JPS5835187A - ピリドピリミジン誘導体三水和物の製造法 - Google Patents
ピリドピリミジン誘導体三水和物の製造法Info
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- JPS5835187A JPS5835187A JP56132810A JP13281081A JPS5835187A JP S5835187 A JPS5835187 A JP S5835187A JP 56132810 A JP56132810 A JP 56132810A JP 13281081 A JP13281081 A JP 13281081A JP S5835187 A JPS5835187 A JP S5835187A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５
，８−ジヒドロ−５−オキソピリド〔２，３−ａ）ピリ
ミジン−６−カルボン酸三水和物（以下、化合物Ａと略
称することがある）製造方法に関するＯ 上記化合物Ａは優れた抗菌作用を示すため、化学療法剤
として実使用されるに至っている。その製造方法につい
てもすでに多くの提案があり、種々の製法によって合成
した化合物Ａの粗製品から精製品を取得する方法につい
ても特公昭５６−１２６５６号の提案がある。この提案
では、三水和物としての化合物Ａを生成せしめた後、そ
の結晶水が脱離しない条件下で乾燥して付着水を除去す
ることを要旨としている。
，８−ジヒドロ−５−オキソピリド〔２，３−ａ）ピリ
ミジン−６−カルボン酸三水和物（以下、化合物Ａと略
称することがある）製造方法に関するＯ 上記化合物Ａは優れた抗菌作用を示すため、化学療法剤
として実使用されるに至っている。その製造方法につい
てもすでに多くの提案があり、種々の製法によって合成
した化合物Ａの粗製品から精製品を取得する方法につい
ても特公昭５６−１２６５６号の提案がある。この提案
では、三水和物としての化合物Ａを生成せしめた後、そ
の結晶水が脱離しない条件下で乾燥して付着水を除去す
ることを要旨としている。
しかしながらこのような方法は、水より沸点の高い溶媒
が結晶に付着している場合には１該溶媒をさらに低沸点
の溶媒で洗浄して予め除去しておかない限り、該溶媒を
完全に除去しながら乾燥を行うことは困難である。該方
法で推奨しているように水溶液精製法で充分に精製が行
えるような原料であれば上記のような高沸点溶媒付着の
恐れはないが、それでも７０°Ｃ以下という低温での乾
燥であるが故に、乾燥に長時間を要するという欠点は避
けられない。
が結晶に付着している場合には１該溶媒をさらに低沸点
の溶媒で洗浄して予め除去しておかない限り、該溶媒を
完全に除去しながら乾燥を行うことは困難である。該方
法で推奨しているように水溶液精製法で充分に精製が行
えるような原料であれば上記のような高沸点溶媒付着の
恐れはないが、それでも７０°Ｃ以下という低温での乾
燥であるが故に、乾燥に長時間を要するという欠点は避
けられない。
本発明者らが先に提案したように、水性媒体中で化合物
Ａを製造した場合には、ジメチルホルムアミドで再結晶
した方が精製効果が優れており、かかる再結晶品に対し
ては上記提案方法が必ずしも有利な方法ではなく翫より
効果的な精製方法の開発が望まれた。
Ａを製造した場合には、ジメチルホルムアミドで再結晶
した方が精製効果が優れており、かかる再結晶品に対し
ては上記提案方法が必ずしも有利な方法ではなく翫より
効果的な精製方法の開発が望まれた。
本発明者らは・上記事情に鑑み鋭意検討した結果、以下
の方法を見出すに至った。すなわち本発明は１．化合物
Ａの粗製品をジメチルホルムアミドから再結晶し、得ら
れた結晶を付着するジメチルホルムアミドを完全に除く
べく、少なくとも該結晶の結晶水が脱離するような条件
下で乾燥して、化合物Ａの無水物又は該無水物と化合物
Ａの混合物を得、次いで６０℃以下の温度であって、飽
和蒸気圧又はそれ以下の水蒸気を含有する含湿気体の強
制流を作用させることによって化合物Ａに変換せしめる
ことを特徴とする精製化合物Ａの製造方法が提供される
。
の方法を見出すに至った。すなわち本発明は１．化合物
Ａの粗製品をジメチルホルムアミドから再結晶し、得ら
れた結晶を付着するジメチルホルムアミドを完全に除く
べく、少なくとも該結晶の結晶水が脱離するような条件
下で乾燥して、化合物Ａの無水物又は該無水物と化合物
Ａの混合物を得、次いで６０℃以下の温度であって、飽
和蒸気圧又はそれ以下の水蒸気を含有する含湿気体の強
制流を作用させることによって化合物Ａに変換せしめる
ことを特徴とする精製化合物Ａの製造方法が提供される
。
化合物Ａは種々の方法によって製造することができる。
例えば特公昭５６−１２６３６号や特公昭５６−１７３
５２号などの各公報に開示している方法・本発明者らが
昭和５６年７月２１日付特許願で提案した方法などによ
って製造することができる。本発明はこのような諸提案
のうち、とくに水性媒体中で製造された化合物Ａに適用
すると、一層効果的である。
５２号などの各公報に開示している方法・本発明者らが
昭和５６年７月２１日付特許願で提案した方法などによ
って製造することができる。本発明はこのような諸提案
のうち、とくに水性媒体中で製造された化合物Ａに適用
すると、一層効果的である。
種々の方法によって製造されうる化合物Ａは１、反応系
から単離し、粗製品として取得した後、ジメチルホルム
アミドから再結晶する。該再結晶は、例えばジメチルホ
ルムアミド１００重量部に対し、化合物ＡＩＯないし３
０重量部程度を、１００ないし１５０°Ｃ程度の加熱条
件下に溶解した後、０ないし３０℃程度に冷却すること
によって行われる。
から単離し、粗製品として取得した後、ジメチルホルム
アミドから再結晶する。該再結晶は、例えばジメチルホ
ルムアミド１００重量部に対し、化合物ＡＩＯないし３
０重量部程度を、１００ないし１５０°Ｃ程度の加熱条
件下に溶解した後、０ないし３０℃程度に冷却すること
によって行われる。
再結晶品は１予め水や低沸点有機溶媒で洗浄してもよい
が、通常はこのような洗浄を施さないで乾燥させる。乾
燥は迅速に、かっジメチルホルムアミドが付着していれ
ばこれを完全に除くべく行うために、好ましくは１００
ないし１８ｏ″Ｃ程度の温度で、必要ならば減圧に維持
し、結晶水が脱離するように行う。結晶水は通常１０重
量％以上、好ましくは８０ないし１００重量％程度脱離
され、乾燥後化合物Ａの無水物として、あるいは該無水
物と化合物Ａの混合物として得られる。
が、通常はこのような洗浄を施さないで乾燥させる。乾
燥は迅速に、かっジメチルホルムアミドが付着していれ
ばこれを完全に除くべく行うために、好ましくは１００
ないし１８ｏ″Ｃ程度の温度で、必要ならば減圧に維持
し、結晶水が脱離するように行う。結晶水は通常１０重
量％以上、好ましくは８０ないし１００重量％程度脱離
され、乾燥後化合物Ａの無水物として、あるいは該無水
物と化合物Ａの混合物として得られる。
上記の如く得られた乾燥品は、６０℃以下、とくに好ま
しくは２５ないし４５℃の温度で、飽和蒸気圧下１また
はそれより小さい分圧の水蒸気を含有する含湿気体、例
えば含湿空気や含湿窒素などの強制流と接触させること
により、容易に無水物を三水和物に変換することができ
る。この接触に際して、上記乾燥品として、粒径を４２
メツシユないし３５０メツシュ程度に揃えておくことが
望ましい。
しくは２５ないし４５℃の温度で、飽和蒸気圧下１また
はそれより小さい分圧の水蒸気を含有する含湿気体、例
えば含湿空気や含湿窒素などの強制流と接触させること
により、容易に無水物を三水和物に変換することができ
る。この接触に際して、上記乾燥品として、粒径を４２
メツシユないし３５０メツシュ程度に揃えておくことが
望ましい。
また接触の態様は如何なる方法であってもよく、例えば
乾燥品を層状に載置した棚に、下方から該層を通過する
ように含湿気体を送気する方法、該°棚の横方向から乾
燥品の上部を通過するように含湿気体を送気する方法、
含湿気体により乾燥品の流動層を形成させながら接触さ
せる方法などをあげることができる。
乾燥品を層状に載置した棚に、下方から該層を通過する
ように含湿気体を送気する方法、該°棚の横方向から乾
燥品の上部を通過するように含湿気体を送気する方法、
含湿気体により乾燥品の流動層を形成させながら接触さ
せる方法などをあげることができる。
上記方法によれば、余分の水分が付着することもなく、
三水和物となるのでそのまま製品にすることができる。
三水和物となるのでそのまま製品にすることができる。
次に具体例を示す。
実施例１
粗２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５，８−シ
ヒドロー５−オキソピリド（２，５−ｄ）ピリミジン−
６−カルボン酸三水和物１．０ｇとジメチルホルムアミ
ド１０ｍ４？を１５０℃で加熱攪拌して溶解したところ
で熱時ｐ過した。ｐ液を２５℃になるまで攪拌下放冷し
た。析出した結晶を一過した。次いで、１６０℃で減圧
乾燥した。このようにして得られた結晶は、元素分析、
熱分析、および赤外スペクトルから２−（１−ピペラジ
ニル）−８−エチル−５，８−ジヒドロ−５−オキソピ
リド（２，３−ｄ）ピリミジン−６−カルボン酸（無水
物と略す）であった。次に、この無水物のうち４２〜３
５０メツシユの結晶０．６０００ ｇを内断面積５．５
ｃｍ２の外套管付ガラスフィルターに入れ、その充てん
層上部より３０℃で水蒸気を飽和させた空気を下降流通
させた。１５ｈｒ後、水蒸気の吸収量は飽和に達し、重
量増加は０．１０７１ｇであった。これは、丁度６当童
の水を吸収したときの重量増加に相当した。ここで得た
三水和物の機器分析は既存法により合成した三水和物の
それと完全に一致した。
ヒドロー５−オキソピリド（２，５−ｄ）ピリミジン−
６−カルボン酸三水和物１．０ｇとジメチルホルムアミ
ド１０ｍ４？を１５０℃で加熱攪拌して溶解したところ
で熱時ｐ過した。ｐ液を２５℃になるまで攪拌下放冷し
た。析出した結晶を一過した。次いで、１６０℃で減圧
乾燥した。このようにして得られた結晶は、元素分析、
熱分析、および赤外スペクトルから２−（１−ピペラジ
ニル）−８−エチル−５，８−ジヒドロ−５−オキソピ
リド（２，３−ｄ）ピリミジン−６−カルボン酸（無水
物と略す）であった。次に、この無水物のうち４２〜３
５０メツシユの結晶０．６０００ ｇを内断面積５．５
ｃｍ２の外套管付ガラスフィルターに入れ、その充てん
層上部より３０℃で水蒸気を飽和させた空気を下降流通
させた。１５ｈｒ後、水蒸気の吸収量は飽和に達し、重
量増加は０．１０７１ｇであった。これは、丁度６当童
の水を吸収したときの重量増加に相当した。ここで得た
三水和物の機器分析は既存法により合成した三水和物の
それと完全に一致した。
実施例２
粗２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５，８−ジ
ヒドロ−５−オキソピリド（２，３−ｄ）ピリミジン−
６−カルボン酸＝水和物１．０ｇをジメチルホルムア゛
ミド５．Ｏｍｌに１５０℃で加熱攪拌して溶解したとこ
ろで熱時ｐ過した。ｐ液を室温に冷却して析出した結晶
をエタノールで洗浄後、１００℃で減圧乾燥すると、三
水和物を８モル％含有する無水物が得られた。この混合
物０．６０００ ｇを実施例１で示したと同様の操作を
行うと、重量増加は肌ＯＱ６９ｇであった。これは、原
料中の無水物（９２％含有）に結晶水が１００％吸収さ
れたときの重量増加に相当した。
ヒドロ−５−オキソピリド（２，３−ｄ）ピリミジン−
６−カルボン酸＝水和物１．０ｇをジメチルホルムア゛
ミド５．Ｏｍｌに１５０℃で加熱攪拌して溶解したとこ
ろで熱時ｐ過した。ｐ液を室温に冷却して析出した結晶
をエタノールで洗浄後、１００℃で減圧乾燥すると、三
水和物を８モル％含有する無水物が得られた。この混合
物０．６０００ ｇを実施例１で示したと同様の操作を
行うと、重量増加は肌ＯＱ６９ｇであった。これは、原
料中の無水物（９２％含有）に結晶水が１００％吸収さ
れたときの重量増加に相当した。
７６７−
Claims (1)
- （１） ２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５
，８−ジヒドロ−５−オキソピリド（２，５−ｄ）ピリ
ミジン−６−カルボン酸三水和物（Ａ）の粗製品を、ジ
メチルホルムアミドから再結晶し、得られた結晶を、付
着するジメチルホルムアミドを完全に除くべく、少なく
とも該結晶の結晶水が脱離するような条件下で乾燥して
前記（Ａ）の無水物又はそれと（Ａ）の混合物を得、次
いで６０°Ｃ以下の温度であって飽和蒸気圧又はそれ以
下の水蒸気を含有する含湿気体の強制流を作用させるこ
とによって前記（Ａ）に変換せしめることを特徴とする
精製ピリドピリミジン誘導体三水和物の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56132810A JPS5835187A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | ピリドピリミジン誘導体三水和物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56132810A JPS5835187A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | ピリドピリミジン誘導体三水和物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5835187A true JPS5835187A (ja) | 1983-03-01 |
Family
ID=15090105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56132810A Pending JPS5835187A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | ピリドピリミジン誘導体三水和物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835187A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60239486A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Roller Japan Kk | ２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５，８−ジヒドロ−５−オキソピリド〔２，３−ｄ〕ピリミジン−６−カルボン酸三水和物の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5612636A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-07 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive heat-sensitive type recording member |
-
1981
- 1981-08-26 JP JP56132810A patent/JPS5835187A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5612636A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-07 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive heat-sensitive type recording member |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60239486A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Roller Japan Kk | ２−（１−ピペラジニル）−８−エチル−５，８−ジヒドロ−５−オキソピリド〔２，３−ｄ〕ピリミジン−６−カルボン酸三水和物の製造方法 |
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