JPS58418U - 半導体熱処理装置 - Google Patents

半導体熱処理装置

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JPS58418U
JPS58418U JP9229281U JP9229281U JPS58418U JP S58418 U JPS58418 U JP S58418U JP 9229281 U JP9229281 U JP 9229281U JP 9229281 U JP9229281 U JP 9229281U JP S58418 U JPS58418 U JP S58418U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
treatment equipment
semiconductor heat
furnace core
core tube
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Pending
Application number
JP9229281U
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English (en)
Inventor
黒石 憲一
Original Assignee
沖電気工業株式会社
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Publication date
Application filed by 沖電気工業株式会社 filed Critical 沖電気工業株式会社
Priority to JP9229281U priority Critical patent/JPS58418U/ja
Publication of JPS58418U publication Critical patent/JPS58418U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は炉芯管後部の形態を示す従来の構成図、第2図
は本考案の第1.の実施例、第3図は本考案の第2の実
施例をそれぞれ示す構成図である。 1・・・炉芯管、2・・・ガス導入管、?、  8. 
10・・・冷却フィン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 炉芯管内に半導体ウェハを配置して熱処理を行う装置に
    於て、前記炉芯管の後部に取付けられたガス導入管の外
    周に冷却フィンを設&テた事を特徴とする半導体熱処理
    装置。
JP9229281U 1981-06-24 1981-06-24 半導体熱処理装置 Pending JPS58418U (ja)

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JP9229281U JPS58418U (ja) 1981-06-24 1981-06-24 半導体熱処理装置

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JP9229281U JPS58418U (ja) 1981-06-24 1981-06-24 半導体熱処理装置

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Publication Number Publication Date
JPS58418U true JPS58418U (ja) 1983-01-05

Family

ID=29887330

Family Applications (1)

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JP9229281U Pending JPS58418U (ja) 1981-06-24 1981-06-24 半導体熱処理装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0332020A (ja) * 1989-06-29 1991-02-12 Toshiba Ceramics Co Ltd 縦型拡散炉

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5648130A (en) * 1979-09-26 1981-05-01 Toshiba Ceramics Co Ltd Structure of furnace core tube for semiconductor diffusion

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5648130A (en) * 1979-09-26 1981-05-01 Toshiba Ceramics Co Ltd Structure of furnace core tube for semiconductor diffusion

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0332020A (ja) * 1989-06-29 1991-02-12 Toshiba Ceramics Co Ltd 縦型拡散炉

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