JPS583282A - サイリスタ - Google Patents

サイリスタ

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JPS583282A
JPS583282A JP56101575A JP10157581A JPS583282A JP S583282 A JPS583282 A JP S583282A JP 56101575 A JP56101575 A JP 56101575A JP 10157581 A JP10157581 A JP 10157581A JP S583282 A JPS583282 A JP S583282A
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JP
Japan
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thyristor
layer
emitter
electrode
thyristors
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JP56101575A
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JPH0136261B2 (ja
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Hiromichi Ohashi
弘通 大橋
Yoshihiro Yamaguchi
好広 山口
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D18/00Thyristors

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  • Thyristors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はdl、/dt耐量の増大と高感度化を図ったサ
イリスクに関する。
サイリスタは導電蓋を交互に異ならせ、表層の半導体層
表面にアノード電極とカソード電極とを取付けた4つの
半導体層によ)構成され、アノード電極側より一般KP
エイツタ層、Nペース層、Pペース層、Nエイνり層と
し九構造を有している。しかしてこのサイリスタでは、
Pベース層に設けられたr−ト電@K)リガ信号を印加
することによって、先ずP−)近傍の小面積がターンオ
ンし、時間の経過flc ff−2てその接合全面積に
亘ってターンオン領域が拡大して導通する。この為、タ
ーンオン時の突入電流上昇率di/dtが大きいと、素
子能力以上にダート近傍の限られた導通部分に電流が集
中し、この結果、局所的な温度上昇による熱破壊が生じ
ることがある。
そこで近年では、サイリスタの高耐圧化、大容量化に伴
い、スイッチング時のdi/dt耐量が大きく、シかも
ダート制御電流のできるだけ小電流が増大すると云う相
反する問題があった。
また近時、f−)電流に代えて光信号によシスイツチン
グ動作を制御する光サイリスタが開発されているが、利
用可能な光エネルギーに限度がある上、ハイ・r−ト・
ドライブが困難な為、di/dt耐量を大きくできなか
った。これ故、d i/d を耐量を損うことなしにf
−)感度の向上を図った高耐圧、大容量のサイリスタの
開発が強く望まれていた。
第1図はこのような問題を解決すべく構成された光サイ
リスタの断面構造を模式的に示したものである。図にお
いて、Pエミツタ層1、Nイー2層x、Pベース層Jl
、Nエミツタ層4からなる4つの半導体層からなるサイ
リスクの上記Pエミッタ鳩1表面にはアノード電極6が
、またNエミツタ層4の表面にはカンードーIK6が配
設されており、メインサイリスタが形成されている。上
記Nエミッタ層4は、Pイー2層3の外8Illlに円
環状に形成されたものである。
またこのメインサイリスタのPベースMSには、複数の
・ンイロットサイリスタを形成するエミツタ層” r 
’i b 、 7 cが相互に離間して同心円状に形成
されてふ一す、その中央部には受光部8が形成されてい
る。
しかして今、このサイリスタの受光部8に九トリガ信号
りしを照射すると、これによって発生する光電m I、
h#′i、Pペース層3を横力向に渡れ、メインサイリ
スタのNエミツタ層4に設けられた短絡部9を経由して
カソード電極6に流れる。このとき、上記光電流!1.
によってPイー2層3に発生する横方向電位差は、・!
イロントサイリスクONエミッタ〜7m、7b、7cを
順方向にバイアスする。この順方向バイアスの一11s
い部分、つまシ受光部6の電圧がPベース層′3とN 
x i yり層7 m 、 7 b * F ”との間
に形成される接合部のビルトインポテンシャルの値に近
付くと、Nエミツタ層7m 、7b・rgからPベース
層Sへの電子の注入が急増し、この結果ノ譬イロットサ
イリスタは受光部σの領域からターンオンする。このタ
ーンオン−流は電極JOaを経由して次段のノ9イ94
ロツトサイリスタれ、ハイゲートドライブ電流として同
ノ臂イロクトザイリスタt−*逼な条件でターンオンさ
せる。そして同様にしてこの/?イロットツイリスタの
サイリスタのターンオンによシ、第3段目の・9イロノ
トサイリスタが駆動され、更にこれによってメインサイ
リスタがターンオン駆動されることになる。
けのようにして多段構成された・9イロツトサイリスタ
tこよって、ターンオン初期時に発止する過大な一力払
失を各・9イロツトサイリスタに分散させることKよ)
、ホットスーットの発生を防止し、di’dt耐量の改
善を図ることが行われている。
ところが、このような従来の多段増幅r−)構造のサイ
リスタにあっては、次のような欠点があった。
即ち、初段の・qイロットサイリスタc6pベース層3
の抵抗値を大きくシ、光電流lPhによって発生するP
ベース層jo横方向電位差を大きくすると、これKよ抄
光感[(r−)感度)の向上を図シ得るが、その反面、
サイリスタ主回路から混入する電圧ノイズに対して誤点
弧しやすくなる。つまり、急峻な電圧上昇率を持つ電圧
ノイ)eかアノード電極4とカッニード電極5間に加わ
ると、これによって発生する変位電流が上記光電流■い
と同じ経路を通る為、この結果光感度を高くすると電圧
ノイズによって誤点弧し易すくなる。この電圧ノイズに
対して飼点弧しないための許容最大dV/dt値がdv
/′dt船蓋と称されるものである。
一方、初段のノ母イロットサイリスタONエミッタ層1
10半径Rを小さくシ、この領域で発生する変位電流の
電を抑制し、且つNエミツタ層1a直下のPベース層3
の抵抗値を大きくすることで、上記dV/dt耐量を損
うことなしに光感度の向上を図ることができる1、然し
乍らこのとき、di/dt耐量の低下を防止する為に、
初段のノ々イロットサイリスタで発生するスイッチング
損失を軽減することが必蚤となる。この点、前述したよ
うにパイロットサイリスタの段数を増やすことによって
、各段におけるスイッチング損失を少々くすることがで
きるが、前記変位電流は光電流■いと違って接合領域の
全面積に亘って流れるから、メインサイリスクのNエミ
ツタ層4のi記短絡部9に近付くに従ってその値が大き
くなる。この為、・9イロツトサイリスタの段数を増し
た場合、逆に仮設のノやイロントサイリスタやメインサ
イリスタにおいて、電圧ノイズによる錆点弧が生じ易く
なると云う新た表8I11が生じた。
史にパイロットサイリスタの段数が増加すると、ターン
オンに必要な最小7ノード電圧、つまシフインが電圧が
増加する傾向がある。この7(ンガ電圧の大きなサイリ
スタを例えば並列運転すると、並列運転される各サイリ
スタの両端に印加されるアノード電圧が、最初にターン
オンしたサイリスタのオン電圧によって法定されてしま
う為、フィンガ電圧の更に大きい他のサイリスタがター
ンオンしなくなると云う不具合が生じる。このような各
種の間紬は、上述した光サイリスタに限らず、通常の電
気トリガ式のサイリスタにもl’iJ様に存在する。
本発f184は、このような事情を考慮してなさftた
もので、その目的とするところは、dV/dt耐量を犠
牲にすることな(、r−)感度(光感度)の向上とdi
/di耐量の増大を図ることのできる実用性の高いサイ
リスクを提供することにある。
即ち本発明は、サイリスクのベース層に形成された集電
電極に取囲まれるように個々の・母イロットサイリスタ
を形成し、これらのノ譬イロツトサイリスクを順次電気
的Km続すると共に、最終段の/9イロットサイリスタ
の工きツタ電極を上記集電11[jと共通化してメイン
サイリスタと電気的に接続したダート電極構造とすると
とによって、上述した目的を効果的に達成したものであ
る。
以下、図面を参照して本発明の一実施例につき説明する
菖2図および第3図は実九例に係るサイリスタの構成を
示すもので、tp、2図はr−)電極の平面配置構成図
、fjk3図は断面構成図である。
Pエミッタ層J 、Nベース層2.Pベース層3゜N工
きツタF#I4の4つの積層された半導体層からなるメ
インサイリスタの上記N工iツタ層4に隣接するPベー
ス層3表面には集電電極IIが形成されておシ、この集
−4を極11に囲ま才1て複数の・9イロツトサイリス
タが形成されている。ここでは、受光部8を備え九第1
のノ9イロットサイリスタ12、そのエミッタ電極を集
電電極11と共通化した第5の79イロツトサイリスタ
16まで、計5個の/譬イロットサイリスク12.13
〜16が形成されている。尚、集電電極11の周辺部、
つまシ・譬イロットサイリスタ12.13〜160周p
にはメインサイリスタ17が形成される。しかして、W
、1の・9イロツトサイリスタ12は、受光部8の周ル
に円狽状にNエミッタ@22*を形成し、その表向にエ
ミッタ電極12bを配設して構成される。また、第2乃
至第5のパイロットサイリスタ13゜14.15.16
Fi、Pペース層3中にiII&亀゛遊極11に囲まれ
てNエミッタ層11m、14m、Ija、16mをそれ
ぞれ形成し、これらのN工きツタ層13mr14*e1
5**16h上にそれぞれエミッタ電極J jb 、1
4b、15b。
16bを形成すると共Kspペース層j上に各f−)電
極13c、14a、15@、16mを形成して構成され
る。このうち、第5のメダイロットサイリスタ16のエ
ミッタ電極16bは前記集電電極1ノと共通化さねてい
る。しかして、各段のノぐイロットサイリスタ18,1
4.15,160各f−)電極13c、14cl15C
a16eFi、それぞれ前段の・9イロットサイリスタ
12.1B、14゜iso各エンツタ電極11b、13
b、14b、15bにム4線等の配線層18を介して順
次電気的に接続されている。従って、各段のパイロット
サイリスタ13.14.15.16は、それぞれ前段の
パイロットサイリスタ11.13,14.15のター/
オン電流をC−ト電流として受けて、ターンオン動作す
るようになっている。そしてメインサイリスタ11は、
第5のパイロットサイリスタ16のターンオン電流を集
電電極11を介して受けて、ターンオンするようになっ
ている。尚、ノ臂イロットサイリスタ11〜16の配置
構造は、j#に規定されるものではない。
さて、このように構成された本サイリスタの受光部8に
光f−)信号幅を照射すると、第1の/#イロットサイ
リスタ12C)中央接合部の空乏層領域で発生した光電
流lphがPイー1層3に流れ込む。この光電流!、h
はPイー1層3を横方向に流れ、Pイー1層3に設けた
集電電極11を介したのち、Pイー1層3とカソード電
極6との間に設けられた短絡部9を介して上記カソード
電極6に流れ込む。仁の結果、光電流IPhは、第1の
ノやイロットサイリスタ12慣城のPイー1層3に横方
向電位差を発生し、これによって#Ilのノ量イロット
サイリス!12ONエミッタ層12暴が順方向にバイア
スされることになる。この順方向バイアス電圧の一番深
い電位が、上記Nエミツタ層JjaとPイー1層3との
間の接合部のビルトイン4テンシヤルの値に近付くと、
これによってNエミッタ1w12a力・らPイー2層J
への電子の注入が急激に増加し、第10ノ量イロクトサ
イリスタ12は上記接合部からターンオンする仁とにな
る。しかして、この第1の・9イロソトサイリスタ12
のターンオン電流は、配線層18を介して第2の・セイ
ロットサイリスタIJのr−)電極13・にr−ト電流
として印加され、これによって第2のパイロットサイリ
スタIJがターンオンすることになる。同様にして、ノ
譬イロツFサイリスタ13のターンオンによって、第3
〜館5の/J?イロットサイリスタ14,15.16が
順次ターンオンすることになる。そして第50ノ9イロ
ツトサイリスタ16のターンオン電流は、集電電極11
から短絡部9を介してカソード電極6に流れ、このとき
上記ターンオン電流はメインサイリスタ11のf−)電
流として機能することから、メインサイリスタ11がタ
ーンオンすることになる。
とζろで、このような構造であれば、dV/dt値の大
きな電圧ノイズが、アノード・カンード間に加った場合
、Pイー1層3に発生する変位電流は、各ノ臂イロット
サイリスタ12.〜16を取囲んで設けられた集電電極
11から、短絡部9を通ってカソード電極6に流出する
。従って、本構造では従来問題となった変位電流の悪影
響が生じない。しかも、この変位電流の影暢は、パイロ
ットサイリスタの配置構造に対して本本質的に全く依存
することがない。従って、ノ母イロットサイリスタの構
成段数を増やしても、M終段の・9イロツト力イリスク
およびメインサイリスタのdV/dt耐量が低下すると
云う不具合の生じる虞れがない。
しかして、本サイリスタにおける第1の・ンイロノトサ
イリスタのターンオン電流最大値!14.は、/4イロ
ットサイリスタの構成段数Nとの間に第4図に示す如き
1係を有し、段数Nの増加に伴って直線的に減少する。
従って、上記段数を成る程度大きくすることによって籐
lのパイロットサイリスタ12への電力集中を@滅する
ことができ、故にその半径Rを小さくすることが可能と
なる。またこのように第10ノ母イロツトサイリスタ1
2の半径Rを小さくすることによって、この領域で発生
する変位電流の値(fr)を抑制することができるから
、このNエミッタ層Ijl&M下のPイー1層3の抵抗
を大きく設定することができ、故にd V/d を耐量
を抽うことなしKr−)感度の向上を図ることが可能と
なる。ちなみに実施例構造によればr−)感度を2〜3
 mWと高感度化することができる上、di/dt耐量
を第1図に示す従米−造のものに比して2〜3倍に改善
することができる。
かくしてここに% dV/dt耐蓋等のサイリスタKl
’求される主要な特性を損うことなしに、di/dt 
it−を量の向上とf−)感度(光感度)の飛躍的な向
上を図った高性能で実用性の為いサイリスタを実現する
ことができる。
尚、本発明は上記実施例にのみ限定されるものではない
。実施例では光サイリスタにつき例示したが、受光部8
にP−)電極を形成してなる電気トリガ式のサイリスタ
にも同様に適用することができる。また、パイロットサ
イリスタの構成段数やその配置構成は仕様に応じて定め
ればよいものであり、賛は各パイロットサイリスタをペ
ース層に設けられ九県電電極によって囲まれるように配
置構成して、順次電気的に接続すれによい。要するに本
発明はその賛旨を逸脱しない範囲で柚々変形して実施す
ることができる。
第1図は従来栴迄ザイリスタの一例を示す構成図%&2
図は本発明の一実施例を示すサイリスタの平面構成図、
第3図は同実施例サイリスタの−「面構成図、總4図は
ノ母イay)サイリスタの構成p数と初段のパイロット
サイリスタのターンオシ電fiLM大臘との関係を示す
特性図である。
3・・・Pペース層、4・・・Nエミツタ層、6・・・
カソード電極、8・・・受光部、9・・・短絡部、11
−1゜集電電極、12.13.14.15.16・・・
ノfイロットサイリスタ、17・・・メインサイリスタ
、12&。
13th、14m、15畠、16h−・−Nエミツタ層
、12b、JJLI、14b、Jjb、16b・・・エ
ミッタ電極、13c 、14a 、15C,16C・・
・r−計電極、 18・・・配線層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  導電型を交互に異ならせて積層された4つの
    半導体層からなるメインサイリスタのペース層中に上記
    メインサイリスタのエミツタ層を除く他の3つの半導体
    層を共有する複数の・臂イロ2トサイリスタのエミツタ
    層を上記メインサイリスタのエミツタ層から分離し、且
    つこのメインサイリスタのエミツタ層と同導電朧にそれ
    ぞれ形成してなるサイリスタにおいて、上記各ノ臂イロ
    ットサイリスタをメインサイリスタの工0J層に**す
    るペース層上に設は九集亀電極の内側にそれぞれ配置し
    、且つ各ノ4イロットサイリスタのエミツタ層に挾まれ
    る各ペース層上にそれぞれr−)電極を形成し、これら
    のノ譬イロットサイリスタのr−)電極を前段の/譬イ
    ロットサイリスタのエミツタ層上に設けられたエミッタ
    電極に順次電気的に接続し、最終段の・母イロットサイ
    リスタのエンνり電極を前記集電−極と共通化したこと
    を特徴とするサイリスタ。
  2. (2)  初fil e /奢イロットサイリスタは、
    光トリガ信号を受けて点弧駆動されるものである特許請
    求の範8第1項記載のすイVスタ。
JP56101575A 1981-06-30 1981-06-30 サイリスタ Granted JPS583282A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56101575A JPS583282A (ja) 1981-06-30 1981-06-30 サイリスタ
DE8282105664T DE3268107D1 (en) 1981-06-30 1982-06-25 Thyristor
EP82105664A EP0069308B1 (en) 1981-06-30 1982-06-25 Thyristor

Applications Claiming Priority (1)

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JP56101575A JPS583282A (ja) 1981-06-30 1981-06-30 サイリスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS583282A true JPS583282A (ja) 1983-01-10
JPH0136261B2 JPH0136261B2 (ja) 1989-07-31

Family

ID=14304189

Family Applications (1)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60106170A (ja) * 1983-11-15 1985-06-11 Toshiba Corp 過電圧保護機能付サイリスタ
JPS63177467A (ja) * 1986-09-29 1988-07-21 Toshiba Corp 半導体装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50120279A (ja) * 1974-02-18 1975-09-20
JPS5183784A (ja) * 1974-12-10 1976-07-22 Siemens Ag

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50120279A (ja) * 1974-02-18 1975-09-20
JPS5183784A (ja) * 1974-12-10 1976-07-22 Siemens Ag

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60106170A (ja) * 1983-11-15 1985-06-11 Toshiba Corp 過電圧保護機能付サイリスタ
JPS63177467A (ja) * 1986-09-29 1988-07-21 Toshiba Corp 半導体装置

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