個のウェハホルダー３から構
成されている。４は、未処理のウェハ１θを収納したカ
セットである。ウェハ１０は、カセット４から送り出さ
れ、ベーク炉１のパルプ５を経て炉内に送り込まれる。
成されている。４は、未処理のウェハ１θを収納したカ
セットである。ウェハ１０は、カセット４から送り出さ
れ、ベーク炉１のパルプ５を経て炉内に送り込まれる。
６は、ウェハをホルダー３に案内スるためのエレベータ
−であり、送られてきたウェハを載置して空いているホ
ルダーのところまで移動し、そのホルダーのなかにウエ
ノλを格納する。ウェハｌＯは、熱処理の完了後、すな
わち、所定のベーク時間に達した後、エレベータ−６の
働きにより、上記と同一のパルプ５を経て炉内に送り出
され、処理済みウェハ用のカセット（図示せず）に収納
される。ここで、ベーク炉の操作（未処理ウェハのベー
ク炉内への搬入から処理済みウェハのカセットへの収納
までの操作）はすべてマイコン等によりコントロールさ
−５ている。
−であり、送られてきたウェハを載置して空いているホ
ルダーのところまで移動し、そのホルダーのなかにウエ
ノλを格納する。ウェハｌＯは、熱処理の完了後、すな
わち、所定のベーク時間に達した後、エレベータ−６の
働きにより、上記と同一のパルプ５を経て炉内に送り出
され、処理済みウェハ用のカセット（図示せず）に収納
される。ここで、ベーク炉の操作（未処理ウェハのベー
ク炉内への搬入から処理済みウェハのカセットへの収納
までの操作）はすべてマイコン等によりコントロールさ
−５ている。
第２図は、ベーク炉の両側にパルプを設けた例を示した
略示図である。先ず、ベーク炉１の左側のパルプ５から
矢印で示すようＫして未処理ウェハ１０が送り込まれる
。このウェハは６図示のようにエレベータ６上に載置さ
れ、空のホルダー３のところまで案内され、そしてそこ
に格納される。
略示図である。先ず、ベーク炉１の左側のパルプ５から
矢印で示すようＫして未処理ウェハ１０が送り込まれる
。このウェハは６図示のようにエレベータ６上に載置さ
れ、空のホルダー３のところまで案内され、そしてそこ
に格納される。
ベーク室２に格納され九ウェハ１０は、所定のベーク時
間に達した後、もう１つのエレベータ６′により取り出
され、パルプ５′を経て炉外に送り出される。
間に達した後、もう１つのエレベータ６′により取り出
され、パルプ５′を経て炉外に送り出される。
第３図は、第２図に示した本発明によるベーク炉の１変
形例を示した平面図である１図示の通り。
形例を示した平面図である１図示の通り。
ベーク炉ｌのベーク室２を構成するウェハホルダー３は
、棚段の形ではなくて、水平にならびかえて、横方向に
一列に並置されている。このベーク炉を構成する各要素
の挙動は、基本的に前記第２図のそれに＠似していると
いうものの、未処理ウェハ１０を各ウェハホルダー３に
振り分けたり処理後のウェハ１０をカセット４’に格納
し九すする場合には例えばエアベアリング、ベルトフン
ベヤ等の搬送手段を利用することができる。
、棚段の形ではなくて、水平にならびかえて、横方向に
一列に並置されている。このベーク炉を構成する各要素
の挙動は、基本的に前記第２図のそれに＠似していると
いうものの、未処理ウェハ１０を各ウェハホルダー３に
振り分けたり処理後のウェハ１０をカセット４’に格納
し九すする場合には例えばエアベアリング、ベルトフン
ベヤ等の搬送手段を利用することができる。
第１図は１本発明によるベーク炉の好ましい１態様を示
した略示図。 第２図は１本発明によるベーク炉のもう１つの好ましい
態様を示した略示図、そして 第３図は、第２図に示し九本発明によるベーク炉の１変
形例を示した平面図である。 図中、ＩＦｉベーク炉、２はベーク室、３はウェハホル
ダー、４及び４′はカセット、５及び５′はパルプ、６
及び６′社エレベータ、セして１０はウェハである。 特許出願人 富士通株式会社 特杵出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之
した略示図。 第２図は１本発明によるベーク炉のもう１つの好ましい
態様を示した略示図、そして 第３図は、第２図に示し九本発明によるベーク炉の１変
形例を示した平面図である。 図中、ＩＦｉベーク炉、２はベーク室、３はウェハホル
ダー、４及び４′はカセット、５及び５′はパルプ、６
及び６′社エレベータ、セして１０はウェハである。 特許出願人 富士通株式会社 特杵出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之
Claims (1)
- １、 ウェハを連続的に熱処理するためのベーク炉であ
って、棚段の形をした複数個のウェハホルダーからなる
ベーク室と、ウェハホルダーへの未処理ウェハの格納と
ウェハホルダーからのベーク時間に応じた処理済みウェ
ハの取や出しとをコントロールされた条件下に行なうこ
とのできるハンドリング手段とを含んでなるこ゛とを特
徴とするベーク炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15198281A JPS5853840A (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | ベ−ク炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15198281A JPS5853840A (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | ベ−ク炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5853840A true JPS5853840A (ja) | 1983-03-30 |
Family
ID=15530469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15198281A Pending JPS5853840A (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | ベ−ク炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5853840A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59169045U (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-12 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
-
1981
- 1981-09-28 JP JP15198281A patent/JPS5853840A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59169045U (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-12 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
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