JPS62128523A - ウエ−ハ収納ボ−トの熱処理炉への搬入出装置 - Google Patents
ウエ−ハ収納ボ−トの熱処理炉への搬入出装置Info
- Publication number
- JPS62128523A JPS62128523A JP27039285A JP27039285A JPS62128523A JP S62128523 A JPS62128523 A JP S62128523A JP 27039285 A JP27039285 A JP 27039285A JP 27039285 A JP27039285 A JP 27039285A JP S62128523 A JPS62128523 A JP S62128523A
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- Japan
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- boat
- heat treatment
- wafers
- transferred
- lifting means
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体ウェーハの熱処理工程で使用すれる
、ウェーハ収納ボートの熱処理炉への搬入出装置に関す
る。
、ウェーハ収納ボートの熱処理炉への搬入出装置に関す
る。
第３図は従来のウェーハ収納ボートの熱処理炉への搬入
出装置を示す斜視図である。図において、１は多数枚の
半導体ウェーハ（以下「ウェーハ」と称する）で、ボー
ト２に並立して収納されている。３はウェーハ収納ボー
トの搬入出装置で、熱処理炉４に隣接して配設されてい
るつ６は搬入出装置の枠体で、棚７が複数段設けられ、
熱処理チューブ５の前部に灯心している。８は各棚７に
それぞれ装着された（図は最上段のみを示す）ボート入
出手段で、次のように構成されている。９はボート２を
載せる受皿、１０はこの受皿の一端を連結し支えていて
往復運動を伝達する可動体、１１は電ａ機（図示は略す
）により可逆回転される送りねじ軸で、可動体１ｏをね
じ通ししていて往復移動させる。
出装置を示す斜視図である。図において、１は多数枚の
半導体ウェーハ（以下「ウェーハ」と称する）で、ボー
ト２に並立して収納されている。３はウェーハ収納ボー
トの搬入出装置で、熱処理炉４に隣接して配設されてい
るつ６は搬入出装置の枠体で、棚７が複数段設けられ、
熱処理チューブ５の前部に灯心している。８は各棚７に
それぞれ装着された（図は最上段のみを示す）ボート入
出手段で、次のように構成されている。９はボート２を
載せる受皿、１０はこの受皿の一端を連結し支えていて
往復運動を伝達する可動体、１１は電ａ機（図示は略す
）により可逆回転される送りねじ軸で、可動体１ｏをね
じ通ししていて往復移動させる。
１２ｔ／ｉ昇降手段で、昇降部１３を昇降し、この昇降
部１３は前進後退機構を内蔵しており、腕部１４を出し
ていて前進、後退させ受皿９にボート２を受渡しする。
部１３は前進後退機構を内蔵しており、腕部１４を出し
ていて前進、後退させ受皿９にボート２を受渡しする。
１５は移替部で、昇降手段１２の腕部１４に支持され下
降されたボート２をトレー１６上に受は下降させ、内部
に設置しである移替機構（図示は略す）により、カセッ
ト（図示していない）とボート２間に多数枚のウェーハ
１を自動的忙移替えをする。
降されたボート２をトレー１６上に受は下降させ、内部
に設置しである移替機構（図示は略す）により、カセッ
ト（図示していない）とボート２間に多数枚のウェーハ
１を自動的忙移替えをする。
上記従来装置の動作は、次のようになる。未熱処理のウ
ェーハｌを収容したカセットが移替部に搬入され、該当
する熱処理チューブ５に対応する棚７の受皿９上のボー
ト２が空状態にある。昇降手段１２により受皿９上の空
のボート２をトレー１６上に降ろすっトレー１６上忙降
ろされたボート２は移替部１５内だ下降され、カセット
からウェーハ１がボート２Ｖｃ移替えられ、ウェーハｌ
が収納されたボート２Ｖｉトレー１３により移替部１５
上に上昇されるっここて、昇降手段１２によりトレー１
３上のボート２を受は上昇させ受皿９上に移し、ボート
入出機構已により熱処理チューブ５内に送入し、ウェー
ハ１の熱処理が行われる。
ェーハｌを収容したカセットが移替部に搬入され、該当
する熱処理チューブ５に対応する棚７の受皿９上のボー
ト２が空状態にある。昇降手段１２により受皿９上の空
のボート２をトレー１６上に降ろすっトレー１６上忙降
ろされたボート２は移替部１５内だ下降され、カセット
からウェーハ１がボート２Ｖｃ移替えられ、ウェーハｌ
が収納されたボート２Ｖｉトレー１３により移替部１５
上に上昇されるっここて、昇降手段１２によりトレー１
３上のボート２を受は上昇させ受皿９上に移し、ボート
入出機構已により熱処理チューブ５内に送入し、ウェー
ハ１の熱処理が行われる。
熱処理が終るとボート２はボート入出機構８によりチュ
ーブ５から引出され、所定冷却時間経過後、昇降手段１
２により受皿９からトレー１６上に降ろされるうつづい
て、移替部１５でウェーハｌをボート２からカセットに
移替える。空になったボート２Ｖｉ昇降手段１２により
上昇され、前の受皿９に＠せられ待機する。熱処理をデ
する次のウェーハ１を収納したカセットが移替部１５に
搬入されると、受皿９上のボート２は再び移替部１５へ
運ばれる０ 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のような従来のウェーハ収納ボートの熱処理炉への
搬入出装置では、所要の熱処理チューブ５でボート２の
ウェーハ１を処理中に、上記箇所のチューブ５で熱処理
を要するウェーハ１を収納したカセットが移替部１５に
搬入された場合（ウェーハの製造工程ではこのような場
合がほとんどである）、上記チューブ５で熱処理完了後
、ボート２をチューブ５から引出し、移替部１５に運び
つ工−ハ１をボート２から空のカセットに移替え、ここ
で、待機していた上記熱処理を要するウエーノ〜１をカ
セットから、上記空になったボー）２に移替えていた。
ーブ５から引出され、所定冷却時間経過後、昇降手段１
２により受皿９からトレー１６上に降ろされるうつづい
て、移替部１５でウェーハｌをボート２からカセットに
移替える。空になったボート２Ｖｉ昇降手段１２により
上昇され、前の受皿９に＠せられ待機する。熱処理をデ
する次のウェーハ１を収納したカセットが移替部１５に
搬入されると、受皿９上のボート２は再び移替部１５へ
運ばれる０ 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のような従来のウェーハ収納ボートの熱処理炉への
搬入出装置では、所要の熱処理チューブ５でボート２の
ウェーハ１を処理中に、上記箇所のチューブ５で熱処理
を要するウェーハ１を収納したカセットが移替部１５に
搬入された場合（ウェーハの製造工程ではこのような場
合がほとんどである）、上記チューブ５で熱処理完了後
、ボート２をチューブ５から引出し、移替部１５に運び
つ工−ハ１をボート２から空のカセットに移替え、ここ
で、待機していた上記熱処理を要するウエーノ〜１をカ
セットから、上記空になったボー）２に移替えていた。
このため、受皿９と移替部１５との間における移替え効
率が低く、熱処理を要する仕掛りのウェーハの待機時間
が長くなり、はけが悪く、かつ、熱処理炉４で処理され
るまでの時間が長くなり、半導体素子の形成に悪影響を
及ぼすなどの問題点があった。
率が低く、熱処理を要する仕掛りのウェーハの待機時間
が長くなり、はけが悪く、かつ、熱処理炉４で処理され
るまでの時間が長くなり、半導体素子の形成に悪影響を
及ぼすなどの問題点があった。
この発明は、このような問題点をなくするためになされ
たもので、仕掛リロットのウェーハが、移替部での待機
時間を短くして該当の熱処理チューブに搬入でき、熱処
理炉の稼動率が向上され、半導体素子の形成を良好にす
るウェーハ収納ボートの熱処理炉への搬入出装置を得る
ことを目的としている。
たもので、仕掛リロットのウェーハが、移替部での待機
時間を短くして該当の熱処理チューブに搬入でき、熱処
理炉の稼動率が向上され、半導体素子の形成を良好にす
るウェーハ収納ボートの熱処理炉への搬入出装置を得る
ことを目的としている。
この発明にかかるウェーハ収納ボートの熱処理への搬入
出装置は、ボート入出機構を設けた枠体の棚の前部にボ
ート待機手段を配設し、予備のボートをａ置しておき、
昇降手段により予備のボートの移送ができるようにし、
熱処理チューブが処理中でも、移替部で未熱処理ウェー
ハが空のボートに移替えが行われるようにしたものであ
る。
出装置は、ボート入出機構を設けた枠体の棚の前部にボ
ート待機手段を配設し、予備のボートをａ置しておき、
昇降手段により予備のボートの移送ができるようにし、
熱処理チューブが処理中でも、移替部で未熱処理ウェー
ハが空のボートに移替えが行われるようにしたものであ
る。
この発明においては、熱処理チューブで処理中において
、ボート待機手段の予備ボートを移替部に下降し、未熱
処理のウェーハをカセットからボートに移替え、このボ
ートをボート待機手段に戻し待機させる。上記熱処理チ
ューブで処理が終えると、そのウェーハのボートは、引
出されて移替部に下降される。引き変えに、ボート待機
手段のボートが上記熱処理チューブのボート入出機構へ
移され、熱処理チューブに送込まれる。
、ボート待機手段の予備ボートを移替部に下降し、未熱
処理のウェーハをカセットからボートに移替え、このボ
ートをボート待機手段に戻し待機させる。上記熱処理チ
ューブで処理が終えると、そのウェーハのボートは、引
出されて移替部に下降される。引き変えに、ボート待機
手段のボートが上記熱処理チューブのボート入出機構へ
移され、熱処理チューブに送込まれる。
上記移替部に下降されたボートは、熱処理済のウェーハ
が空のカセットに移替えられ、未熱処理ウェーハがカセ
ットから移替えられ、上記ボート待機手段に運ばれ待機
体勢になる。
が空のカセットに移替えられ、未熱処理ウェーハがカセ
ットから移替えられ、上記ボート待機手段に運ばれ待機
体勢になる。
第１図はこの発明による、ウェーハ収納ボートの熱処理
炉への搬入出装置の一実施例を示す斜視図であり、１，
２．４〜１６は上記従来装置と同一のものである。２０
は熱処理炉４に隣接して配設されたウェーハ収納ボート
の搬入出装置、２１は枠体６の前部に装着されたボート
待機手段で、支持枠２２に支持された送りねじ軸２３を
電動機２４により可逆回転させ、この送りねじ軸２２に
ねじ通しされた可動ボート受け２５を軸方向に前進 、
後退させるようＫしている。
炉への搬入出装置の一実施例を示す斜視図であり、１，
２．４〜１６は上記従来装置と同一のものである。２０
は熱処理炉４に隣接して配設されたウェーハ収納ボート
の搬入出装置、２１は枠体６の前部に装着されたボート
待機手段で、支持枠２２に支持された送りねじ軸２３を
電動機２４により可逆回転させ、この送りねじ軸２２に
ねじ通しされた可動ボート受け２５を軸方向に前進 、
後退させるようＫしている。
このボート待機手段２１を第２図に示し、常時は可動ボ
ート受け２５ｉｊ：後退され復帰位置Ａにあり、上部に
未決処理のウェーハ１を収納した予備のボート２を待機
されており、上記腕部１４の昇降の位置を避けているっ
可動ボート受け２５を受渡し位置ＢＫ前進させると、ボ
ート２は上記腕部１４に灯心する位置になり、腕部１４
により運ばれる。
ート受け２５ｉｊ：後退され復帰位置Ａにあり、上部に
未決処理のウェーハ１を収納した予備のボート２を待機
されており、上記腕部１４の昇降の位置を避けているっ
可動ボート受け２５を受渡し位置ＢＫ前進させると、ボ
ート２は上記腕部１４に灯心する位置になり、腕部１４
により運ばれる。
上記−実施例の装置の動作は、次のようになる。
移替部１５には未熱処理のウェーハ１のロットが収納さ
れたカセットが搬入されてあり、このウェーハ１のロッ
トの該当する熱処理チューブ５が処理中である場合とす
る。ボート待機手段２１の空のボート２が載せられた可
動ボート受け２５を、Ａ位置からＢ位置移動し、昇降手
段１２により腕部１４で空のボート２をすくい上げ支持
するっ可動ケート受け２５はＢ位置に戻され、腕部１４
で空のボート２を支持した昇降部１３が下降しトレー１
６上に空のボート２を置く０移替部１５でカセットから
未熱処理のウェーハ１がボート２へ移替えられる。ウェ
ーハ１が収納されたボート２は昇降手段１２により上昇
され、ボート待機手段２ｏ上方高さにされる。
れたカセットが搬入されてあり、このウェーハ１のロッ
トの該当する熱処理チューブ５が処理中である場合とす
る。ボート待機手段２１の空のボート２が載せられた可
動ボート受け２５を、Ａ位置からＢ位置移動し、昇降手
段１２により腕部１４で空のボート２をすくい上げ支持
するっ可動ケート受け２５はＢ位置に戻され、腕部１４
で空のボート２を支持した昇降部１３が下降しトレー１
６上に空のボート２を置く０移替部１５でカセットから
未熱処理のウェーハ１がボート２へ移替えられる。ウェ
ーハ１が収納されたボート２は昇降手段１２により上昇
され、ボート待機手段２ｏ上方高さにされる。
可動ボート受け２５がＡ位置からＢ位置に移動され、腕
部１４からボート２が移され、Ａ位置に戻され待機する
。該当の熱処理チューブ５でウェーハの処理が終るとそ
のボート２がボート入出手段８により引出され、昇降手
段１２の腕部１４に支持され、トレー１６上に降ろされ
、移替部１５でウェーハ１がボート２がら空のカセット
に移替えが始められる。一方、未熱処理ウェーハ１を収
納したボート２を載せＡ位置で待機していた可動ボート
受け２５は、Ｂ位置に移動され、昇降手段１２により腕
部１４でボート２がボート入出機構８の受皿９に移され
、熱処理チューブ５内へ送込まれ、ウェーハｌの熱処理
がされる。
部１４からボート２が移され、Ａ位置に戻され待機する
。該当の熱処理チューブ５でウェーハの処理が終るとそ
のボート２がボート入出手段８により引出され、昇降手
段１２の腕部１４に支持され、トレー１６上に降ろされ
、移替部１５でウェーハ１がボート２がら空のカセット
に移替えが始められる。一方、未熱処理ウェーハ１を収
納したボート２を載せＡ位置で待機していた可動ボート
受け２５は、Ｂ位置に移動され、昇降手段１２により腕
部１４でボート２がボート入出機構８の受皿９に移され
、熱処理チューブ５内へ送込まれ、ウェーハｌの熱処理
がされる。
また、移替部１５で移替えが完了し空になったボート２
は、次の未納処理のウェーハ１のロードを収納したカセ
ットがある場合は移替えられ、ない場合は空のままで、
昇降手段１２により可動ボート受け２５に移され、Ａ位
置で待機する。
は、次の未納処理のウェーハ１のロードを収納したカセ
ットがある場合は移替えられ、ない場合は空のままで、
昇降手段１２により可動ボート受け２５に移され、Ａ位
置で待機する。
なお、上記実施例では、ボート待機手段２１を１組装着
したが、場合により複数組装着してもよい。
したが、場合により複数組装着してもよい。
また、上記実施例では、熱処理チューブ５及び枠体６の
棚７を３段設けたが、必要により増減してもよい。
棚７を３段設けたが、必要により増減してもよい。
以上のように、この発明によれば、枠体の前部にボート
待機手段を装着し、このボート待機手段の可動ボート受
けに空又は未熱処理のウェーハを収納したボートを載せ
待機するようにしたので、熱処理チューブの稼動率が向
上し、未熱処理のウェーハがボートに収納され可動ボー
ト受けで待機され、熱処理の待ち時間が短縮され、ウェ
ーハの半導体素子の形成が良好になされる。
待機手段を装着し、このボート待機手段の可動ボート受
けに空又は未熱処理のウェーハを収納したボートを載せ
待機するようにしたので、熱処理チューブの稼動率が向
上し、未熱処理のウェーハがボートに収納され可動ボー
ト受けで待機され、熱処理の待ち時間が短縮され、ウェ
ーハの半導体素子の形成が良好になされる。
第１図はこの発明によるウェーハ収納ボートの熱処理炉
への搬入出装置の一実施例を示す斜視図、第２図は第１
図のボート待機手段を一部断面して示す正面図、第３図
は従来の搬入出装置を示す斜視図である。 ｌ・・・半導体ウェーハ、２・・・ボート、４・・・熱
処理炉、５・・・熱処理チューブ、６・・・枠体、７・
・・棚、８・・・ボート入出手段、９・・・受皿、１２
・・・昇降手段、１５・・・移替部、２０・・・ウェー
ハ収納ボートの搬入出装置、２１・・・ボート待機手段
、２５・・・可動ボート受け なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
への搬入出装置の一実施例を示す斜視図、第２図は第１
図のボート待機手段を一部断面して示す正面図、第３図
は従来の搬入出装置を示す斜視図である。 ｌ・・・半導体ウェーハ、２・・・ボート、４・・・熱
処理炉、５・・・熱処理チューブ、６・・・枠体、７・
・・棚、８・・・ボート入出手段、９・・・受皿、１２
・・・昇降手段、１５・・・移替部、２０・・・ウェー
ハ収納ボートの搬入出装置、２１・・・ボート待機手段
、２５・・・可動ボート受け なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 熱処理チューブが設けられた熱処理炉に隣接して配設さ
れ、枠体に設けられた棚にボート入出手段が装着され、
このボート入出手段の受皿上に、半導体ウェーハを収納
したボートを載せ、上記熱処理チューブ内へ送込み及び
引出しをし、熱処理済みの上記半導体ウーハを収納した
ボートを昇降手段により上記受皿から下方の移替部に降
し、移替部で熱処理済半導体ウェーハが移出され、未熱
処理半導体ウェーハが移替え収納されたボートを上記昇
降手段により上昇し、熱処理されるようにしたボートの
搬入出装置において、上記枠体の前部に装着され、可動
ボート受けを上記熱処理チューブ方向への前進及び後退
して待機位置にし、上記昇降手段により上記可動ボート
受けに予備のボートが載せられ待機させるボート待機手
段を備えたことを特徴とするウェーハ収納ボートの熱処
理炉への搬入出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27039285A JPS62128523A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエ−ハ収納ボ−トの熱処理炉への搬入出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27039285A JPS62128523A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエ−ハ収納ボ−トの熱処理炉への搬入出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62128523A true JPS62128523A (ja) | 1987-06-10 |
Family
ID=17485618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27039285A Pending JPS62128523A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエ−ハ収納ボ−トの熱処理炉への搬入出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62128523A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01292816A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Tel Sagami Ltd | 半導体製造熱処理方法及び装置 |
| JPH03248418A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
| EP1139392A2 (en) * | 2000-03-28 | 2001-10-04 | Amtech Systems, Inc. | Improved wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
| US6352399B1 (en) * | 1999-07-07 | 2002-03-05 | Amtech Systems, Inc. | Twin tower wafer boat loading system and method |
| US6537010B2 (en) * | 1999-07-07 | 2003-03-25 | Amtech Systems, Incorporated | Wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP27039285A patent/JPS62128523A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01292816A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Tel Sagami Ltd | 半導体製造熱処理方法及び装置 |
| JPH03248418A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
| US6352399B1 (en) * | 1999-07-07 | 2002-03-05 | Amtech Systems, Inc. | Twin tower wafer boat loading system and method |
| US6537010B2 (en) * | 1999-07-07 | 2003-03-25 | Amtech Systems, Incorporated | Wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
| EP1139392A2 (en) * | 2000-03-28 | 2001-10-04 | Amtech Systems, Inc. | Improved wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
| EP1139392A3 (en) * | 2000-03-28 | 2006-01-25 | Amtech Systems, Inc. | Improved wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
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