JPS5831412A - 多点サンプル値制御方法およびその装置 - Google Patents

多点サンプル値制御方法およびその装置

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JPS5831412A
JPS5831412A JP12962181A JP12962181A JPS5831412A JP S5831412 A JPS5831412 A JP S5831412A JP 12962181 A JP12962181 A JP 12962181A JP 12962181 A JP12962181 A JP 12962181A JP S5831412 A JPS5831412 A JP S5831412A
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JP
Japan
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control
point
circuit
points
measurement
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JP12962181A
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English (en)
Inventor
Tetsuo Yamamoto
山本 徹男
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Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5831412A publication Critical patent/JPS5831412A/ja
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D21/00Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
    • G05D21/02Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複数の点においてサンプリングを行ない、これ
らサンプリングの検出データに基づいて、各々の測定点
に対応した操作点について制御操作を行なう多点サンプ
ル値制御方法およびその装置に関するものである。
従来、例えば焼鈍炉における算囲気を浸度係数により自
動制御する場合、炉内の複数の場所にて算囲気ガスのサ
ンプリングを2行ない、これらのサンプリングにより得
、ら・れた・CO又はCOy−>濃度から浸度係数を算
出しこの浸度係数に基づいてサンプリング地点に対応す
る各々のガス供給ノズルから調節用のガスを制御された
倉だけ供給して炉内の雰、囲気ガスの制御を行なってい
た。
し、かし、この種の自動制御では、第1図のタイミング
チャートに示すようにMφ為らMnまでのすンプリング
が各点會こおいて順次行なわれる場合、これらの・検出
データに基づく各サンプリングMlから凪に対応した制
御操作P1からPn の期間−は各サンプリング期間−
の後半において設定されていた。したがって、サンプリ
ングした雰囲気ガスの分析値が安定する前に制御操作が
行なわれることになり、精度の高い制御ができない欠点
があった。
本発明は上記の点を解決することを目的どし、サンプリ
ングを行なう複数の測定点とこれらに対応した操作点を
も、った制御系において、精度の高い安定した制御を行
なうことができる多点サンプル値制御方法とその装置を
提供することを目的とする。そのため本発明は複数の点
についてサンプリングを順次行ない各々の測定点に対応
して設けた操作点において、各サンプリング期間の終了
後制御動作を各操作点について行なうように構成した3
、以下図面を参照しつつ本発明を説明する。
第3図は焼鈍炉の雰囲気を自動制御する制御装置のブロ
ック図を示し、焼鈍炉においてその内部ガスのC(Jと
002 濃度を測定するために、Mφ為らMnまでの測
定点が炉内に設けられ、これらの測定点M1〜Mnから
検出弁v1〜Vnを介して雰囲気ガスを抽:出し、CO
分析計(1)とCも分析計(2)にこのガスを供iする
ように配管されている。検出弁(Vl)ないしくVn)
は夫々制御回路(8)によって開閉動作する電磁弁であ
り、制御回路(8)からの測定指令信号を受けて所定の
タイミングにより第1の検出弁(vl)から1賊に開放
し、炉内の雰囲気ガスをCO分析計(1)とCO扮析計
(2)に送るように動作する。
CO分析計(1)とC鴨分析計(りの出力側はそれぞれ
ム・D変換器(3)J4)を介して演算回路(5)に接
続される。
演算回路(5)は、入力されたCO濃度とCO!濃度か
ら浸炭係数を算出し、制御回路(8)に各サンプリング
時の浸炭係数のデータを出力するものである。
制御回路(8)は演算回路(5)から送られたfjm係
数の値に基づいてガス供給用の制御弁(VC+)ないし
くWon)を開閉制御すると共にタイミング回路(7)
からのタイミング信号を入力し、各検出弁について一定
時間のサンプリング期間を設定し、順次これらの検出弁
(■1)ないしくVn)を一定の時間だけ開弁させるよ
うに構成されている。一方炉内に入れる供給ガスを各測
定点に対応した操作点において制御する制御弁(V C
1t)ないしくVC3r9の動作もこのタイミング信号
に基づいて制御タイミングが設定され、この場合、各測
定点(Ml)ないしくMn)におけるサンプリング期間
−の後に、各操作点(Fs)ないしくPa)における制
御期間Tcがくるように設定されている。制御回路(8
)の出力側は制御弁(V(3t)ないしくV(3n)の
操作用モーターに接続され、一方この制御弁の駆動系に
取付けられ制御弁(Tel)ないしくVGOの開度な検
出するフィードバック抵抗(Rt)ないしくRfOはそ
れぞれム、Df換器(9)を介して制御回路(8)に接
続され、操作用モータ(財)の作動により動作した制御
弁(VCl)ないしくVCn)の開度信号がフィードバ
ックされて制御回路(6)K−送られるように動作する
。なお焼鈍炉内に制御弁(Yet )ないしくV Cn
)を介して供給される供給ガスは例えばCO・・・26
%、Hz・・・60%、CO!・・・0.5%以下、N
Z・・・46.5%の成分をもち、所定の浸炭係数を形
成するようにその供給菫が制御される。(6)は演算回
路(6)に入力されたCO濃度、CO,濃度の値や演算
結果の浸炭係数を表示する表示器である。
上記のように構成された制御装置を使用して、焼鈍炉に
おける多点サンプル値制御方法は次のように実施される
先ず、タイミング回路(7)により、各測定点(Ml)
ないしくm)におけるサンプリング期間Ts は例えば
1分間に設定され、各々の測定点(Ml)から(Mn)
まで順に1分間毎のサンプリング期間が決められ一方制
御弁(Yel)ないしくVCn)の制御期間Toは各測
定点(Ml)ないしくM時に対応する操作点(Pl)な
いしくP→についてそれらのサンプリング期間Ts。
後再びこれが循環してくるまでの期間に設定されている
(第2図)。、したがって制御回路(8)から各測定点
(Ml)ないしくMn)ノ検出弁(vl)ないしくVn
)を1分毎にl[IC開くように測定指令イd号が出力
され、各操作点(Pl)ないしくPn)の制御弁(VC
I)ないしくYen)を演算結果の浸炭係数に基づく開
度まで開く操作指令信号が所定の制御期間Te中に制御
弁(V(3t)ないしくVC3n) (D各%−1(M
JK出力される。
いま、第1の測定点(Mりにおいて制御回路(8)から
検出弁(vl)に信号が出力され、検出弁(vl)が開
くと、炉内からの雰囲気ガスがCO分析計(1)とCO
扮析計(2)に入り、そのガス中のCOとCOlの濃度
が測定され、測定結果はアナリグ信号として出力される
。このような検出測定動作は1分間のサンプリング期間
!1を通して行なわれる。その後これらの信号はム・D
変換器(3)、 (4)を介してデジタル信号として演
算回路(5)Ic入力される。演算回路(5)では、(
CO濃度)”/ (COs濃度)の演算が行なわれ、浸
炭係数が算出される。ここで算出された浸 □脚係数の
データは制御回路(8)に送られ、制御回路伽)では測
定点(Ml)に対応した操作点(Pl)における制御弁
(マOx)の開度をフィードバック抵抗(Rt)から得
られる信号としてム・D変換器(9)でデジタル信号に
変えて入力し、上記の浸炭係数に対応して予め設定され
た制御弁の弁開度の目標値と実際の開度データとを比較
し、目標値と実際の弁開度とが一致するように、制御弁
(Vol)の駆動モータ輪に゛作動信号を出力し、制御
弁(VOl)を目標値まで開閉制御する これにより測
定点(Ms)における浸炭係数は目標値に制御される。
一方測定点(Ml)のサンプリング仲測定点(34)の
サンプリング期1′&1JTsが終了後直゛ちに1分間
行なわれ、上記と同様な動作が行なわれてこの測定点(
Ml)におけるCO濃度とCO2濃度が測定される。そ
して演算回路(5)において上記と同様に浸炭係数が算
出され、このデータが制御回路(8)に送られる。制御
回路(8)ではこのサンプリング期間Tsの後の制御期
間Taに上記と同様に操作点(Pl)における制御弁(
VCx)の浸炭係数に基づく開閉制御が行たわれ、制御
弁(VCg)を1通して供給される操作点(FZ)での
供給ガスの量が制御され、この箇所での雰囲気ガスの成
分が所定の値に調節されることになる。、そして、これ
以後、各測定点と操作点において同様な測定とこれに基
づく制御が行なわれ、測定点(Ml1)、操作点(Pa
)まで測定と制御が終了すると、再び測定点(Ml)と
操作点(焉)に戻って上記のような雰囲気ガスの制御が
行なわれる。
第4図は他の実施例を示し、焼鈍炉なと温度管理を必要
とする燃焼炉の各測定点(町ないしく&)における温度
制御を実施する多点サンプル値制御装置のブロック図を
示している1、各測定点(All)ないしくMn)に設
置された温度センナ(8tl)ないしくsi呻は切換回
路(ロ)を介して電圧・電流変換1l104E!続され
、電圧拳電流変換器(ロ)の出方伺はルD愛換!11(
至)を介して演算回路に)に接続される。この演算回路
(ト)は温度セン?(8t+)ないしく8&m)からの
濃度情報に基づいて、後述する制御弁(VC’l)ない
しくVCn)の開度を算出し、そのデータを制御回路(
至)に出力するように動作する。タイミング回路(ロ)
は、上記の実施例と同様に各測定点(Mi)ないしくK
n)におけるサンプリング期間と制御期間を指定するタ
イミング−信号を順次制御回路(至)と演算回路(ト)
に送るように接続され、制御動作が自動的に連続して行
なわれるように゛動作する。制御回路(至)は演算回路
(ト)から送られた制御弁(VC’t)ないしくYen
)の開度のデータに基づいて、これらの制御弁(VCl
)ないしくVCn)の駆動用モータ輪に信号を出力して
掴′#4弁(VC’t )ないしくVUn)の開閉な制
御するよう#cm成され、さらに、タイミング回路(2
)からのタイミング信号を受けて各測定点(Mu )な
ないしくMn)jc配装された温度センナ(8h)ない
しく8 t n)の入力回路を順次切換えるように接続
されている。なお、−御弁(YeりないしくYolk)
は、それぞれ燃料供給1itに入口備を並列に接続され
、各測定点(Ml)ないl、(Mn)ic対応して配設
されたバーナに燃料を供給するように接続され、制御弁
(V(31)ないしくVCn)の駆動系には弁の開度を
電気信号として取り出すフィードバック抵抗(Ri)な
いしくin)が設けられている。そして、このフィード
バック抵抗(ILl)ないしく jL n )lよ、ム
・D変換器(ロ)を介して制御回路(至)に接続されて
いる。
なおこの実施例においても上記と同様に、タイミング回
路(ロ)における各測定点(Mi )ないしくMu)で
のサンプリング時間は例えば各2.5秒に設定され、こ
れらのサンプリング時間の終了後直ちに制御1Illf
(VCl)ないしくVC荀の制御期間を設けている。
そして、制御回路(ト)からの信号により切換回路(6
)が作動し、測定点(Ml)の温度センナ(8*1)が
炉内の温度を検出すると温度センナ(8ts)から電圧
信号が出力され、電圧・電流変換器(支)により電流値
のアナログ信号に変換され、さらにム・D変換器(至)
により検出温度値がデジタル信号に変えられ、このデジ
タル信号は演算回路−に入力される。演算−路(至)で
は検出温度に基づいて所定の演算式によ 。
り制−弁(Yel)の開度が演算されその演算結果は制
御回路o4#c送られる。そして制御回路(至)は入力
されてきた開度データに基づき、制御弁(VCl)のモ
ータ輪に駆動信号を送り午の弁は開閉動作を行ない、バ
ーナへの燃料供給量を制御する。この時、制御弁(V(
31)の作動と共にフィードバック抵抗(RtThらの
信号がム、D9換器σηを介して制御回路04に74−
ドバフクされ、制御弁(Yes)の開口状態は演算デー
タに基づく目標値に正しく制御される。そして上記と同
様に測定点(鵬)、(4・・・弾→における温度のサン
プリングが順次行なわれ、これfcIl!いて操作点(
Pg) s (P3) ・・−(Pn)における制御I
弁(Vex) 、(VOi) ・・” (VOn) カ
ll[次a作シテ各々のバーナの燃料供給が制御されて
、炉内の温度制御が行なわれる。
なお上記2つの実施例で使用した演算回路、タイミング
回路、及び制御回路は一所謂マイクロコンピュータを使
用して構成することもできる。
゛以上のように、この発明の争点サンプル値制御方法と
その装置によれば、複数の測定点についてサンプリング
を順次行ない、各々の測定点に対応して設けた操作点に
おいて、各サンプリング期間の終了後直ちに制御動作を
番操作点について行なうように制御期間を設定したから
、例えば、焼鈍炉内のWWj気ガスを分析計を用いて測
定し、これに基づいて供給ガスの供給量を制御する制御
系において、サンプリングした雰囲気ガスの分析値が十
分安定した後に制御を実行することができ、精度の高い
制御を行なうことができる。
さらに、複数の測定点について被測定物の測定媒体を測
定する測定手段と、各測定点に対応して設けられた操作
点における複数の操作手段と、この測定手段からの測定
データを入力して所定の演算を行なう演算回路と、この
演算回路からの演算結果とタイミング回路からのタイミ
ング信号を入力し、所定のタイヤングで測定手段の複数
の測定点に測定動作指令信号を順次出方すると共に、操
作手段の複数の操作点に所定のタイミングで操作指令信
号を順次出力する制御回路とから多点サンプル値制御装
置を構成したので、複数の測定点と複数の操作点を備え
た制御系であっても主に1つの演算回路と制御回路を使
用するだけの比較的簡単な回路構成により、制御装置を
構成することができ、!イクロコンピュータ等の使用も
可能となる等の効果をもつものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の多点サンプル値制御系のタイミングチャ
ート、第2図は本発明の多点サンプル値制御方法におけ
る夕゛イミングチヤード、第3図は同憂点ナンブル値制
御装薫のブロック図、第4図は本発明の他の実施例を示
す制御装置のブロック図を夫々示す。 5.15・・・演算回路 8.16・・・制御回路7.
14・・・タイミング回路 M1〜Mm・・・測定点 P1〜Pn・・・操作点v1
〜Vn・・・検出弁(測定手段) VCl ss−VOn・・・制御弁(操作手段)代理人
  弁理士 足 立  勉 第1図 第2図 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 11対1に対応した測定点と操作点とを複数組そなえ、
    該測定点にて行なったす、ンプリングに基づいて操作点
    における操作制御を行なう多点サンプリング値制御方法
    において、嶺数の測定点について順次サンプリングを行
    ない、各々のサンプリング、期間の終了後直ちに対応し
    た操作点について操作制御動作を行なうように制御期間
    を設定したことを特徴とする多点サンプル値制嘗方法。 2 複数の測定点について被測定物の測定媒体を測定す
    る測定手段と各々の測定点に1対1に対応して設けられ
    た複数の操作点における操作手段と該測定手段からの測
    定データを入力して所定の演算を行なう演算回路と、該
    演算回路からの演算結果とタイミング回路からのタイミ
    ング信号を入力し、所定のタイミングで該測定手段に測
    定指令信号な噴火出力すると共に、該傑作手段の各操作
    点に所定のタイミングで操作指令信号を順次出力する制
    御回路とを備えたことを特徴とする多点サンプル値制御
    装置。
JP12962181A 1981-08-19 1981-08-19 多点サンプル値制御方法およびその装置 Pending JPS5831412A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6017503A (ja) * 1983-07-08 1985-01-29 Sony Corp 自動調整検査装置
JPS6048501A (ja) * 1983-08-26 1985-03-16 Hitachi Ltd アナログ電流信号の標本化回路
JPS6184701A (ja) * 1984-10-01 1986-04-30 Yamatake Honeywell Co Ltd 多制御ポジシヨナ
JPS6190202A (ja) * 1984-10-09 1986-05-08 Yamatake Honeywell Co Ltd 多制御ポジシヨナ
JPS62278425A (ja) * 1986-05-05 1987-12-03 ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ 自動化多重ストリ−ム分析装置

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