JPH11329989A

JPH11329989A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11329989A
Application number: JP13935498A
Authority: JP
Inventors: Shoichiro Izumi; 昭一郎泉; Hiroshi Sekiyama; 博史関山; Masayuki Suzuki; 雅行鈴木; Koichi Noto; 幸一能戸; Kazuhiro Morimitsu; 和広盛満; Kazuo Kamemoto; 一雄亀本
Original assignee: Kokusai Electric Corp
Current assignee: Kokusai Electric Corp
Priority date: 1998-05-21
Filing date: 1998-05-21
Publication date: 1999-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】反応管の位置と、ボートのウェーハ交換位置
とを柔軟に決定でき、レイアウトにおける横幅等を縮小
できる基板処理装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置において、ボート搬送
機構１３は、縦型半導体処理装置の反応炉２０の直下の
第１の位置に配置された処理済みウェーハを収納するボ
ート１１の下部を把持アーム１６で把持することによ
り、反応炉エレベータ１５からボートを受け取り、直線
移動させて中継点まで移動し、あるいは、中継点に配置
される処理待ちのウェーハを収納したボート１０の下部
を把持して第１の位置に移動させ、反応炉エレベータに
引き渡す。ボート回転機構１２は、回転アーム１７の一
方に移載ユニット５からの処理待ちのウェーハを収納し
たボートを、他方にボート搬送機構からの処理済みのウ
ェーハを収納したボートをそれぞれ載せて、回転アーム
を回転させてこれらのボートを入れ替える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体処理装置
に使用される基板処理装置に関し、特に、複数枚の処理
待ちのウェーハを収納したボートが縦型の反応炉の直下
の第１の位置に配置されると、前記ボートを反応炉エレ
ベータによって上昇させて前記反応炉内に配置し、前記
反応炉による処理の終了後は、前記反応炉エレベータに
よって前記ボートを前記反応炉から下降させて再び前記
第１の位置に配置する縦型半導体処理装置のために使用
され、前記第１の位置と、前記ボートに対するウェーハ
の移載のための第２の位置との間でボートを移動させる
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は、特開昭６３−３１４８４３号公
報に開示されているこの種の半導体処理装置の従来例を
示す構成図である。この半導体処理装置１００において
は、ウェーハＣＷを多数枚収納した台１１４の上に載せ
られたボート１１１が反応炉の反応管１２０の中に配置
され、反応管１２０において成膜処理等の所定の処理が
なされた後に、炉側昇降機構１１５によって、反応管１
２０の直下の規定位置に下ろされる。他方、前のサイク
ルで処理済みのウェーハＣＷを収納したボート１１０は
台１０６に載せられている。ウェーハ立て替え機１０５
は、台１０６に載せられたボート１１０を昇降させる立
て替え機側昇降機１０９と協働して、ボート１１０に収
納されていた前サイクルにおいて処理済みのウェーハＣ
Ｗをボート１１０から適宜なカセット１０２に移載し、
カセット１０２に収納されている処理待ちのウェーハＣ
Ｗをボート１１０に移載することによって、ウェーハＣ
Ｗの置き換えを行い、置き換えの完了とともに、ボート
１１０を規定位置に配置する。

【０００３】ボート１１０とボート１１１とがそれぞれ
の規定位置におかれると、ボート回転機構１１２は、回
転アーム１１７を回転軸ＰＰの周りで水平に回転させ、
回転アーム１１７の両端に設けられたフック状のステー
ジ１１９をボート１１０，１１１の下部の括れ部分に係
合させ、ボート１１０とボート１１１との位置を互いに
入れ換えるように、回転アーム１１７をさらに１８０度
回転させる。したがって、ボート１１０は、ボート１１
１があった反応管１２０の直下の台１１４の上に配置さ
れ、ボート１１１は、ボート１１０があった台１０６に
上に配置される。そこで、炉側昇降機構１１５は、台１
１４を若干上昇させてボート１１０を支持し、ボート回
転機構１１２が回転アーム１１７のステージ１１９のボ
ート１１０への係合を解除すると、ボート１１０を反応
管１２０の中に処理のために配置する。他方、ボート１
１１は、ウェーハ立て替え機１０５によってウェーハの
交換を受けることとなる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
処理装置１００においては、ボート回転機構１１２が回
転アーム１１７を回転軸ＰＰの周りで水平に回転させ、
回転アーム１１７の両端に設けられたフック状のステー
ジ１１９を反応管１２０の直下にくるようにしているの
で、処理済みのウェーハＣＷを収納したボートと、処理
待ちのウェーハＣＷを収納したボートとを簡単に位置交
換できる。しかし、この場合、反応管１２０の中心位置
と、ボート回転機構１１２の回転軸ＰＰの位置との関係
は、回転軸ＰＰが台１１４（反応管１２０の底部の蓋部
としての役目も持っている）から離れた位置に配置しな
ければならず、ボートを載せたときの回転アーム１１７
の回転に関する最大直径はむやみに小さくはできない。
また、ボートの交換あるいはボート内のウェーハの交換
を反応管１２０の直下に関係なくレイアウトを自由に実
行したい場合に従来の構造では困難である。

【０００５】例えば、図８のような設置平面において、
クリーンユニット等の装置２０１，２０２を反応管１２
０の右側あるいは左側に配置したい場合が生ずる。この
場合、装置２０１，２０２の間が５６０ｍｍに制限され
ているとともに、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、それぞれ３５０
ｍｍ，５０ｍｍ，２４０ｍｍである。したがって、Ｒ１
は、２００ｍｍであり、回転アーム１１７の回転による
回転直径は（Ｒ１＋１２０ｍｍ）×２であることから６
４０ｍｍである。このことにより、図９に示されるよう
に、ボート１１０，１１１が装置２０１，２０２と重な
り、それらと突き当たることとなる。

【０００６】この発明は、このような問題を解決するた
めに、反応管の位置と、ボートに収納するウェーハの交
換位置との関係をもっと柔軟に決定でき、例えば、レイ
アウトにおける横幅を狭くできるような基板処理装置を
提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ために、この発明は、複数枚のウェーハを収納したボー
トを縦型反応炉に対して搭載／搬出するための前記縦型
反応炉の直下の第１の位置と、前記ボートに対するウェ
ーハ移載のための第２の位置との間で前記ボートを移動
させる基板処理装置において、前記ボートを前記第１の
位置と中継点との間で水平直線的に移動させるボート搬
送機構と、前記ボートを前記中継点と前記第２の位置と
の間で水平旋回移動させるボート回転機構とを有する。

【０００８】また、この発明は、複数枚の処理待ちのウ
ェーハを収納したボートが縦型の反応炉の直下の第１の
位置に配置されると、前記ボートを反応炉エレベータに
よって上昇させて前記反応炉内に配置し、前記反応炉に
よる処理の終了後は、前記反応炉エレベータによって前
記ボートを前記反応炉から下降させて再び前記第１の位
置に配置する縦型半導体処理装置のために使用され、前
記第１の位置と、前記ボートに対するウェーハの移載の
ための第２の位置との間においてボートを移動させる基
板処理装置において、前記ボートの下部を把持あるいは
その把持を解除できる把持アームを具備し、前記第１の
位置に配置された前記ボートの下部を前記把持アームに
よって把持して前記反応炉エレベータから前記ボートを
受け取り、前記ボートを直線移動させて中継点まで移動
し、あるいは、前記中継点に配置されるボートの下部を
把持して前記第１の位置に移動させて、前記ボートを前
記反応炉エレベータに引き渡すボート搬送機構と、ボー
トを立てて支持できるボート支持手段を両端に備えた回
転アームを含み、前記回転アームをそれの中心軸の周り
に水平に回転させるとともに、前記ボート支持手段を前
記中継点と前記第２の位置に停止でき、前記中継点にお
いては、前記支持手段と、前記ボート搬送機構の前記把
持アームとの間で、ボートの授受を行うボート回転機構
とを有するようにされていてもよい。

【０００９】さらに、この発明は、複数枚の処理待ちの
ウェーハを収納したボートが縦型の反応炉の直下の第１
の位置に配置されると、前記ボートを反応炉エレベータ
によって上昇させて前記反応炉内に配置し、前記反応炉
による処理の終了後は、前記反応炉エレベータによって
前記ボートを前記反応炉から下降させて再び前記第１の
位置に配置する縦型半導体処理装置のために使用され、
前記第１の位置と、前記ボートに対するウェーハの移載
のための第２または第３の位置との間においてボートを
移動させる基板処理装置において、前記反応炉の直下か
ら離れたところに配置され、前記反応炉に対向する側に
回転中心をもつ円周に沿って水平に移動できるプレート
状の円周スライドプレートと、前記ボートの下部を把持
することができ、あるいは、その把持を解除でき、か
つ、一定の距離をおいてそれぞれがボートを円周スライ
ドプレートの上で把持できるように、前記円周スライド
プレートの上に組み付けられた第１，第２の把持アーム
であって、前記第１，第２の把持アームの一方が前記第
２または第３の位置に移動されるとき、他方は、把持し
ているボートを前記第１の位置に移動し、あるいは、前
記第１の位置から前記円周スライドプレートの上に移動
できるように関係付けられている第１，第２の把持アー
ムとを有するようにされていてもよい。

【００１０】このような構成によれば、ボート搬送機構
によってボートを縦型反応炉の直下の第１の位置から縦
型反応炉の直下以外の中継点に移動し、ボート回転機構
によってそのボートを中継点からウェーハ移載のための
第２の位置に移動できるとともに、この逆方向の移動も
可能であるので、ウェーハ移載のためにボートの水平回
転を縦型反応炉の直下から開始する必要が無く反応炉直
下においてスペースをあまり必要としない。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて添付図面に基づいて説明する。図１は、この発明に
係わる基板処理装置の第１の実施の形態が使用されてい
る半導体処理装置を示す構成図、図２は、図１の半導体
処理装置を上から見た拡大平面図、図３は、図１の半導
体処理装置に用いられた基板処理装置を拡大して示す構
成図である。なお、図１においては、ボートが３台表示
されているが、これはボートの移動を説明するために表
示したもので、実際には２台のボートが配置されている
のであって、一台のボートがボート回転機構の上にあ
り、他の一台はボート搬送機構ないし反応炉内にある
か、両方のボートがボート回転機構の上にあるかであ
る。

【００１２】複数枚のウェーハＣＷがウェーハカセット
２（以降、カセット２と記す）に収納されて、カセット
ステージ３に供給される。カセットステージ３に供給さ
れたカセット２は、カセット回転機構（不図示）によっ
て、図１の矢印ＲＲのように、収納しているウェーハＣ
Ｗが水平に保持されるように９０°回転される。カセッ
ト棚４は、カセットステージ３を介して半導体処理装置
１と外部の装置との間で授受されるカセット２を一時的
に保管できるように適宜な数だけ設けられている。第１
のエレベータ９は、フィンガ部７と移載ハンド８とを具
備する移載ユニット５を上下に駆動する。移載ユニット
５は、矢印ＲＰによって示されるように、第１のエレベ
ータ９によって上下に移動されるとともに、ウェーハ移
載のためにフィンガ部７を前後に往復動させ、左右に旋
回させることができる。

【００１３】移載ユニット５は、フィンガ部７と移載ハ
ンド８とを駆動して、カセットステージ３を介して供給
されカセット回転機構によって回転されたカセット２を
適宜にカセット棚４に保管する。また、移載ユニット５
は、保管したカセット２から必要なウェーハＣＷを取り
出し、ボート、例えばボート１０に移載する。また、ボ
ート１０のウェーハＣＷが処理済みでカセット２へ戻す
べきであるときは、逆にボート１０のウェーハＣＷを適
宜なカセット２に収納する。ボート回転機構１２は、最
上部に取り付けられた回転アーム１７を必要に応じて所
定の角度（この例では、１８０度）ずつ水平に回転させ
る。回転アーム１７の回転中心から等距離の両端にはボ
ート搭載用テーブル１８，１９が取り付けられている。

【００１４】例えば、図１に示されるように、移載ユニ
ット側にテーブル１９が反対側にテーブル１８が設定さ
れている場合、処理済みのウェーハＣＷの収納されたボ
ートがテーブル１８に搭載され、処理待ちのウェーハＣ
Ｗの収納されたボートがテーブル１９に搭載されている
ものとする。ボート回転機構１２は、回転アーム１７を
矢印ＲＱに示されるように１８０度水平に回転させ、テ
ーブル１８，１９の位置を逆転させる。ボート搬送機構
１３は、ボート搬送機構側に逆転配置されたテーブル１
９に向けて把持アーム１６を矢印ＤＤに示されるように
移動させ、把持アーム１６の先端部分をテーブル１９の
上のボートの下部に係合させる。この場合、把持アーム
１６の移動は、図３に示したようにアーム移動用ねじ１
６ａを設け、これをモータ（不図示）で回転駆動して把
持アーム１６を移動するのが好ましいが、直線的なギヤ
への回転ギヤの噛み合いによる移動でもよい。

【００１５】把持アーム１６とボートの下部とが係合す
ると、ボート回転機構１２は、矢印ＲＱに示されるよう
に若干下降させられ、テーブル１９とボートとは、切り
離される。そこで、ボート搬送機構１３は、ボートを把
持アーム１６で把持した状態で、ボートを反応炉２０の
直下の受け台１４の上まで移動させる。受け台１４が第
２のエレベータ１５によって若干上昇されると、ボート
下部は、把持アーム１６との係合が解除可能となり、ボ
ート搬送機構１３は、把持アーム１６を受け台１４の上
から退避させる。第２のエレベータ１５は、受け台１４
の上のボート１１を上昇させて反応炉２０の中に設置す
る。反応炉２０では、ボートに搭載されたウェーハＣＷ
に対する所定の処理が実行される。

【００１６】この間、移載ユニット側に逆転配置された
テーブル１８の上のボートに対しては、反応炉側の動作
と同時進行的に、移載ユニット５によるウェーハＣＷの
入れ替えが実行される。すなわち、移載ユニット５は、
第１のエレベータ９と協働して、ボートに収納されてい
る処理済みのウェーハＣＷをカセット棚４のカセット２
へ移載するとともに、次のサイクルにおいて反応炉２０
で処理すべきウェーハＣＷをカセット棚４のカセット２
からボートに移載し、次のボート交換に備える。また、
処理済みのウェーハＣＷを収納したカセット２は、必要
があれば、適宜にカセットステージ３を経由して外部の
装置に引き渡される。

【００１７】反応炉２０におけるボートに搭載されたウ
ェーハＣＷの所定の処理が終了すると、第２のエレベー
タ１５は、処理済みのウェーハＣＷを収納しているボー
トを反応炉２０の直下に下ろす。そこで、ボート搬送機
構１３は、反応炉２０の直下にあるボートの下部に把持
アーム１６を係合させる。第２のエレベータ１５が若干
下降して、ボートの底面が受け台１４と係合しなくなる
と、ボート搬送機構１３は、矢印ＤＤで示されるよう
に、処理済みのウェーハＣＷを収納したボートを平行移
動させ、ボート搬送機構側に逆転配置されているテーブ
ル１９の上に停止させる。

【００１８】処理済みのウェーハＣＷを収納したボート
が逆転配置されているテーブル１９の上で停止される
と、ボート回転機構１２が若干上昇してボートをテーブ
ル１９の上に支持する。そこで、ボート搬送機構１３
は、把持アーム１６をボートの下部から外し、ボート回
転機構１２の回転アーム１７の回転の妨害にならないよ
うに後退し、ボート回転機構１２は、回転アーム１７を
１８０度回転させる。したがって、テーブル１８，１９
は、図１で示される元の位置に戻ってくる。このよう
に、元の位置に戻ってきたテーブル１８の上には、処理
待ちのウェーハＣＷが収納されたボートが搭載されてお
り、テーブル１９の上には、処理済みのウェーハＣＷが
収納されたボートが搭載されていることになる。そこ
で、先に説明したと同様なプロセスが繰り返されること
となる。すなわち、テーブル１８の上のボートは、反応
炉２０に向けて搬送され、テーブル１９の上のボートの
処理済みのウェーハＣＷは、カセット棚４のカセット２
の中の処理待ちのウェーハＣＷと入れ替えられる。

【００１９】次に、この発明に係わる基板処理装置の第
２の実施の形態について図４ないし図７を参照して説明
する。図４は、この基板処理装置のボートスライドテー
ブルと、それの把持アームに２つのボートが把持されて
いるところを示す外観図、図５は、図４のボートが反応
炉の直下に配置されるのを説明する図、図６（ａ）は、
図４の基板処理装置の各部の移動位置を示す平面図であ
り、図６（ｂ）は、図６（ａ）の正面図である。なお、
図６（ａ）および図６（ｂ）の場合、ボートスライドテ
ーブル４０の周囲の寸法が分かるように実際の概略の寸
法をｍｍ単位で記載してある。

【００２０】図４の基板処理装置は、ボートスライドテ
ーブル４０とそれを制御する制御部（不図示）とから構
成されている。ボートスライドテーブル４０の把持アー
ム５６，６６は、先端がボート５０，５１の下部を把持
できるように２又のフォーク形状を有し、それぞれアー
ムプレート５７，６７の上に組み付けられている。把持
アーム５６，６６は、アームプレート５７，６７に配置
されたねじ（不図示）と噛み合っており、モータ５８，
６８によってねじが回転されると、その回転方向によっ
て矢印Ｄ１，Ｄ２に沿って把持アーム５６，６６を前方
または後方にスライドさせる。把持アーム５６，６６
と、アームプレート５７，６７と、モータ５８，６８と
は、円周スライドプレート５４の上に組み付けられてい
る。円周スライドプレート５４は、円弧プレート形状を
しており、回転中心Ｏから所定の距離にある円周に沿っ
て配置された円弧プレート形状の円周ベースプレート５
５の上に配置されている。円周スライドプレート５４
は、モータ５３に駆動され、矢印ＲＺに沿って円周ベー
スプレート５５の上をスライドしつつ回転中心Ｏの周り
を回転する。

【００２１】ボートスライドテーブル４０は、把持アー
ム５６，６６の何れか、例えば、把持アーム５６によっ
て処理待ちのウェーハを収納したボート５０を反応炉７
０に入れようとする場合、モータ５３を駆動して、円周
スライドプレート５４を矢印ＲＺの方向に図６の位置Ｐ
２まで移動し、把持アーム５６を反応炉７０の直下に向
くようにする。次に、図５のように、モータ５８によっ
て把持アーム５６を反応炉７０の直下に向けて前方に繰
り出し、ボート５０を反応炉７０の直下の図６の位置Ｐ
１に停止させる。ボート５０が反応炉７０の直下の位置
Ｐ１に停止されると、反応炉エレベータは、下方からシ
ールキャップ６４を上昇させ、図５に示されるように把
持アーム５６の上のボート５０をシールキャップ６４の
上面によって支持する。そこで、ボートスライドテーブ
ル４０は、把持アーム５６がシールキャップ６４の上昇
を妨害しないように、把持アーム５６とボート５０との
係合を解除して把持アーム５６を円周スライドプレート
５４の上の位置Ｐ２に後退させる。

【００２２】把持アーム５６が円周スライドプレート５
４の方向に後退すると、反応炉エレベータは、シールキ
ャップ６４とボート５０とを上昇させ、ボートを反応炉
７０の中に配置するとともに、シールキャップ６４およ
びそれに取り付けられたＯリングによって反応炉７０を
シールし、反応炉内で成膜等の処理が実行されるように
する。反応炉内の処理が終了した後においては、これら
の工程の逆に進み、ボート５０は、反応炉エレベータの
操作部先端５２の上のシールキャップ６４に載せられて
反応炉７０の外に取り出され、再び位置Ｐ１に繰り出さ
れたボートスライドテーブル４０の把持アーム５６の上
に引き渡される。他方、位置Ｐ３におけるボート５１の
処理済みのウェーハは、ウェーハ移載ユニットによって
処理待ちのウェーハと入れ替えられている。

【００２３】そこで、ボートスライドテーブル４０は、
把持アーム５６を円周スライドプレート５４の上に後退
させ、反応炉エレベータから受け取ったボート５０を位
置Ｐ２に設定する。その後、モータ５３を駆動して、円
周スライドプレート５４を矢印ＲＺの方向に移動し、ボ
ート５０，５１がそれぞれ位置Ｐ４，Ｐ２にくるように
する。位置Ｐ２に到来したボート５１については、ボー
ト５０に対するのと同様に処理する。位置Ｐ４に到来し
たボート５１については、ウェーハ移載ユニットが処理
済みのウェーハを処理待ちのウェーハと入れ替える。

【００２４】ボート５１が処理終了後に位置Ｐ２に戻っ
てくると、再び、モータ５３を駆動して、ボート５０，
５１がそれぞれ位置Ｐ２，Ｐ３にくるようにする。位置
Ｐ２に到来したボート５０については、前のサイクルと
同様に処理する。位置Ｐ３に到来したボート５１につい
ては、ウェーハ移載ユニットが処理済みのウェーハを処
理待ちのウェーハと入れ替える。図４ないし図６で示さ
れた例においては、反応炉の直下からボートを適宜な位
置に自由に移動できるのでレイアウトが容易であり、ボ
ート回転機構を反応炉直下で使用しないので反応炉の前
後にスペースを作ることができ、横幅を狭くしたい場合
のレイアウトに好適である。また、位置Ｐ２と、位置Ｐ
３，Ｐ４との間にボート転倒防止板を配置すれば、移動
に伴うボートの転倒を防止できる。

【００２５】

【発明の効果】以上、詳述したように、この発明に係わ
る基板処理装置は、複数枚のウェーハを収納したボート
を縦型反応炉に対して搭載／搬出するための前記縦型反
応炉の直下の第１の位置と、前記ボートに対するウェー
ハ移載のための第２の位置との間で前記ボートを移動さ
せるために、前記ボートを前記第１の位置と中継点との
間で水平直線的に移動させるボート搬送機構と、前記ボ
ートを前記中継点と前記第２の位置との間で水平旋回移
動させるボート回転機構とを有するので、ボートを縦型
反応炉の直下の第１の位置から縦型反応炉の直下以外の
中継点に移動した後に、そのボートを中継点からウェー
ハ移載のための第２の位置に移動できるとともに、この
逆方向の移動も可能であることから、ウェーハ移載のた
めにボートの水平回転を縦型反応炉の直下から開始する
必要が無く反応炉直下においてスペースをあまり必要と
せず、したがって、縦型半導体処理装置のレイアウトを
柔軟に決定でき、例えば、縦型半導体処理装置の横幅を
狭めることが可能となるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係わる基板処理装置の第１の実施の
形態が使用されている半導体処理装置を示す構成図であ
る。

【図２】図１の半導体処理装置を上から見た拡大平面図
である。

【図３】図１の半導体処理装置に用いられた第１の実施
の形態の基板処理装置を拡大して示す構成図である。

【図４】この発明に係わる基板処理装置の第２の実施の
形態のボートスライドテーブルと、それの把持アームに
２つのボートが把持されているところを示す外観図であ
る。

【図５】図４のボートが反応炉の直下に配置されるのを
説明する図である。

【図６】（ａ）は図４の基板処理装置の各部の移動位置
を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の正面図である。

【図７】従来の基板処理装置が使用されている半導体処
理装置を示す構成図である。

【図８】半導体処理装置に従来の基板処理装置が使用さ
れた場合の問題点を説明するための平面図である。

【図９】半導体処理装置に従来の基板処理装置が使用さ
れた場合の問題点を説明するための平面図である。

【符号の説明】

１半導体処理装置２カセット３カセットステージ４カセット棚５移載ユニット７フィンガ部８移載ハンド９第１のエレベータ１０，１１，５０，５１ボート１２ボート回転機構１３ボート搬送機構１４受け台１５第２のエレベータ１６，５６，６６把持アーム１６ａアーム移動用ねじ１７回転アーム１８，１９ボート搭載用テーブル２０，７０反応炉４０ボートスライドテーブル５２反応炉エレベータの操作部先端５３，５８，６８モータ５４円周スライドプレート５５円周ベースプレート５７、６７アームプレート６４シールキャップＣＷウェーハＲＲ，ＲＰ，ＲＱ，ＤＤ，Ｄ１，Ｄ２，ＲＺ矢印

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者能戸幸一東京都中野区東中野三丁目14番20号国際電気株式会社内 (72)発明者盛満和広東京都中野区東中野三丁目14番20号国際電気株式会社内 (72)発明者亀本一雄東京都中野区東中野三丁目14番20号国際電気株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数枚のウェーハを収納したボートを縦
型反応炉に対して搭載／搬出するための前記縦型反応炉
の直下の第１の位置と、前記ボートに対するウェーハ移
載のための第２の位置との間で前記ボートを移動させる
基板処理装置において、前記ボートを前記第１の位置と中継点との間で水平直線
的に移動させるボート搬送機構と、前記ボートを前記中継点と前記第２の位置との間で水平
旋回移動させるボート回転機構とを有することを特徴と
する基板処理装置。