JPH0666376B2 - 縦形半導体製造装置におけるウェ−ハ搬送方法 - Google Patents
縦形半導体製造装置におけるウェ−ハ搬送方法Info
- Publication number
- JPH0666376B2 JPH0666376B2 JP15231287A JP15231287A JPH0666376B2 JP H0666376 B2 JPH0666376 B2 JP H0666376B2 JP 15231287 A JP15231287 A JP 15231287A JP 15231287 A JP15231287 A JP 15231287A JP H0666376 B2 JPH0666376 B2 JP H0666376B2
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- JP
- Japan
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- boat
- furnace
- wafer
- manufacturing apparatus
- semiconductor manufacturing
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体デバイスの製造に使用する拡散装置，Ｃ
ＶＤ装置等の縦形半導体製造装置に係り、特に未処理ウ
エーハを炉側の位置に、処理済ウエーハを立て替え側の
位置に同時に搬送する方法に関する。
ＶＤ装置等の縦形半導体製造装置に係り、特に未処理ウ
エーハを炉側の位置に、処理済ウエーハを立て替え側の
位置に同時に搬送する方法に関する。
従来のこの種の半導体製造装置はＦｅ・Ｃｒ・Ａ等の
丸線を螺旋状に巻いた抵抗加熱による管状炉を横に配置
した横形炉であり、この管状炉内へのウエーハの搬入・
搬出は、ウエーハを載置した石英製のボート（ウエーハ
保持器）を石英製のカンチレバー形（片持ち式）のアー
ムに載せて搬入・搬出を行っており、炉内で処理してい
る間はボート搬送機構を停止しているのが通常の方法で
ある。
丸線を螺旋状に巻いた抵抗加熱による管状炉を横に配置
した横形炉であり、この管状炉内へのウエーハの搬入・
搬出は、ウエーハを載置した石英製のボート（ウエーハ
保持器）を石英製のカンチレバー形（片持ち式）のアー
ムに載せて搬入・搬出を行っており、炉内で処理してい
る間はボート搬送機構を停止しているのが通常の方法で
ある。
また管状炉を縦に配置した縦形炉にあっては、炉内への
空気の混入を減少させるためウエーハの挿入口を下側に
し、ウエーハを充填した石英製のボートを昇降機構の台
上に載せて下側の挿入口より炉内にボートを搬入し処理
後に搬出するものである。
空気の混入を減少させるためウエーハの挿入口を下側に
し、ウエーハを充填した石英製のボートを昇降機構の台
上に載せて下側の挿入口より炉内にボートを搬入し処理
後に搬出するものである。
しかしながら従来の縦形炉においては、炉内のウエーハ
の処理前後の上昇及び下降時間の和以内の時間で新たに
処理する未処理ウエーハをカセットからボートに移し、
この未処理ウエーハを載置したボートと処理済ウエーハ
を載置したボートを別々に搬送するもので同時に搬送す
るものではないので、無駄な時間を消費し、スループッ
トを向上させることができないという問題点があった。
の処理前後の上昇及び下降時間の和以内の時間で新たに
処理する未処理ウエーハをカセットからボートに移し、
この未処理ウエーハを載置したボートと処理済ウエーハ
を載置したボートを別々に搬送するもので同時に搬送す
るものではないので、無駄な時間を消費し、スループッ
トを向上させることができないという問題点があった。
本発明は上記の問題点に鑑み、未処理ウエーハを載置し
たボートと処理済ウェーハを載置したボートを同時に搬
送すれば、無駄な時間を消費することなくスループット
を向上させることができる点に着目してなされたもので
ある。
たボートと処理済ウェーハを載置したボートを同時に搬
送すれば、無駄な時間を消費することなくスループット
を向上させることができる点に着目してなされたもので
ある。
即ち、本発明方法は図示のように縦形半導体製造装置に
おいて、未処理ウェーハ２ａを載置したボート３ａ及び
処理済ウェーハ２ｂを載置したボート３ｂをそれぞれ立
て替え機側及び炉側昇降機構５，７の台１２，１３に載
置し、その立て替え機側及び炉側昇降機構５，７の間に
台１２，１３上のボート３ａ，３ｂを回転軸９に取り付
けた回転アーム１０のステージ１１で支持し、相互に移
し替えるボート回転機構８を設け、立て替え側の位置に
ある未処理ウェーハ２ａを載置したボート３ａと、炉側
の位置にある処理済みウェーハ２ｂを載置したボート３
ｂをそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇
降機構５，７の連係により炉側の位置及び立て替え側の
位置に同時に搬送するようにしたものである。
おいて、未処理ウェーハ２ａを載置したボート３ａ及び
処理済ウェーハ２ｂを載置したボート３ｂをそれぞれ立
て替え機側及び炉側昇降機構５，７の台１２，１３に載
置し、その立て替え機側及び炉側昇降機構５，７の間に
台１２，１３上のボート３ａ，３ｂを回転軸９に取り付
けた回転アーム１０のステージ１１で支持し、相互に移
し替えるボート回転機構８を設け、立て替え側の位置に
ある未処理ウェーハ２ａを載置したボート３ａと、炉側
の位置にある処理済みウェーハ２ｂを載置したボート３
ｂをそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇
降機構５，７の連係により炉側の位置及び立て替え側の
位置に同時に搬送するようにしたものである。
立て替え側の位置にある未処理ウエーハ２ａを載置した
ボート３ａと，炉側の位置にある処理済ウエーハ２ｂを
載置したボート３ｂは、それぞれボート回転機構８と立
て替え機側，炉側昇降機構５，７の連係により同時に回
転して炉側の位置及び立て替え側の位置に搬送されるこ
とになる。
ボート３ａと，炉側の位置にある処理済ウエーハ２ｂを
載置したボート３ｂは、それぞれボート回転機構８と立
て替え機側，炉側昇降機構５，７の連係により同時に回
転して炉側の位置及び立て替え側の位置に搬送されるこ
とになる。
以下図面に基づいて本発明の実施例を説明する。
図面は本発明方法を実施するための縦形半導体製造装置
の一例を示す斜視図である。
の一例を示す斜視図である。
４はウエーハ立て替え機で、カセット１内の未処理ウエ
ーハ２ａを立て替え側位置にあるボート３ａに載置し，
あるいはその逆に炉側の位置にあるボート３ｂに載置さ
れた処理済ウエーハ２ｂをカセット１に移し替えるもの
である。
ーハ２ａを立て替え側位置にあるボート３ａに載置し，
あるいはその逆に炉側の位置にあるボート３ｂに載置さ
れた処理済ウエーハ２ｂをカセット１に移し替えるもの
である。
５は立て替え機側昇降機構で、立て替え機４と協力して
ボート３ａに未処理ウエーハ２ａを順次載置し，あるい
はボート３ｂより処理済ウエーハ２ｂを順次取出すべく
当該ボート３ａ，３ｂを所定間隔ずつ上昇または下降さ
せるものであり、ボート３ａに未処理ウエーハ２ａを棚
状に１枚または複数枚ずつ所定間隔をおいて載せ、ある
いはボート３ｂに棚状に１枚または複数枚ずつ所定間隔
をおいて載せられた処理済ウエーハ２ｂを取出すために
供するものである。
ボート３ａに未処理ウエーハ２ａを順次載置し，あるい
はボート３ｂより処理済ウエーハ２ｂを順次取出すべく
当該ボート３ａ，３ｂを所定間隔ずつ上昇または下降さ
せるものであり、ボート３ａに未処理ウエーハ２ａを棚
状に１枚または複数枚ずつ所定間隔をおいて載せ、ある
いはボート３ｂに棚状に１枚または複数枚ずつ所定間隔
をおいて載せられた処理済ウエーハ２ｂを取出すために
供するものである。
７は炉側昇降機構で、未処理ウエーハ２ａを載置したボ
ート３ａ及び処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂ
をそれぞれ上昇及び下降させて反応管６内に搬入及びこ
れより搬出させるものである。
ート３ａ及び処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂ
をそれぞれ上昇及び下降させて反応管６内に搬入及びこ
れより搬出させるものである。
８はボート回転機構で、立て替え側の位置にある未処理
ウエーハ２ａを載置したボート３ａと，炉側の位置にあ
る処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂをそれぞれ
炉側の位置及び立て替え側の位置に同時に回転により搬
送するものである。
ウエーハ２ａを載置したボート３ａと，炉側の位置にあ
る処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂをそれぞれ
炉側の位置及び立て替え側の位置に同時に回転により搬
送するものである。
このボート回転機構８は、回転軸９に中心を取付けた回
転アーム１０の両端部に、未処理ウエーハ２ａを載置し
たボート３ａと処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３
ｂの下端頸れ部を支持するべく回転方向側面にコ字形や
半円形等の切欠きを持ったステージ１１を設け、該ステ
ージ１１をボート３ａ，３ｂの下端頸れ部分に遊嵌し、
立て替え機側及び炉側昇降機構５，７により台１２，１
３が下降すると、ステージ１１でボート３ａ，３ｂが支
持され、回転アーム１０の回転により両ステージ１１に
支持された未処理ウエーハ２ａのボート３ａと処理済ウ
エーハ２ｂのボート３ｂをそれぞれ炉側の位置（ボート
３ａを炉内に搬入できる位置）と立て替え側の位置（ボ
ート３ｂより処理済ウエーハ２ｂをカセット１に移し替
えできる位置）に回転し、立て替え機側昇降機構５と炉
側昇降機構７が、ボート３ａ，３ｂをステージ１１に移
した時に下げた分と同じだけ上昇させ、ステージ１１か
らボート３ａ，３ｂが離れると、ボート回転機構８によ
り回転アーム１０をボート回転方向と逆におよそ90°回
転させて、ステージ１１を退避させることにより、ボー
トの搬送動作が完了するもので、２つの工程を同時に行
えるものである。
転アーム１０の両端部に、未処理ウエーハ２ａを載置し
たボート３ａと処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３
ｂの下端頸れ部を支持するべく回転方向側面にコ字形や
半円形等の切欠きを持ったステージ１１を設け、該ステ
ージ１１をボート３ａ，３ｂの下端頸れ部分に遊嵌し、
立て替え機側及び炉側昇降機構５，７により台１２，１
３が下降すると、ステージ１１でボート３ａ，３ｂが支
持され、回転アーム１０の回転により両ステージ１１に
支持された未処理ウエーハ２ａのボート３ａと処理済ウ
エーハ２ｂのボート３ｂをそれぞれ炉側の位置（ボート
３ａを炉内に搬入できる位置）と立て替え側の位置（ボ
ート３ｂより処理済ウエーハ２ｂをカセット１に移し替
えできる位置）に回転し、立て替え機側昇降機構５と炉
側昇降機構７が、ボート３ａ，３ｂをステージ１１に移
した時に下げた分と同じだけ上昇させ、ステージ１１か
らボート３ａ，３ｂが離れると、ボート回転機構８によ
り回転アーム１０をボート回転方向と逆におよそ90°回
転させて、ステージ１１を退避させることにより、ボー
トの搬送動作が完了するもので、２つの工程を同時に行
えるものである。
上記の構成においてまず、 カセット１内の未処理ウエーハ２ａを立て替え機４
により立て替え位置にあり、かつ立て替え機側昇降機構
５の台１２上にあるボート３ａの最上位置の載置部に１
枚または複数枚ずつ載せ、次いで昇降機構５によりボー
ト３ａを所定間隔だけ上昇させ、当該位置の載置部に同
様に未処理ウエーハ２ａを載置し、以下立て替え機４と
立て替え機側昇降機構５の協力で、ボート３ａに規定枚
数の未処理ウエーハ２ａを載置する。
により立て替え位置にあり、かつ立て替え機側昇降機構
５の台１２上にあるボート３ａの最上位置の載置部に１
枚または複数枚ずつ載せ、次いで昇降機構５によりボー
ト３ａを所定間隔だけ上昇させ、当該位置の載置部に同
様に未処理ウエーハ２ａを載置し、以下立て替え機４と
立て替え機側昇降機構５の協力で、ボート３ａに規定枚
数の未処理ウエーハ２ａを載置する。
ボート３ａに規定枚数のウエーハ２ａを載置した
後、このボート３ａをボート回転機構８により、立て替
え機側昇降機構５の台１２から炉側昇降機構７の台１３
に移替える。
後、このボート３ａをボート回転機構８により、立て替
え機側昇降機構５の台１２から炉側昇降機構７の台１３
に移替える。
炉側昇降機構７の台１３を上昇させてこの台１３に
移されたボート３ａを、反応管６内に搬入し、ボート３
ａに載置された未処理ウエーハ２ａの処理を行う。
移されたボート３ａを、反応管６内に搬入し、ボート３
ａに載置された未処理ウエーハ２ａの処理を行う。
処理終了後、炉側昇降機構７の台１３を下降させて
処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂを反応管６内
より搬出する。
処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂを反応管６内
より搬出する。
一方、この間にの行程を終了し、規定枚数の未処
理ウエーハ２ａを載置した別のボート３ａと、の行程
を終えた規定枚数の処理済ウエーハ２ｂを載置したボー
ト３ｂをそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉
側昇降機構５，７の連係により立て替え機側昇降機構５
の台１２から炉側昇降機構７の台１３へ及び炉側昇降機
構７の台１３から立て替え機側昇降機構５の台１２へ同
時に移し替える。
理ウエーハ２ａを載置した別のボート３ａと、の行程
を終えた規定枚数の処理済ウエーハ２ｂを載置したボー
ト３ｂをそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉
側昇降機構５，７の連係により立て替え機側昇降機構５
の台１２から炉側昇降機構７の台１３へ及び炉側昇降機
構７の台１３から立て替え機側昇降機構５の台１２へ同
時に移し替える。
立て替え機側昇降機構５の台１２に移し替えられた
ボート３ｂに載置した処理済ウエーハ２ｂをウエーハ立
て替え機４と、当該昇降機構５の台１２の所定間隔毎の
下降動作とによりカセット１に規定枚数の処理済ウエー
ハ２ｂを順次移し替える。
ボート３ｂに載置した処理済ウエーハ２ｂをウエーハ立
て替え機４と、当該昇降機構５の台１２の所定間隔毎の
下降動作とによりカセット１に規定枚数の処理済ウエー
ハ２ｂを順次移し替える。
一方、の行程中、規定数枚の未処理ウエーハ２ａ
を載置した別のボート３ａについて，の行程を実行
し、未処理ウエーハ２ａの処理と、処理終了後の処理済
ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂの反応管６内よりの
搬出を行う。
を載置した別のボート３ａについて，の行程を実行
し、未処理ウエーハ２ａの処理と、処理終了後の処理済
ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂの反応管６内よりの
搬出を行う。
以下上記〜の行程を繰り返し実行する。
本発明方法においては、の行程時間を、の行程時間
との行程時間の時間内にし、立て替え側の位置にある
未処理ウエーハ２ａを載置したボート３ａと、炉側の位
置にある処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂをそ
れぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降機構
５，７の連係により炉側の位置及び立て替え位置に同時
に搬送するようにしたものである。
との行程時間の時間内にし、立て替え側の位置にある
未処理ウエーハ２ａを載置したボート３ａと、炉側の位
置にある処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂをそ
れぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降機構
５，７の連係により炉側の位置及び立て替え位置に同時
に搬送するようにしたものである。
上述のように本発明方法によれば、立て替え側の位置に
ある未処理ウエーハ２ａを載置したボート３ａと，炉側
の位置にある処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂ
をそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降
機構５，７の連係により炉側の位置及び立て替え側の位
置に同時に搬送するようにしたので、２工程を１度に行
うことになり、無駄な時間をなくし、スループットを向
上できるばかりでなく、装置のコストを安価にできる。
また、ボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降機構
５，７の連係でボート３ａ，３ｂの搬送を行うので、搬
送空間を有効に使用でき、省スペース化を図ることがで
きる。
ある未処理ウエーハ２ａを載置したボート３ａと，炉側
の位置にある処理済ウエーハ２ｂを載置したボート３ｂ
をそれぞれボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降
機構５，７の連係により炉側の位置及び立て替え側の位
置に同時に搬送するようにしたので、２工程を１度に行
うことになり、無駄な時間をなくし、スループットを向
上できるばかりでなく、装置のコストを安価にできる。
また、ボート回転機構８と立て替え機側，炉側昇降機構
５，７の連係でボート３ａ，３ｂの搬送を行うので、搬
送空間を有効に使用でき、省スペース化を図ることがで
きる。
図面は本発明方法を実施するための縦形半導体製造装置
の一例を示す斜視図である。 １……カセット、２ａ……未処理ウエーハ、２ｂ……処
理済ウエーハ、３ａ，３ｂ……ボート、４……ウエーハ
立て替え機、５……立て替え機側昇降機構、６……反応
管、７……炉側昇降機構、８……ボート回転機構、９…
…回転軸、１０……回転アーム、１１……ステージ、１
２……立て替え機側昇降機構５の台、１３……炉側昇降
機構７の台。
の一例を示す斜視図である。 １……カセット、２ａ……未処理ウエーハ、２ｂ……処
理済ウエーハ、３ａ，３ｂ……ボート、４……ウエーハ
立て替え機、５……立て替え機側昇降機構、６……反応
管、７……炉側昇降機構、８……ボート回転機構、９…
…回転軸、１０……回転アーム、１１……ステージ、１
２……立て替え機側昇降機構５の台、１３……炉側昇降
機構７の台。
Claims (1)
- 【請求項１】縦形半導体製造装置において、未処理ウェ
ーハ２ａを載置したボート３ａ及び処理済ウェーハ２ｂ
を載置したボート３ｂをそれぞれ立て替え機側及び炉側
昇降機構５，７の台１２，１３に載置し、この立て替え
機側及び炉側昇降機構５，７の間に、台１２，１３上の
ボート３ａ，３ｂを回転軸９に取付けた回転アーム１０
のステージ１１で支持し、相互に移し替えるボート回転
機構８を設け、立て替え側の位置にある未処理ウェーハ
２ａを載置したボート３ａと、炉側の位置にある処理済
みウェーハ２ｂを載置したボート３ｂをそれぞれ前記ボ
ート回転機構８と立て替え機側及び炉側昇降機構５，７
の連係により炉側の位置及び立て替え側の位置に同時に
搬送するようにした縦形半導体製造装置におけるウェー
ハ搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15231287A JPH0666376B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 縦形半導体製造装置におけるウェ−ハ搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15231287A JPH0666376B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 縦形半導体製造装置におけるウェ−ハ搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63314843A JPS63314843A (ja) | 1988-12-22 |
| JPH0666376B2 true JPH0666376B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=15537772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15231287A Expired - Lifetime JPH0666376B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | 縦形半導体製造装置におけるウェ−ハ搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666376B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07105357B2 (ja) * | 1989-01-28 | 1995-11-13 | 国際電気株式会社 | 縦型ｃｖｄ拡散装置に於けるウェーハ移載方法及び装置 |
| JP2668024B2 (ja) * | 1990-02-26 | 1997-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
| CN107585604B (zh) * | 2017-09-09 | 2019-09-13 | 芜湖润林包装材料有限公司 | 一种纸护角上纸提升机 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4770590A (en) * | 1986-05-16 | 1988-09-13 | Silicon Valley Group, Inc. | Method and apparatus for transferring wafers between cassettes and a boat |
-
1987
- 1987-06-17 JP JP15231287A patent/JPH0666376B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63314843A (ja) | 1988-12-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |