JPS5841736A - フオトエツチングマスク用ガラス - Google Patents
フオトエツチングマスク用ガラスInfo
- Publication number
- JPS5841736A JPS5841736A JP56135594A JP13559481A JPS5841736A JP S5841736 A JPS5841736 A JP S5841736A JP 56135594 A JP56135594 A JP 56135594A JP 13559481 A JP13559481 A JP 13559481A JP S5841736 A JPS5841736 A JP S5841736A
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- Japan
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- glass
- 13mol
- pbo
- photoetching mask
- cao
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/102—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
- C03C3/105—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
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- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/60—Substrates
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は集積回路を製作する１ＩＩＫ＊ｊｌｌ−Ｉｉれ
るフォトエツチングマスク用ガラスの組成に係るもので
ある。
るフォトエツチングマスク用ガラスの組成に係るもので
ある。
フォトエツチング法で集積回路を製作する場會に轄、フ
ォトＶジス）ｔａＵ、たシリコーン・基板と。
ォトＶジス）ｔａＵ、たシリコーン・基板と。
集積回路に対応するＩり一ンを夕冒ム等の金属で柚写し
九ガラスマスクとを使用し、このマスクをシリコ−ｙ
！！ ｌ［０レジメト１１にあてかりで露光することに
よシ、レジスト画に一ター／ＩＩ俸を形成させ、しかる
後これをｌ１１１してからエツチング処“環を施す苧１
１＃通當採用１れている。然るに、このフォトエツチン
グ法に於て露光時のマスクとして４１Ｍ１ｌれるｌラス
紘、熱膨張係数が小さく、シかも気泡中脈理を會鵞１に
％Ａものでなければならない。その外例えば■ぜンホー
ルなどの欠陥を伴わな−切れのよいツタ−）がり謬ふ膜
で描けるとと。
九ガラスマスクとを使用し、このマスクをシリコ−ｙ
！！ ｌ［０レジメト１１にあてかりで露光することに
よシ、レジスト画に一ター／ＩＩ俸を形成させ、しかる
後これをｌ１１１してからエツチング処“環を施す苧１
１＃通當採用１れている。然るに、このフォトエツチン
グ法に於て露光時のマスクとして４１Ｍ１ｌれるｌラス
紘、熱膨張係数が小さく、シかも気泡中脈理を會鵞１に
％Ａものでなければならない。その外例えば■ぜンホー
ルなどの欠陥を伴わな−切れのよいツタ−）がり謬ふ膜
で描けるとと。
■膜との付着力が強（熱処理や能書液洗浄に充分耐え得
ること、０洗浄鶏履やレジスト剥離に際して用−もれゐ
強酸乃遍は強アルカリＩＩ＊にも充分耐え得ることなど
もマスク用ガラスに求められる要件である。
： 従来、フォトエツチングマスク用ガラスとしては、ＩＩ
Ｏ，、１，０，−アルカリ金属酸死物系と組０ｌ−ＡＩ
、Ｏ，−アルカリ±ｌｌＩ嚢属酸化物幕の３種が知ちれ
て−る・このうち前者は比較的安定なガラス組成で紘あ
るもＯｏ、原料として多量のホウ酸を使うえめ、ＩＩ融
時ＯＩＩ鋤に原因して脈理がで素中すく、均質なガラス
を得ることが難しい欠点がある。
ること、０洗浄鶏履やレジスト剥離に際して用−もれゐ
強酸乃遍は強アルカリＩＩ＊にも充分耐え得ることなど
もマスク用ガラスに求められる要件である。
： 従来、フォトエツチングマスク用ガラスとしては、ＩＩ
Ｏ，、１，０，−アルカリ金属酸死物系と組０ｌ−ＡＩ
、Ｏ，−アルカリ±ｌｌＩ嚢属酸化物幕の３種が知ちれ
て−る・このうち前者は比較的安定なガラス組成で紘あ
るもＯｏ、原料として多量のホウ酸を使うえめ、ＩＩ融
時ＯＩＩ鋤に原因して脈理がで素中すく、均質なガラス
を得ることが難しい欠点がある。
これに対して後者のガラス系は熱膨張係ＩＩｋを小さく
できる利点を持つけれども、ガラスが不安定で失透し中
すく、シかも溶融時の粘性が高いという難点がある。
できる利点を持つけれども、ガラスが不安定で失透し中
すく、シかも溶融時の粘性が高いという難点がある。
本発明者らは熱膨張係数が小さいうえに、気泡中脈理を
含むことがなく、シかも上記し九■〜■の要件を満たし
、さらに溶融時の粘性が低くくて゛溶融性が嵐好なフォ
トエツチングマスク用ガラスを開発すべく研究を重ね九
結果、 ８１０．− ＡＩ、０． ”恥系ガラスに於て
、恥成分としてＭｇＯ，Ｃｏｏ及びＺａＯの３成分を適
正比で用いあと共に、適癲量のＮｓ、０又はに、Ｏを使
用し九ガラス組成が、上ＩＥＯフォトエツチングマスク
用ガツガツメて好適であることを見い出した。
含むことがなく、シかも上記し九■〜■の要件を満たし
、さらに溶融時の粘性が低くくて゛溶融性が嵐好なフォ
トエツチングマスク用ガラスを開発すべく研究を重ね九
結果、 ８１０．− ＡＩ、０． ”恥系ガラスに於て
、恥成分としてＭｇＯ，Ｃｏｏ及びＺａＯの３成分を適
正比で用いあと共に、適癲量のＮｓ、０又はに、Ｏを使
用し九ガラス組成が、上ＩＥＯフォトエツチングマスク
用ガツガツメて好適であることを見い出した。
すなわち１本発明に係るフォトエツチングマスク用ガラ
スの組成は、４ルーでｌ！Ｉ 〜ｙｏｌｏｓＭｏ、。
スの組成は、４ルーでｌ！Ｉ 〜ｙｏｌｏｓＭｏ、。
Ｔ〜Ｉｓ−のム１１Ｏ，，Ｔ〜雪・９１０Ｃａｏ、 ｎ
〜Ｉ＄−のＭｇＯ，１〜１ｍ参のｚｍｏ、ａ、ｓ 〜
ｓ嘔ＯＫＯ又は−０゜０〜１１１１１０ｍ’ｂＯ及び０
〜８ ％ｔ） ＺｒＯ，カｂｌｋ ｈ。
〜Ｉ＄−のＭｇＯ，１〜１ｍ参のｚｍｏ、ａ、ｓ 〜
ｓ嘔ＯＫＯ又は−０゜０〜１１１１１０ｍ’ｂＯ及び０
〜８ ％ｔ） ＺｒＯ，カｂｌｋ ｈ。
本発明のガラス組−威に於て＊ ’１０ｍは５５〜７０
モル−〇ＳＳになければならない。８１０．量の増加社
ガラスの耐久性を向上させ、熱膨張係数を低下させるけ
れども、 ８１０．量が上記ａ＊＊を土建ると溶融性が
悪化して粘性が増大し、逆に１廻ると熱膨張係数社高く
なるうえ耐久性が劣化し、いずれの場合もガラスの安定
性が低下するからである。
モル−〇ＳＳになければならない。８１０．量の増加社
ガラスの耐久性を向上させ、熱膨張係数を低下させるけ
れども、 ８１０．量が上記ａ＊＊を土建ると溶融性が
悪化して粘性が増大し、逆に１廻ると熱膨張係数社高く
なるうえ耐久性が劣化し、いずれの場合もガラスの安定
性が低下するからである。
幻、０．紘ガラスｏ＊ｗｉ性と耐久性に著しい影響を与
える成分で参る。この成分はＩＩＯ，の量中ａＯ酸成分
如何にかかわらず、その存在量が９七ルーである場合が
ガラスを最も安定化する。しかし、アルカリ金属酸化物
が共存する本実＠Ｏガラス組成に１ｋｗｃは、？〜１ｍ
４ルーの範Ｓがガラスに安定性と耐久性を付与するうえ
で有効である。
える成分で参る。この成分はＩＩＯ，の量中ａＯ酸成分
如何にかかわらず、その存在量が９七ルーである場合が
ガラスを最も安定化する。しかし、アルカリ金属酸化物
が共存する本実＠Ｏガラス組成に１ｋｗｃは、？〜１ｍ
４ルーの範Ｓがガラスに安定性と耐久性を付与するうえ
で有効である。
本実−では恥成分としてＣａＯ、ＭｇＯ、ｋｏ Ｏ３成
分かそれぞれ３〜ｌ５ＪＩ＆ルーの範囲で併用される。
分かそれぞれ３〜ｌ５ＪＩ＆ルーの範囲で併用される。
これら３成分はいずれもガラスの安定性向上に寄与する
が、１ｋかでもＭｇＯは４１に熱膨張係数を減少させる
のに有効で塾９．ＺｍＯは特に粘性を低下させるＯＫ有
効で島る。そして上記３成分はほぼ等公比でガラスに含
まれていることを可とする・ 本実＊ＯＳラスはアルカリ金属酸化物としてＮａ、０又
は１ｃ、０のいずれかをｏ、 ｓ −ｓモル−〇範囲で
含有する。アルカリ金属酸化物性ガラスの失透装置を下
げ Ｓ融時の粘性を低下させるのに有効な成分であるが
、Ｌｌ、Ｏｔｇ用し大シ、Ｎ〜０や４０をＳ峰ル１！を
越える量で含有１破た場合Ｉ／ｃ社。
が、１ｋかでもＭｇＯは４１に熱膨張係数を減少させる
のに有効で塾９．ＺｍＯは特に粘性を低下させるＯＫ有
効で島る。そして上記３成分はほぼ等公比でガラスに含
まれていることを可とする・ 本実＊ＯＳラスはアルカリ金属酸化物としてＮａ、０又
は１ｃ、０のいずれかをｏ、 ｓ −ｓモル−〇範囲で
含有する。アルカリ金属酸化物性ガラスの失透装置を下
げ Ｓ融時の粘性を低下させるのに有効な成分であるが
、Ｌｌ、Ｏｔｇ用し大シ、Ｎ〜０や４０をＳ峰ル１！を
越える量で含有１破た場合Ｉ／ｃ社。
ガラスの化学的耐久性が劣化すゐばか〉でなく。
ガラス宍璽に蒸着され九金属りｐ＾膜とガラスとの付着
強［が低下し、さらにマウスエツジと呼ばれるぜンホー
ルがクロ＾膜に発生し中すくなる。
強［が低下し、さらにマウスエツジと呼ばれるぜンホー
ルがクロ＾膜に発生し中すくなる。
しかし、アルカリ金属酸化物としてＮａ１ｐとに、Ｏｔ
）いずれか一方を上記の１１８内で含有させれば、麹冨
・０℃の温度で熱魁聰を行なう隈シ、マクスニップ社尭
生しｔｖ＆、＊らに付言すれｄ６６本発明於てｑＮ〜０
と４０１＃併用すべきでなく、いずれか一方を単独で使
用すべきである。何故なら、Ｎ−０と４０を併用すると
、ガラスの寸法に許・害できない１ｍの＠時賓化が麹る
かうである。
）いずれか一方を上記の１１８内で含有させれば、麹冨
・０℃の温度で熱魁聰を行なう隈シ、マクスニップ社尭
生しｔｖ＆、＊らに付言すれｄ６６本発明於てｑＮ〜０
と４０１＃併用すべきでなく、いずれか一方を単独で使
用すべきである。何故なら、Ｎ−０と４０を併用すると
、ガラスの寸法に許・害できない１ｍの＠時賓化が麹る
かうである。
°本実＠Ｏガラスは任意成分としてＯ〜１１４ルーｔ）
ＰｂＯｌ−０〜ｍ４＃１ＯＺｒＯ１ｔｔ＊することがて
きる・ＰｂＯ紘ガツガラス定化し、粘性を低下させる効
果があ多、耐久性の点でも他ＯＲＯ成分に比べて優れ九
働自をする。しかし、金９多量のＰｂＯを含有畜せると
紫外曽の徴収が強くなるＯで。
ＰｂＯｌ−０〜ｍ４＃１ＯＺｒＯ１ｔｔ＊することがて
きる・ＰｂＯ紘ガツガラス定化し、粘性を低下させる効
果があ多、耐久性の点でも他ＯＲＯ成分に比べて優れ九
働自をする。しかし、金９多量のＰｂＯを含有畜せると
紫外曽の徴収が強くなるＯで。
その含有量紘最高でも１１４ルーとナベきで奉る。
ｚｅｏ□は粘性を中辛よけ、るが耐久性を改善し、熱膨
張係数を４−畜（する効果が大−−けれども、多量に用
−るとガラスを不安定にする。従うてｚｅｏ□はＯ〜Ｓ
罎＃ ＩＩＯ範■で使用する。
張係数を４−畜（する効果が大−−けれども、多量に用
−るとガラスを不安定にする。従うてｚｅｏ□はＯ〜Ｓ
罎＃ ＩＩＯ範■で使用する。
実施例
表１ニガラス組成（モル−）
表１０組成になるように配合し九ガラス原料を１４００
〜１１１００℃で溶融し九後、１０℃７１時間の冷却速
度で徐冷したガラスについてその特性を評価した。結果
を表２に示す。
〜１１１００℃で溶融し九後、１０℃７１時間の冷却速
度で徐冷したガラスについてその特性を評価した。結果
を表２に示す。
熱膨張係数は５０−２００℃の温度域での平均値である
。ガラス転移温度は熱膨張―曽の屈曲点から求めたもの
である。ガラスの安定性を示す液相温度は、ガラスの小
片を白金ＩＩＯ板の上に載せ。
。ガラス転移温度は熱膨張―曽の屈曲点から求めたもの
である。ガラスの安定性を示す液相温度は、ガラスの小
片を白金ＩＩＯ板の上に載せ。
これを一定の昇温速度で加熱される炉内に３時間保持し
、ガラスに失透が生ずる温度の上限から求めた。強酸液
ヤケテストは９０℃の重クロムｍ！混液（濃硫酸２）に
重り四ム駿カリフＯｇ添加）に。
、ガラスに失透が生ずる温度の上限から求めた。強酸液
ヤケテストは９０℃の重クロムｍ！混液（濃硫酸２）に
重り四ム駿カリフＯｇ添加）に。
ガラスを３０分間浸漬してガラス表面の異常の有無を観
察した。マウスニップテストは８！、５インチ平方のガ
ラス板を洗浄後、これにクロムコートと／臂ターニング
を施し、２００℃で３０分間熱処理してからマウスニッ
プ（ｔｙホール）の発生を観察した。
察した。マウスニップテストは８！、５インチ平方のガ
ラス板を洗浄後、これにクロムコートと／臂ターニング
を施し、２００℃で３０分間熱処理してからマウスニッ
プ（ｔｙホール）の発生を観察した。
表 ２
１Ｍ！言に示す結果から明らかなように、本発明のマス
ク用ガラスは熱膨張係数が４ｏ〜＠０ＸＩＯす、＜と低
く、ガラス硬度もヌーゾ硬さで６００ｋｐ／ｙａｗｎ”
以上と良好である。を九洗浄工寝やレジスト剥−工薯で
使用される強１１に対すゐ耐＾性も良く、さらにクロ＾
その他の金属蒸着膜との付着力も良好でｆ２傘−に１に
どの欠陥を生ずることも１にい。加えて本発明Ｏガ９メ
はアルカリ金属酸化物中ＰｂＯ。
ク用ガラスは熱膨張係数が４ｏ〜＠０ＸＩＯす、＜と低
く、ガラス硬度もヌーゾ硬さで６００ｋｐ／ｙａｗｎ”
以上と良好である。を九洗浄工寝やレジスト剥−工薯で
使用される強１１に対すゐ耐＾性も良く、さらにクロ＾
その他の金属蒸着膜との付着力も良好でｆ２傘−に１に
どの欠陥を生ずることも１にい。加えて本発明Ｏガ９メ
はアルカリ金属酸化物中ＰｂＯ。
ＺｍＯを含有しているので、１３１１０℃でｗｏｏ−イ
ズ前後と粘性が比較的低く溶融性が嵐い。この仁とは量
い温度で気泡などのないガラスが製造で自ることを意味
するから１本発明によれに、マスク用ガラス・をよ〉低
；ストで１造することが可能であるＯ 株式金社保谷 硝 子 側人朝倉正申 −λ
ズ前後と粘性が比較的低く溶融性が嵐い。この仁とは量
い温度で気泡などのないガラスが製造で自ることを意味
するから１本発明によれに、マスク用ガラス・をよ〉低
；ストで１造することが可能であるＯ 株式金社保谷 硝 子 側人朝倉正申 −λ
Claims (1)
- １．４ルーで８１〜Ｔｏ−の８轟０．、ｙ〜１ｓ１ｏＡ
ｌｐ、。 ？＝！ ｅｌｌ（） ＣａＯ、！１〜１ ｍ−〇ｌＪｇ
ｏ、Ｂ 〜１８ｑ４１ＤＺｍＯ，６，１〜８ ％ ｔ）
Ｋ、０又はＮａｊＯ、０〜１１ ＩＩＯＰｋＯ及び０
〜ｍ ％ ＯＺｒＯ＊からなるフォトエツチングマスタ
用ガラス。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56135594A JPS5841736A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | フオトエツチングマスク用ガラス |
| DE3232343A DE3232343C2 (de) | 1981-08-31 | 1982-08-31 | Glaszusammensetzung für eine Photoätzmaske |
| US06/413,316 US4403043A (en) | 1981-08-31 | 1982-08-31 | Glass for photoetching mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56135594A JPS5841736A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | フオトエツチングマスク用ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5841736A true JPS5841736A (ja) | 1983-03-11 |
| JPS624335B2 JPS624335B2 (ja) | 1987-01-29 |
Family
ID=15155465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56135594A Granted JPS5841736A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | フオトエツチングマスク用ガラス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4403043A (ja) |
| JP (1) | JPS5841736A (ja) |
| DE (1) | DE3232343C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330711A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-11-18 | Hoya Corp | Ｘ線マスク材料 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4501819A (en) * | 1982-12-23 | 1985-02-26 | Kabushiki Kaisha Ohara Kogaku Garasu Seizosho | Glass for a photomask |
| US4897371A (en) * | 1987-02-03 | 1990-01-30 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass article protected from coloring by electron rays and method of using |
| DD262653A1 (de) * | 1987-06-15 | 1988-12-07 | Jenaer Glaswerk Veb | Photomaskenglas niedriger ausdehnung mit verbesserten hafteigenschaften |
| JPH0345702A (ja) * | 1989-07-11 | 1991-02-27 | Akira Yamauchi | 防菌効果及び指圧効果を目的とする履物材 |
| DE102009051852B4 (de) * | 2009-10-28 | 2013-03-21 | Schott Ag | Borfreies Glas und dessen Verwendung |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3069294A (en) * | 1954-06-03 | 1962-12-18 | Corning Glass Works | Electrical metal oxide resistor having a glass enamel coating |
| GB1329609A (en) * | 1969-09-27 | 1973-09-12 | Tokyo Electric Power Co | Composite material of temerred glass insulator for use in electric power transmission lines |
| US3847627A (en) * | 1972-10-18 | 1974-11-12 | Owens Corning Fiberglass Corp | Glass compositions, fibers and methods of making same |
| DE2532842A1 (de) * | 1975-07-23 | 1977-02-10 | Bayer Ag | Glaeser des systems mgo-cao-zno- al tief 2 o tief 3 -sio tief 2 -tio tief 2 zur herstellung von glasfasern |
| US4297141A (en) * | 1978-09-05 | 1981-10-27 | Sumita Optical Glass Manufacturing Co., Ltd. | Optical glass for optical paths |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP56135594A patent/JPS5841736A/ja active Granted
-
1982
- 1982-08-31 US US06/413,316 patent/US4403043A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-08-31 DE DE3232343A patent/DE3232343C2/de not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330711A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-11-18 | Hoya Corp | Ｘ線マスク材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3232343C2 (de) | 1985-11-21 |
| JPS624335B2 (ja) | 1987-01-29 |
| DE3232343A1 (de) | 1983-04-21 |
| US4403043A (en) | 1983-09-06 |
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