JPS5842279B2 - 差厚合金属を有するぶりきの製造法 - Google Patents

差厚合金属を有するぶりきの製造法

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JPS5842279B2
JPS5842279B2 JP54099402A JP9940279A JPS5842279B2 JP S5842279 B2 JPS5842279 B2 JP S5842279B2 JP 54099402 A JP54099402 A JP 54099402A JP 9940279 A JP9940279 A JP 9940279A JP S5842279 B2 JPS5842279 B2 JP S5842279B2
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JP
Japan
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layer
manufacturing
tinplate
plating
tin
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JP54099402A
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博 影近
富啓 原
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は差厚合金層を有するぶりきの製造法に係り、缶
詰用の如きに供せられるぶりきにおいてSn量を適切に
確保し、しかも合理的に耐食性の優れた構成を有するぷ
りきを容易且つ的確に製造し得る方法を得ようとするも
のである。
ふりきは従来から広く用いられているものであるが、こ
のぶりきの用途としては今日缶詰用毎が大きな割合を占
めていることは一般に知られている通りである。
即ちこのような場合のぷりきとしては耐食性、製缶性(
ハンダづげなと)の優れたものが望まれており、そのた
めこのぶりきの製造にはSnめっき、リフロ一工程を経
しめて原板の表面にFe−8n合金層を形成し、且つ該
Sn合金層の上にSn層を形成することが行われている
ところでこのようなぶりきにおいて実質的にその合金層
による耐食性が望まれるのは缶内面であり、その外面は
光輝性を保持し、ハンダづげに対するぬれ性の確保のた
めに必要なSn層を有すればよく、合金層の少いことが
よいとされることから差厚めつきをなすことが行われて
いるが、そのリフロ一工程で缶内面の耐食性を得るに充
分なFe −8n層を生せしめた場合において、その他
面においても同程度又はそれ以上のFe−8n層が形成
され、Snの薄めつきがなされていることから相対的に
該他面におけるSnの必要量確保が困難となる不利があ
る。
従って缶外面に相当する面を薄めつきとしたい場合にお
いても必要以上に厚めつきをなしてそのSn層の量を確
保したり、或いはこの外面にSn層の必要量を確保する
ために缶内面に相当した面のFe−8n合金層を薄くし
てその耐食性をそれなりに犠牲とするようなこととなら
ざるを得す、必ずしも好ましいぶりきを得ることができ
ない。
本発明は上記したような実情に鑑み検討を重ねて創案さ
れたものであって、上述したように原板の表裏に厚さの
異る錫めっきを行ってから加熱処理して、該めっき層の
実質的全体をFe−8n合金化し、次いでスキンパス処
理を行ってからその上に更に錫めっきを施し、光輝処理
(リフロー処理→をなすもので、第1図に示すように原
板10両筒に形成される前記Fe−8n合金層2a。
2bはその片面における合金層2bの厚みが他面の合金
層2aの厚みの少くとも2分の1以下として差厚を有せ
しめることができ、斯かる合金層2 a 、2 b上に
夫々Sn層3,3を形成することを提案することができ
る。
即ち上記したような本発明によるものの製造過程につい
て更に具体的に示しているのが第2図と第3図であって
、焼鈍材を原板とする場合においては第2図のような工
程で、又冷圧材を原板とする場合には第3図に示すよう
な工程で得ることができる。
蓋し何れの場合においても従来から用いられている一般
的な錫めっき工程を行うに先んじて、酸洗又は電解洗浄
された原板に対し必要なFe−Sn合金層量に相当した
錫量をめっきしておき、これを加熱炉又は焼鈍炉におい
て還元性若しくは不活性ガス雰囲気により、例えば70
0℃以下で1〜4分間の高温処理をなし、前記めっき層
の実質的全体を合金化する。
このものはスキンパスされてから一般的な錫めっき方式
により前処理後、所定の鍍金属まで重ねめっきし、次い
でリフロー処理して最表層を光輝処理すると共にスキン
パスなどによって損傷された合金化層を補修し。
所要の後処理後、製品とするものである。
前記したスキンパス処理は本発明の場合において実質的
全体の合金化を図るための加熱処理を行うので該加熱時
における素材の機械的性質を調節するためのものである
即ちこのようにして得られたぶりきは、最初の錫めっき
量が最終製品における合金層量と略同量であり、従って
最初のめつき厚を表裏において適宜に選ぶことにより表
裏の夫々に必要とされたFe−Sn合金層を有するぶり
きが得られるわけであり、これは2次めっき後のりフロ
ー処理時における合金化反応は初期に生成した合金層に
より充分抑制されるという事実を利用して何れにしても
合理的なぶりきを得しめる。
又本発明によるぶつぎは、例えばATClISVなどの
耐食性に関する評価値が従来ぶりきに比較して格段に優
れて※おり、この理由は上述のように初期に生成された
合金層が極めて緻密で且つ均質であるなどの事由による
ものである。
本発明によるものの具体的な実施例について説明すると
、以下の通りである。
実施例 1 前記した第2図に示すような製造方式に従い、リムド鋼
およびアルミキルド鋼による焼鈍材を5%HCI の
酸洗液に1秒間浸漬してから、第1次の錫めっきとして
硫酸浴を用いた電解方式により表面には0.07 lb
/BB、裏面には0.021b/BB の錫めっきをな
した。
このものは加熱炉でHNXガスを用い300℃、1分間
の加熱をなして合金化を行わしめ、次いで圧下率1〜3
%のスキンパスを行い、その後に既存のフェロスタン方
式による2次の錫めっきを前処理に続いて行い表面が0
.93 lb/B B、裏面が0.23 lb/BBの
めっきをな゛し、この約50℃であるめっき直後の銅帯
を抵抗加熱型リフロー装置に通して昇温速度52℃/秒
で285℃まで昇温するリフロー処理を行い、その後水
冷処理して製品とした。
なおこの場合における加熱炉としては連続焼鈍炉を用い
たが、素材が前記のように焼鈍材を使用するものである
から所定の機械的性質を得るための焼鈍は必要でな(、
Snめつきの完全合金化のための加熱のみでよい。
このようにして得られた各製品についての性能を従来法
によるぶりきと比較して示すと次の第1表の通りである
但し上表においては以下の通りである。
■ ATCは、グレープフルーツジュース中テのA11
oy−Tin Couple Te5t値である。
■ ISVは、Iron 5olution Va
lue である。
■ 数値については「表/裏」として示した。
■ 合金量はFe−Sn合金層中のSn量として表示し
た。
実施例 2 前記した第3図の製造方式に従い、製造例1におけると
同じリムド鋼およびアルミキルド鋼による冷圧原板を、
熱アルカリ電解方式で電解洗浄してから第1次めっきと
してアルカリメッキ浴を用いた電解めっきを表面が0.
09 lb/BB、裏面が0.05 lb/BB とし
て行い、これを焼鈍炉でHNKガス雰囲気700℃で5
0秒間の焼鈍をなし、次いで圧下率5〜6%のスキンパ
スを行った。
このものは製造例1におけると同じフェロスタン方式に
よる設備で第2次の錫めっきをなし、リフロー、後処理
して製品とした。
得られた製品について従来ぶりきと比較してその性能を
示すと次の第2表の通りである。
以上説明したような本発明によるときは原板表裏に厚さ
の異る錫めっきを行ってからそれらめっき層の実質的全
体を合金化せしめるものであるから原板の表裏において
夫々にその用途に即応した合金層量が得られることは明
かであり、このような初期合金層の合金化抑制効果を利
用してその上に更に錫めっきを形成することによりその
後のりフロー処理によっても合金化が進行せず、それに
よって合理的なぶりきを的確に提供し得るものであって
缶詰缶用の如きに供せられるこの種ぶりきに関しその耐
食性や製缶性などを合理的に満足せしめ得、卓越した性
能を発揮させることができるものであるから、工業的に
その効果の大きい発明である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の技術的内容を示すものであって、第1図
は本発明によるぶりきの層構成を断面的に示した説明図
、第2図と第3図はその製造過程についての各説明図で
ある。 然してこれらの図面において、1は原板、2a。 2bはFe−Sn合金層、3はSn層を示すものである

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 原板表裏に厚さの異る錫めっきを行ってからそれら
    めっき層の実質的全体を合金化し、スキンパス処理を行
    い、次いでその上に更に錫めっきを施し、その後にリフ
    ロー処理することを特徴とする差厚合金層を有するぶり
    きの製造法。
JP54099402A 1979-08-06 1979-08-06 差厚合金属を有するぶりきの製造法 Expired JPS5842279B2 (ja)

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