JPS5852825A - 位置合わせ信号処理装置 - Google Patents
位置合わせ信号処理装置Info
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- JPS5852825A JPS5852825A JP56151530A JP15153081A JPS5852825A JP S5852825 A JPS5852825 A JP S5852825A JP 56151530 A JP56151530 A JP 56151530A JP 15153081 A JP15153081 A JP 15153081A JP S5852825 A JPS5852825 A JP S5852825A
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- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば半導体製造工程に於いて、パターンエ
ングのためクエへ−とマスクとを高精度に位置合わせす
るための信号を得為位置合わせ信号部ｍ装置に関す為も
のである。
ングのためクエへ−とマスクとを高精度に位置合わせす
るための信号を得為位置合わせ信号部ｍ装置に関す為も
のである。
半導体焼付は装置の自動位置合わせでは一般的に対象の
位置を検知するために光電検出手段が使用されている。
位置を検知するために光電検出手段が使用されている。
例えば、従来の装置では光源としてレーず１光を用いて
対象を走査し、第１図（ａ）、（ｂ） ｉ（示すクエへ
−とマスク上の位置合わせ用マークパターンＷ、ＭｔＰ
ら散乱され為光をフォトダイオードで光電検出して、そ
の出力信号がパターンＷ、Ｍ同志の距離の情報を含んで
いることを利用してクエへ−とマスクの相対的位置を検
知している。この位置合わせは上記のようにして検出さ
れたマーク１パターンＷ％Ｍを第１図（Ｃ）に示すよう
な位置関係に導くことにより行なわれる。マークパター
ンＷ、Ｍと実素子を構成するパターンとは定められた関
係にあるので、マークパターンＷ、 Ｍ同志を所定の位
置関係に導けば、ウェハーとマスク上の実素子パターン
は正しく位置合わせされたことｋなる。このマークパタ
ーンＷ％Ｍ同志の位置関係が検出されれば、所定の関係
との差を調べてこの差がなくなるよう化駆動機構を作動
させればよい。クエへ−とマスクの位置合わせは二次元
的な自由度を全て制御する必要があり、通常はクエへ−
及びマスク上の複数個の場所を観測して行なわれていゐ
。
対象を走査し、第１図（ａ）、（ｂ） ｉ（示すクエへ
−とマスク上の位置合わせ用マークパターンＷ、ＭｔＰ
ら散乱され為光をフォトダイオードで光電検出して、そ
の出力信号がパターンＷ、Ｍ同志の距離の情報を含んで
いることを利用してクエへ−とマスクの相対的位置を検
知している。この位置合わせは上記のようにして検出さ
れたマーク１パターンＷ％Ｍを第１図（Ｃ）に示すよう
な位置関係に導くことにより行なわれる。マークパター
ンＷ、Ｍと実素子を構成するパターンとは定められた関
係にあるので、マークパターンＷ、 Ｍ同志を所定の位
置関係に導けば、ウェハーとマスク上の実素子パターン
は正しく位置合わせされたことｋなる。このマークパタ
ーンＷ％Ｍ同志の位置関係が検出されれば、所定の関係
との差を調べてこの差がなくなるよう化駆動機構を作動
させればよい。クエへ−とマスクの位置合わせは二次元
的な自由度を全て制御する必要があり、通常はクエへ−
及びマスク上の複数個の場所を観測して行なわれていゐ
。
従来技術に於いては、前記の各観測場所ではクエへ−及
びマスクから戻って（る光信号を１個の光電検出器だけ
で検知していたので、両者が干渉し合って不安定な信号
となり、自動位置合わせが不可能になったり、位置合わ
せ精度が悪化するという欠点があった。
びマスクから戻って（る光信号を１個の光電検出器だけ
で検知していたので、両者が干渉し合って不安定な信号
となり、自動位置合わせが不可能になったり、位置合わ
せ精度が悪化するという欠点があった。
本発明の目的は、上述のような従来技術の欠点を解消し
、位置会わせの対象となるマスクとウェハーのそれぞれ
から戻って（ゐ光信号を別々に検知し、必要な信号成分
を抽出して合成し、位置合わせな高精度に行なう自動位
置合わせ装置を提供することｋあり、その内容は、対象
となゐマークパターンに関して配置した複数個の光電検
出器により１数の検知信号を求め、検知信号ごとに必要
な信号成分を抽出して、これらの抽出信号を合成するこ
とを特徴とするものである。
、位置会わせの対象となるマスクとウェハーのそれぞれ
から戻って（ゐ光信号を別々に検知し、必要な信号成分
を抽出して合成し、位置合わせな高精度に行なう自動位
置合わせ装置を提供することｋあり、その内容は、対象
となゐマークパターンに関して配置した複数個の光電検
出器により１数の検知信号を求め、検知信号ごとに必要
な信号成分を抽出して、これらの抽出信号を合成するこ
とを特徴とするものである。
本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
第２図は本発明の実施例の基本構成を示すブロック回路
図であり、１はクエへ−から戻ってくる光信号を検知す
る第１の光電検出器、２はマスクからの光信号を検知す
る第２０光電検出器であって、それぞれアナログ信号を
デジタル信号に変換する第１、第２の信号振巾弁別回路
３．４に接続されている。これらの第１、第２の信号振
巾弁別回路６．４の出力は、それぞれ必要な信号成分の
みを抽出する第１、第２の信号抽出回路５．６に送出さ
ｔＬｌ為と共に、制御回路７に出力されている。
図であり、１はクエへ−から戻ってくる光信号を検知す
る第１の光電検出器、２はマスクからの光信号を検知す
る第２０光電検出器であって、それぞれアナログ信号を
デジタル信号に変換する第１、第２の信号振巾弁別回路
３．４に接続されている。これらの第１、第２の信号振
巾弁別回路６．４の出力は、それぞれ必要な信号成分の
みを抽出する第１、第２の信号抽出回路５．６に送出さ
ｔＬｌ為と共に、制御回路７に出力されている。
制御回路７からは第１、第２の信号振巾弁別回路６．４
及び信号抽出回路５．６番ζ指令信号が送られ、この指
令信号に従りて信号抽出回路５．６で得られた信号は信
号合成回路８に出力される。
及び信号抽出回路５．６番ζ指令信号が送られ、この指
令信号に従りて信号抽出回路５．６で得られた信号は信
号合成回路８に出力される。
例エバウェハーとマスクのマークパターンＷ。
Ｍが第６図（１）Ｋ示す位置関係にあるときに、レーザ
ー光りの走査のもとに第１の光電検出器１ではウェハー
のマークパターンＷを検知する。この第１Φ光電検出器
１で検知される検知信号〜には、第墨図伽）に示すよう
に本来のマークパターンＷによるパターン信号１０以外
に、干渉現象〈よって生ずるマスクのマークパターンＭ
の不安定な信号１１も含まれることになる。一方、第２
の光電検出器２で検出される第６図（・）に示す検知信
号８Ｍには、マスクのマークパターンＭに基づ（パター
ン信号１２以外に、クエへ−のマークパターンＷによる
僅かなレベルの信号１６が含まれている。
ー光りの走査のもとに第１の光電検出器１ではウェハー
のマークパターンＷを検知する。この第１Φ光電検出器
１で検知される検知信号〜には、第墨図伽）に示すよう
に本来のマークパターンＷによるパターン信号１０以外
に、干渉現象〈よって生ずるマスクのマークパターンＭ
の不安定な信号１１も含まれることになる。一方、第２
の光電検出器２で検出される第６図（・）に示す検知信
号８Ｍには、マスクのマークパターンＭに基づ（パター
ン信号１２以外に、クエへ−のマークパターンＷによる
僅かなレベルの信号１６が含まれている。
レーザー光りの走査は数回に痕って行なわれるが、これ
らの検知信号ｈ％８Ｍは時間的には全（同一に得られる
ことになる。
らの検知信号ｈ％８Ｍは時間的には全（同一に得られる
ことになる。
第６図（１）に示すように、４本のマスク上のマークパ
ターンＭのうち平行になっている２本ずつの間に、クエ
へ−のマークパターンＷが位置すゐような関係にあれば
、第６図（６）に示す検出信号−と（＠）ｋ示す信号８
ＭＫ於いて第２番目と第５１目の信号がマークパターン
Ｗかも得られる信号で、それ以外の第１．３．ｔ＆び６
番目の信号がマークパターｙＭかも検知される信号であ
る。従って、検知信号８ｗかもクエへ−上のマークパタ
ーｙＷの信号１０、検知信号８Ｍからマスク上のマーク
パターンＭの信号１２のみを抽出すゐのには、検知信号
〜又は８Ｍをデジタル信号ＩＣ変換し、第１番目と６番
１１．４番ｌと６番目のパルス間のタイミングで出力さ
れる第６図（Ｃ）に示す抽出指令信号１４、及びこの信
号１４を反転したげ）ｋ示す信号１５を用いて、クエへ
−上のマークパターンＷの４の１１号１４とマスク上の
マークパ？−ｙｌＪ。
ターンＭのうち平行になっている２本ずつの間に、クエ
へ−のマークパターンＷが位置すゐような関係にあれば
、第６図（６）に示す検出信号−と（＠）ｋ示す信号８
ＭＫ於いて第２番目と第５１目の信号がマークパターン
Ｗかも得られる信号で、それ以外の第１．３．ｔ＆び６
番目の信号がマークパターｙＭかも検知される信号であ
る。従って、検知信号８ｗかもクエへ−上のマークパタ
ーｙＷの信号１０、検知信号８Ｍからマスク上のマーク
パターンＭの信号１２のみを抽出すゐのには、検知信号
〜又は８Ｍをデジタル信号ＩＣ変換し、第１番目と６番
１１．４番ｌと６番目のパルス間のタイミングで出力さ
れる第６図（Ｃ）に示す抽出指令信号１４、及びこの信
号１４を反転したげ）ｋ示す信号１５を用いて、クエへ
−上のマークパターンＷの４の１１号１４とマスク上の
マークパ？−ｙｌＪ。
みの信号１７とを抽出することがで会る。この抽出−ネ
、第１、第２の信号弁別回路６．４を介して制御回路７
＆ｃ送られた信号から、制御回路７で抽出指令信号１４
及び１５を造り、第１、第２の信号抽出回路５及び６に
送出することにより行なわれる。このようにして得られ
た第６図（ｄ）及び（ｇ）に示す抽出信号１６及び１７
を信号合成回路８で合成することにより、マスクとクエ
へ−上のマークパターンＷ％Ｍの両方の相対的位置化対
応する第６図（ｈ）に示す安定した信号１８が得られる
。この信号１８を使用して従来と同じ信号処理を行なえ
ば、高精度にマークパターンＷ、Ｍ同志の位置を認識す
ゐことができる。特ｉζこの場合は不必要な信号１１．
１２を除去しているので、得られた合成信号１８はこれ
らの影響による不鮮明さが解消されゐ。
、第１、第２の信号弁別回路６．４を介して制御回路７
＆ｃ送られた信号から、制御回路７で抽出指令信号１４
及び１５を造り、第１、第２の信号抽出回路５及び６に
送出することにより行なわれる。このようにして得られ
た第６図（ｄ）及び（ｇ）に示す抽出信号１６及び１７
を信号合成回路８で合成することにより、マスクとクエ
へ−上のマークパターンＷ％Ｍの両方の相対的位置化対
応する第６図（ｈ）に示す安定した信号１８が得られる
。この信号１８を使用して従来と同じ信号処理を行なえ
ば、高精度にマークパターンＷ、Ｍ同志の位置を認識す
ゐことができる。特ｉζこの場合は不必要な信号１１．
１２を除去しているので、得られた合成信号１８はこれ
らの影響による不鮮明さが解消されゐ。
マークパターンＷとＭとが第６図（Ｊｌ）で示されたよ
うな位置関係にない場合、例えば第４図（Ｊｌ）に示さ
れるような位置関係に配置されている場合には、第３図
（ｍｌに示す位置関係になるまで、次番ζ説明するよう
な手段で粗金せを行なえばよい。却ち第１の光電検出器
１によって得られゐウェハーから戻って（る第４図（ｂ
）に示す検知信号幻と、第２の光電検出器２で検知され
るマスクから戻ってくる（ｃ）に示す検知信号−とを第
１、第２の信号振巾弁別回路３．４でデジタル信号に変
換して、該デジタル信号をそのまま重ね会わせた第４図
（ｄ）に示す信号２０を得て、従来技術と同じ手段を使
って位置合わせが行なわれる。この場合検知信号−と８
Ｍとは時間的に全く同時に検出される上に、それぞれに
クエへ−又はマスクのマークパターｙＷ、Ｍの安定した
信号が含まれているので、たとえ信号＆Ｗ％８ＭＫ於い
て不安定な信号成分が消滅することがあっても、信号２
０は６本以外の本数の信号となることはない。然し不安
定な信号による影響を受けてパルス幅が変動することが
あるため、信号２０を高精度な位置合わせ用の信号処理
に利用することはで会ない。
うな位置関係にない場合、例えば第４図（Ｊｌ）に示さ
れるような位置関係に配置されている場合には、第３図
（ｍｌに示す位置関係になるまで、次番ζ説明するよう
な手段で粗金せを行なえばよい。却ち第１の光電検出器
１によって得られゐウェハーから戻って（る第４図（ｂ
）に示す検知信号幻と、第２の光電検出器２で検知され
るマスクから戻ってくる（ｃ）に示す検知信号−とを第
１、第２の信号振巾弁別回路３．４でデジタル信号に変
換して、該デジタル信号をそのまま重ね会わせた第４図
（ｄ）に示す信号２０を得て、従来技術と同じ手段を使
って位置合わせが行なわれる。この場合検知信号−と８
Ｍとは時間的に全く同時に検出される上に、それぞれに
クエへ−又はマスクのマークパターｙＷ、Ｍの安定した
信号が含まれているので、たとえ信号＆Ｗ％８ＭＫ於い
て不安定な信号成分が消滅することがあっても、信号２
０は６本以外の本数の信号となることはない。然し不安
定な信号による影響を受けてパルス幅が変動することが
あるため、信号２０を高精度な位置合わせ用の信号処理
に利用することはで会ない。
第５図は、第２図に示したブロック回路内の各機能を明
らかにすゐため信号振巾弁別回路３、信号抽出回路５、
制御回路７の内部を図示したらのである。信号振巾弁別
回路３中には比較回路６１が含まれ１、制御回路７中の
０人変換器７１から出力されゐ電位て信号を捩中弁別す
るようになっている。信号抽出凹路５中には、入力され
たデジタル信号から必要な信号のみを抽出する論理積ゲ
ー）５１．５２が設けられ、論理積ゲート５１は制御回
路７中のマイクロコンピュータ７２かも直接制御を受け
、論理積ゲート５２はパルスの順序に応じてデコーダ７
６から制御を受けて信号を検出している。更に信号抽出
回路５中には論理積ゲー）５１，５２の出力を選択する
論理和ゲート５墨が設けられている。同、前述のＤム変
換器７１はマイクロコンピュータ７２のデジタル電位指
令をアナログ電位に変換し、カラＶり回路７４は信号の
パルス数を計数し、デコーダ７６はカウンタ回路７４の
計数内容を解読し必要な信号のタイミングで論理積ゲー
ト５２に信号抽出指令を出力する。
らかにすゐため信号振巾弁別回路３、信号抽出回路５、
制御回路７の内部を図示したらのである。信号振巾弁別
回路３中には比較回路６１が含まれ１、制御回路７中の
０人変換器７１から出力されゐ電位て信号を捩中弁別す
るようになっている。信号抽出凹路５中には、入力され
たデジタル信号から必要な信号のみを抽出する論理積ゲ
ー）５１．５２が設けられ、論理積ゲート５１は制御回
路７中のマイクロコンピュータ７２かも直接制御を受け
、論理積ゲート５２はパルスの順序に応じてデコーダ７
６から制御を受けて信号を検出している。更に信号抽出
回路５中には論理積ゲー）５１，５２の出力を選択する
論理和ゲート５墨が設けられている。同、前述のＤム変
換器７１はマイクロコンピュータ７２のデジタル電位指
令をアナログ電位に変換し、カラＶり回路７４は信号の
パルス数を計数し、デコーダ７６はカウンタ回路７４の
計数内容を解読し必要な信号のタイミングで論理積ゲー
ト５２に信号抽出指令を出力する。
又〆イクロコンピュータ７２はＤム変換器７１や信号抽
出機能を受は仲つ論理積ゲート５１、デコーダ７６に処
理の内容に応じた指示を与えている。
出機能を受は仲つ論理積ゲート５１、デコーダ７６に処
理の内容に応じた指示を与えている。
第１、第２の信号抽出回路５．６を制御回路７かも制御
し、信号合成回路６の出力として第１の光電検出器１で
得られた検知信号幻のみを取り出したり、第２の光電検
出器２かも出力された検知信号８Ｍだけにしたり、或い
は第４図（ｄ）に示す信号２０のよう番ζ検知信号−１
８Ｍの出力を重ね合わせる等の選択を行なうことも可能
である。従って信号合成回路８の出力信号の数が所定の
数より過不足していゐことで、塵挨等によ１誤信号の混
入又はマスク及びウェハーの設置不良等の異常状態を認
識することかで壷ゐ。更にウェハーの設置位置が大きく
ずれてい為場合に高精度の自動位置合わせの信号処理が
奥行できる位置まて、第４図で説明した粗い精度の自動
位置合わせで移動させることが可能である。更に本発明
では光電検出した検知信号〜、８Ｍを直ちにデジタル変
換して信号抽出、合成等の処理を行なっていゐが、光電
検出したアナログ信号をそのま鵞で抽出、合成の信号処
理を行なう構成も考えられる。
し、信号合成回路６の出力として第１の光電検出器１で
得られた検知信号幻のみを取り出したり、第２の光電検
出器２かも出力された検知信号８Ｍだけにしたり、或い
は第４図（ｄ）に示す信号２０のよう番ζ検知信号−１
８Ｍの出力を重ね合わせる等の選択を行なうことも可能
である。従って信号合成回路８の出力信号の数が所定の
数より過不足していゐことで、塵挨等によ１誤信号の混
入又はマスク及びウェハーの設置不良等の異常状態を認
識することかで壷ゐ。更にウェハーの設置位置が大きく
ずれてい為場合に高精度の自動位置合わせの信号処理が
奥行できる位置まて、第４図で説明した粗い精度の自動
位置合わせで移動させることが可能である。更に本発明
では光電検出した検知信号〜、８Ｍを直ちにデジタル変
換して信号抽出、合成等の処理を行なっていゐが、光電
検出したアナログ信号をそのま鵞で抽出、合成の信号処
理を行なう構成も考えられる。
以上説明したように本発明に係る位置合わせ信ｔＭＩＬ
ａ置によれば、ウェハー、マスクのマークパターン１同
志の自動位置合わせの奥行が極めて高い確率でなし得る
上に、高精度な位置合わせが実現可能である。
ａ置によれば、ウェハー、マスクのマークパターン１同
志の自動位置合わせの奥行が極めて高い確率でなし得る
上に、高精度な位置合わせが実現可能である。
第１図はウェハーとマスクのマークパターンの説明図、
１１２図は本発明に係ゐ位置合わせ信号部ｍ装置の実施
例の基本構成を示すブロック回路図、第６図は回路の動
作を説明するためのタイムチャート図、第４図はウェハ
ーの設置不良によりつ二へ−とマスクの相対位置が大き
（ずれている場合の信号波形を示すタイムチャート図、
第５図は第１図の構成ブロックの詳細なブロック回路図
である。 符号１．２は充電検出器、６．４は信号振巾弁別回路、
５．６は信号抽出回路、７は制御回路、８は信号合成回
路、Ｗはウェハーのマークパターン、Ｍはマスクのマー
クパターンである。 特許出願人 キャノン株式会社代理人弁理土日
比谷征彦 菌 第１図 第２１１
１１２図は本発明に係ゐ位置合わせ信号部ｍ装置の実施
例の基本構成を示すブロック回路図、第６図は回路の動
作を説明するためのタイムチャート図、第４図はウェハ
ーの設置不良によりつ二へ−とマスクの相対位置が大き
（ずれている場合の信号波形を示すタイムチャート図、
第５図は第１図の構成ブロックの詳細なブロック回路図
である。 符号１．２は充電検出器、６．４は信号振巾弁別回路、
５．６は信号抽出回路、７は制御回路、８は信号合成回
路、Ｗはウェハーのマークパターン、Ｍはマスクのマー
クパターンである。 特許出願人 キャノン株式会社代理人弁理土日
比谷征彦 菌 第１図 第２１１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 対象となるマークパターン化量して配置した複数
個の光電検出器により複数の検知信号を求め、検知信号
ごとに必要な信号成分を抽出して、これらの抽出信号を
合成することを特徴とする位置合わせ信号処理装置。 ２ 必要な信号成分を抽出するに際して、不必要な信号
として不安定な信号成分を指示し、必要な信号として安
定な信号成分を指定して抽出するようにした特許請求の
範囲第１項記載の位置合わせ信号処理装置。 ＆ 必要な信号成分を抽出するに際して、不必要な信号
としては何も指示せず、必要な信号として光電検出され
た全ての検知信号を指定して抽出するようにした特許請
求の範囲第１項記載の位置合わせ信号処理装置。 ４、必要な信号成分な抽出すゐに際して、必要な信号と
して単一Φ光電検出器から検出される信号を指定して抽
出し、不必要な信号として該光電検出器以外の全ての光
電検出器から検知される信号を指定するようにした特許
請求の範囲第１項記載の位置合わせ信号部＠装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151530A JPS5852825A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 位置合わせ信号処理装置 |
| US06/419,511 US4515481A (en) | 1981-09-24 | 1982-09-17 | Apparatus for processing a signal for aligning |
| DE19823235247 DE3235247A1 (de) | 1981-09-24 | 1982-09-23 | Signalaufbereitungseinrichtung fuer ausrichtungssignale |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151530A JPS5852825A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 位置合わせ信号処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5852825A true JPS5852825A (ja) | 1983-03-29 |
Family
ID=15520521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56151530A Pending JPS5852825A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 位置合わせ信号処理装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4515481A (ja) |
| JP (1) | JPS5852825A (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5999721A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-08 | Canon Inc | マーク検出装置 |
| JPS59172724A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-09-29 | Canon Inc | マーク検出装置 |
| SE454439B (sv) * | 1983-07-06 | 1988-05-02 | Tetra Pak Ab | Sett och anordning att med fotoelektriska medel detektera och behorighetskontrollera gjorda styrmarkeringar pa en med tryck dekorerad lopande materialbana |
| US4641257A (en) * | 1983-07-07 | 1987-02-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and apparatus for alignment |
| GB2146427B (en) * | 1983-08-01 | 1987-10-21 | Canon Kk | Semiconductor manufacture |
| US4663534A (en) * | 1984-03-08 | 1987-05-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detecting device utilizing selective outputs of the photodetector for accurate alignment |
| US4703434A (en) * | 1984-04-24 | 1987-10-27 | The Perkin-Elmer Corporation | Apparatus for measuring overlay error |
| US4652914A (en) * | 1984-04-27 | 1987-03-24 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of recording register marks |
| GB2186359B (en) * | 1986-01-18 | 1990-05-30 | Automatix International U K Li | Automatically and accurately positioning a workpiece |
| DE3735154C2 (de) * | 1986-10-17 | 1994-10-20 | Canon Kk | Verfahren zum Erfassen der Lage einer auf einem Objekt vorgesehenen Marke |
| EA001531B1 (ru) * | 1996-02-09 | 2001-04-23 | Тетра Лаваль Холдингс Энд Файнэнс С.А. | Устройство и способ для проверки рисунков, расположенных на полосовом материале |
| ES2319564T3 (es) * | 2006-10-19 | 2009-05-08 | TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE SA | Procedimiento de fabricacion de envases sellados que contienen un producto alimenticio vertible e instalacion para llevar a cabo dicho procedimiento. |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5952535B2 (ja) * | 1977-01-21 | 1984-12-20 | キヤノン株式会社 | 光学装置 |
| DE2726173C2 (de) * | 1977-06-08 | 1982-05-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und Schaltung zur automatischen Positionierung eines Werkstückes relativ zu einem Abtastfeld bzw. zu einer Maske, sowie Verwendung des Verfahrens |
| DE2843282A1 (de) * | 1977-10-05 | 1979-04-12 | Canon Kk | Fotoelektrische erfassungsvorrichtung |
| JPS5624504A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-09 | Canon Inc | Photoelectric detector |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP56151530A patent/JPS5852825A/ja active Pending
-
1982
- 1982-09-17 US US06/419,511 patent/US4515481A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4515481A (en) | 1985-05-07 |
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