JPH04157752A - 縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置 - Google Patents

縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置

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JPH04157752A
JPH04157752A JP28294990A JP28294990A JPH04157752A JP H04157752 A JPH04157752 A JP H04157752A JP 28294990 A JP28294990 A JP 28294990A JP 28294990 A JP28294990 A JP 28294990A JP H04157752 A JPH04157752 A JP H04157752A
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JP
Japan
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carrier
wafer
stand
stage device
receiving plate
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Pending
Application number
JP28294990A
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English (en)
Inventor
Takashi Yamashita
山下 隆士
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Shinko Electric Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェハキャリアに収納された多数枚のウェハ
を装置内に搬入させるための縦型半導体製造装置におけ
るキャリアステージ装置に関するものである。
〔従来の技術〕
縦型半導体製造装置は、ウェハを水平にして搬送すると
共に、この状態で反応釜に収容して化学処理を行う装置
であって、横型のものに比較して空間を有効に利用でき
て装置全体をコンパクトに設計できる利点を有している
この縦型の半導体製造装置において、多数枚のウェハを
ウェハキャリアに水平に収納して、装置外から内部に搬
入するには、キャリアステージ装置が使用されている。
従来のキャリアステージ装置は、第8図及び第9図に示
されるように、キャリア支柱1にキャリア台2を介して
複数台のキャリアスタンドS°が円周方向に等間隔をお
いて装着され、多数枚のウェハWを収納したウェハキャ
リアCを前記キャリアスタンドS゛の受板3に載せ、駆
動手段によって前記キャリア支柱lを設定角度ずつ囲動
させて、ウェハキャリアC内のウェハWを取出手段(図
示せず)によって取出している。
ウェハキャリアCは、第5図ないし第7図に示されるよ
うに、キャリア本体4に上下方向に沿って多数の収納棚
5が設けられ、キャリア本体4の前面の開口6から極薄
円板状のウェハWを押し込んでこの収納棚5に収納する
と、ウェハWの外周面の三箇所がキャリア本体4の奥方
に対称に設けられた一組の円弧状内周面7にそれぞれ接
触して、キャリア本俸4に対するウェハWの芯出しが行
われるようになっている。また、第5図及び第7図に示
されるように、キャリア本体4の裏面には、位置決め用
の一組のリブ8が対称に突設されていて、キャリアスタ
ンドS゛の受Fi3にウェハキャリアCを載せると、第
9図に示されるように、この受板3の上面に設けられた
一組のキャリアガイド9の内側に一組の前記リブ8が嵌
合されると共に、キャリア本体4の前部に上下方間に設
けられた一組の突起体11が、キャリアスタンドS°の
前板12に当接し、これによりキャリアスタンドS゛に
対するウェハキャリアCの位置決めが行われるようにな
っている。
上記したようにして、ウェハキャリアCに対するウェハ
Wの芯出し、及びキャリアスタンドS。
に対するウェハキャリアCの位置決めが、それぞれ行わ
れるのであるが、従来のキャリアステージ装置を構成し
ているキャリアスタンドS°の受板3は、水平に配置さ
れていたので、以下のような問題があった。
即ち、キャリアスタンドS゛の受板3が水平であるため
に、受板3にウェハキャリアCが載せられた場合におい
て、このウェハキャリアCの収納棚5に収納されている
ウェハWには、このウェハWをキャリア本体4の奥方に
押し込もうとする外力は全く作用しないので、受板3に
ウェハキャリアCを載せたのみでは、各ウェハWの芯出
しが行われている保証はない0例えば、収納棚5に単に
載せられて収納されているのみで、キャリア本体4の一
組の円弧状内周面7に接触していないウェハWは、芯出
しが行われていない、また、ウェハキャリアCへのウェ
ハWの収納時には、芯出しされていても、受板3が水平
であるために、キャリアステージ装置による搬送中にお
いてウェハWがずれることもある。更に、キャリアスタ
ンドS“の受板3が水平であるために、ウェハキャリア
Cの突起体11がキャリアスタンドS゛の前板12に当
接しなくて、キャリアスタンドS゛に対するウェハキャ
リアCの位置決め(詳しくはキャリア支柱1の半径方向
に沿った位置決め)が正確に行われない場合もあり、こ
れが原因でウェハWの芯が正規の位置からずれることも
ある。
ウェハキャリアCから取出されたウェハWは、ウェハポ
ートと称されるウェハ保持具(図示せず)に移載され、
このままウェハ保持具は反応釜に収容されて、ウェハは
化学処理される。よって、芯が不揃いのままウェハがウ
ェハ保持具に移載されて、反応釜内において化学処理が
なされると、均一な化学処理がなされなくて、ウェハの
品質が下がる。
キャリアスタンドの受仮にウェハキャリアを載せた状態
で、ウェハキャリアに対するウェハの芯出し、及びキャ
リアスタンドに対するウェハキャリアの位置決めが、い
ずれも正確に行われている必要性は、上記した不具合を
避けることにある。
このため、従来の縦型の半導体製造装置のキャリアステ
ージ装置においては、ウェハキャリア内のウェハをウェ
ハ保持具に移載する前に、何らかの手段によりウニへの
芯を揃える必要があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
従って、本発明の課題は、キャリアスタンドの受板にウ
ェハキャリアを載せると、ウェハキャリアに対する各ウ
ェハの芯出し、及びキャリアスタンドに対するウェハキ
ャリアの位置決めが、それぞれ自然に行われるようにし
て、キャリアスタンドにウェハキャリアを載せた後にお
いて、ウェハの芯揃え操作を不要にすることである。
〔課題を解決するための手段〕
この課題を解決するために本発明の採用した手段は、キ
ャリア支柱にキャリア台を介して複数台のキャリアスタ
ンドが円周方向に等間隔をおいて装着され、該キャリア
スタンドの受板の上面に、ウェハキャリアの裏面に設け
られた一組のリブと嵌合して該ウェハキャリアの位置決
めを行うための一組のキャリアガイドが設けられ、多数
枚のウェハを水平状態で収納したウェハキャリアを前記
キャリアスタンドの受板に載せて、前記キャリア支柱を
駆動手段により設定角度ずつ回動させることにより、ウ
ェハキャリアに収納された多数枚のウェハを装置内に搬
入させる構成の縦型半導体製造装置のキャリアステージ
装置において、前記ウェハキャリアが自重により前記キ
ャリアスタンドの受板上を前記キャリア支柱に向がって
摺動し得ると同時に、ウェハキャリアに収納されたウェ
ハが自重により前記キャリア支柱に向がって摺動し得る
ように、前記キャリア台にキャリアスタンドを傾斜させ
て装着したことである。
〔発明の作用〕
上記した構成であるため、多数枚のウェハが収納された
ウェハキャリアをキャリアスタンドの受板に載せると、
ウェハキャリアは、自重により受板上をキャリア支柱に
向かって摺動して正規の位置にセットされて位置決めさ
れると共に、ウェハキャリアに収納されているウェハは
、収納棚をキャリア支柱に向かって摺動してキャリア本
体の奥方に入り込み、−組の円弧状内周面に当接して芯
出しが行われる。このように、キャリアスタンドの受板
にウェハキャリアを載せるのみで、ウェハキャリアに対
するウェハの芯出しと、キャリアスタンドに対するウェ
ハキャリアの位置決めとの双方が自然に行われるので、
ウェハキャリアをキャリアスタンドに載せた後において
、ウェハの芯揃え操作を行う必要はない。
また、キャリアスタンドの受板、及びこの受板の上面に
取付けられたキャリアガイドの少なくとも表層部を低摩
擦係数の材料で構成すると、受板に対するウェハキャリ
アの摺動抵抗が小さくなって、キャリアスタンドをキャ
リア台に傾斜させて装着する場合の傾斜角度を小さくで
きる。
〔実施例〕
以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。
なお、上記した「従来の技術」の項目で説明した部分と
同一部分は、同一符号を付し、重複説明を避けて本発明
の特徴的部分についてのみ説明する。
第1図は、本発明に係わるキャリアステージ装置の正面
図であり、第2図は、同しく平面図であり、第3図及び
第4図は、それぞれ第1図のA矢視拡大図、及びB矢視
拡大図である。各図において、キャリア支柱1にはキャ
リア台2を介して大台一組となった二組のキャリアスタ
ンドSが上下二段となって、それぞれ円周方向に等間隔
をおいて所定角度(θ)だけ傾斜して装着されている。
このキャリアスタンドSの傾斜角度(θ)は、ウェハキ
ャリアCが自重によりその受板3の上をキャリア支柱1
に向かって摺動し得ると同時に、ウェハキャリアCの収
納棚5に収納されたウェハWが自重により該収納棚5を
キャリア支柱1に向がって摺動し得るような大きさに設
定する必要があり、ウェハキャリアC及び受板3の材質
によって相対的に定められる。第3図及び第4図に詳細
に示されるように、各キャリアスタンドSの受板3の上
面には、−組のキャリアガイド9が取付けられ、このキ
ャリアガイド9の内側は面取りされていて、ウェハキャ
リアCの底面のリブ8が入り込み易い構造にしである。
受板3、及びキャリアガイド9の各上面には、それぞれ
テフロンコーティング処理がなされ、これにより摺動抵
抗が小さくなるため、キャリアスタンドSの上記傾斜角
度(θ)を小さくできる。キャリアスタンドSが装着さ
れているキャリア支柱lの下端部は、インデックスユニ
ット13の駆動軸(図示せず)に連結され、モータMの
回転が減速機14を介してインデックスユニット13に
伝達され、これによりキャリア支柱1が設定角度(実施
例では60°)ずつ回動するように構成されている。
そして、ステージP、において、多数枚のウェハWが収
納されたウェハキャリアCをキャリアスタンドSの受板
3に順次載せて、このキャリアスタンドSを設定角度ず
つ回動させ、ステージP。
において、移載手段によってウェハキャリアCに収納さ
れているウェハWを、水平に対して角度(θ)だけ傾斜
した方向に直線的に抜き出して、ウェハ保持具(図示せ
ず)に移載する。ここで、ステージP1において、多数
枚のウェハWが収納されたウェハキャリアCをキャリア
スタンドSの受板3に載せると、キャリアスタンドSが
上記のようにして設定される角度(θ)だけ傾斜してい
るので、ウェハキャリアC1及びこれに収納されている
多数枚の各ウェハWには、それぞれ自重によりキャリア
支柱1の中心に向かう力が発生して、ウェハキャリアC
は、キャリアスタンドSの受板3に対して摺動すると共
に、ウェハWは、キャリア本体4の収納棚5に対して摺
動する。これにより、ウェハキャリアCの底面に設けら
れた一組のリブ8が、C+、C*の各部分く第3図参照
)において、キャリアガイド9に嵌合すると共に、その
先端部に設けられた一組の突起体11がキャリアスタン
ドSの前板12に当接して、キャリアスタンドSに対す
るウェハキャリアCの位置決めが自然に行われる。また
、ウェハキャリアCに収納された多数枚のウェハWは、
それぞれ収納棚5を摺動して一組の円弧状内周面7に当
接して、ウェハキャリアCに対する各ウェハWの芯出し
が自然に行われる。
また、キャリアステージ装置の回動開始時、及び停止時
においてウェハに何らかの力が作用した場合、従来装置
においては、この力がウェハの芯をずらすように作用す
るのに対し、本発明装置においては、この力がウェハの
芯出しを行うように作用するので、ウェハの芯出しが一
層確実に行われる。
〔発明の効果〕
このように、本発明によれば、キャリアスタンドの受板
にウェハキャリアを載せるのみで、ウェハキャリアに対
するウェハの芯出しと、キャリアスタンドに対するウェ
ハキャリアの位置決めとの双方が重力作用によって自然
に行われるので、ウェハキャリアをキャリアスタンドの
受板に載せた後において、ウェハの芯揃え操作を行う必
要がなくなる。このため、後工程へのウェハの移載をス
ムーズに行える。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第7図は、本発明を説明するための図であ
って、第1図は、本発明に係わるキャリアステージ装置
の正面図、第2図は、同じく平面図であり、第3図及び
第4図は、それぞれ第1図のA矢視拡大図、及びB矢視
拡大図、第5図は、ウェハキャリアCの正面図、第6図
は、同しく底面図、第7図は、第5図のX−X&I断面
図である。 第8図及び第9図は、従来技術を説明するための図であ
って、第8図は、従来のキャリアステージ装置の部分正
面図、第9図は、キャリアスタンドS′の拡大平面図で
ある。 本発明を構成している主要部分の符号の説明は以下の通
りである。 C:ウェハキャリア  S:キャリアスタンドW:ウェ
ハ θ:キャリアスタンドの傾斜角度1:キャリア支柱
   2;キャリア台3:受板       8:リブ 9:キャリアガイド

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)キャリア支柱にキャリア台を介して複数台のキャ
    リアスタンドが円周方向に等間隔をおいて装着され、該
    キャリアスタンドの受板の上面に、ウェハキャリアの裏
    面に設けられた一組のリブと嵌合して該ウェハキャリア
    の位置決めを行うための一組のキャリアガイドが設けら
    れ、多数枚のウェハを水平状態で収納したウェハキャリ
    アを前記キャリアスタンドの受板に載せて、前記キャリ
    ア支柱を駆動手段により設定角度ずつ回動させることに
    より、ウェハキャリアに収納された多数枚のウェハを装
    置内に搬入させる構成の縦型半導体製造装置のキャリア
    ステージ装置において、 前記ウェハキャリアが自重により前記キャリアスタンド
    の受板上を前記キャリア支柱に向かって摺動し得ると同
    時に、ウェハキャリアに収納されたウェハが自重により
    前記キャリア支柱に向かって摺動し得るように、前記キ
    ャリア台にキャリアスタンドを傾斜させて装着したこと
    を特徴とする縦型半導体製造装置におけるキャリアステ
    ージ装置。
  2. (2)前記受板、及び前記キャリアガイドの少なくとも
    表層部を低摩擦係数の材料で構成したことを特徴とする
    請求項1に記載の縦型半導体製造装置におけるキャリア
    ステージ装置。
JP28294990A 1990-10-19 1990-10-19 縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置 Pending JPH04157752A (ja)

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JP28294990A JPH04157752A (ja) 1990-10-19 1990-10-19 縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置

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JPH04157752A true JPH04157752A (ja) 1992-05-29

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JP28294990A Pending JPH04157752A (ja) 1990-10-19 1990-10-19 縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置

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JP (1) JPH04157752A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5478195A (en) * 1991-12-20 1995-12-26 Hitachi, Ltd. Process and apparatus for transferring an object and for processing semiconductor wafers
US5697749A (en) * 1992-07-17 1997-12-16 Tokyo Electron Kabushiki Kaisha Wafer processing apparatus
WO2001041193A1 (de) * 1999-12-01 2001-06-07 Steag Rtp Systems Gmbh Vorrichtung und verfahren zum ausrichten von scheibenförmigen substraten
WO2010004642A1 (ja) * 2008-07-11 2010-01-14 ミライアル株式会社 ウエハ収納容器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5697749A (en) * 1992-07-17 1997-12-16 Tokyo Electron Kabushiki Kaisha Wafer processing apparatus
WO2001041193A1 (de) * 1999-12-01 2001-06-07 Steag Rtp Systems Gmbh Vorrichtung und verfahren zum ausrichten von scheibenförmigen substraten
WO2010004642A1 (ja) * 2008-07-11 2010-01-14 ミライアル株式会社 ウエハ収納容器

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