JPS5829764A - ピリジンから誘導されるアミド及びエステル基を有する除草剤並びにその製法及び使用法 - Google Patents

ピリジンから誘導されるアミド及びエステル基を有する除草剤並びにその製法及び使用法

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JPS5829764A
JPS5829764A JP57109090A JP10909082A JPS5829764A JP S5829764 A JPS5829764 A JP S5829764A JP 57109090 A JP57109090 A JP 57109090A JP 10909082 A JP10909082 A JP 10909082A JP S5829764 A JPS5829764 A JP S5829764A
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ドミニク・アンブロジ
フランソワ・ドウ・レナク・イルツバツク
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Rhone Poulenc Agrochimie SA
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はピリジンから鰐導されたアミド基を有する新た
な化合物並びにこれらの化合物の製法と、前配化合物を
含有する除草剤組成物と、耕地、特に棉及びひまわりの
耕地の雑草の選択的除草のための前記化合物の使用に係
る。
すでに檜物保誇剤として、アミド基を有するピリジン誘
導体及び特に3.5−ジカルボキシ−2p6〜ジメチル
ピリジンのジアニリド誘導体は開示されている(g−ロ
ッパ特許第3105号)。しかしながら、このような化
合物は除幕剤として満足すべきものではない。また、ア
ミド又はエステル基を有するジヒドロピリジン誘導体も
開示されている(フランス国特許第998225号)。
しかし、これらの生成物は繊維製品の漂白剤としてのみ
公知である。
本発明の目的はピリジ/誘導体基の新規な選択的除草剤
を得ることである。
前記目的は今や本発明による新丸な誘導体によって達成
された。
これらの誘導体は次の式の生成物である。
J 〔式中、 一妃、V及びBI Jfl同一であるか相異なるかであ
って、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
又は炭素原子2乃至8個を有するアルコキシアルキル基
を表ワス。
BIは、場合によって塩又はエステルの形状をしていて
もよいカルボキシル基、シアノ基、低級シアノアルキル
基、又は炭素原子2乃至8個を有するアルコキシアルキ
ル基の如き有機基を表わす。
+ Bl及びR6は水素原子もしくは低級アルキル基を
表わすか、又はBSとR・とが−諸に、炭素原子2個乃
至5個を有する単一の二価のアルキレン基を構成するか
であって、かつまた、Vと−のいずれかが更にシアノ基
を表わし得る。
−Rγはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルケニル基、低級アルケニルオキシ基(こ
れらの種々の基、すなわちアルキル、アルコキシ、アル
ケニル、アルケニルオキシ基は所望によりハロゲン化さ
れていてもよい)、ニトロもしくは77ノ基、又は所望
によって置換されていてもよいアミノ基を表わし、或い
は複数のBマが存在するときには、そのうちの2個のR
7が一諸になって炭素原子l乃至4個を有するアルキレ
ン−ジオキシ基を形成することも可能である。
−〇は0又は5以下の正の整数(すなわちn−〇乃至5
)である。nが1より大きい場合、複数の置換f、 R
7は互いに同−又は相異なるものであってよい。
環を表わし、2又は3個の不飽和もしくは二重結合を含
み得る。〕 本明細書中では特別な指示がない限り、形容試1低級1
け有機基を修飾する場合、この基が6個以下の炭素原子
(ol −o−を有することを意味する。
又はジヒドロピリジン核かを表わし得る。
この不飽和含窒素複索環がジヒドロピリジン核を表わす
場合、本発明生成物は次式を有する。
L1 〔式中、記号妃乃至1及びnは前記の意味を有する。〕 不飽和含窒素複素環〔ワがピリジン核を表わす場合、本
発明生成物は次式を有する01 〔式中、記号Bl乃至V及びnは前記の意味を有する。
〕 本発明は式Iの生成物の場合によって生じ得る互変異性
体にも係ることは明らかである。
本発明化合物が塩又はエステルの形状である    ″
場合、基R4は壇の形にきれた000H基と1−000
&”[式中、Vは低級アルキル基〕とのうちから選択す
るのが有利である。前記の塩の形の0OOH基は農業上
使用し得る壇を構成しているものであって、この0OO
H基は無機塩基(例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウム)又は有機基本(例えば第一級、第二級又は第三
級アミン、特にモノ−、ジー、又はトリーアルキルアミ
ン)によって塩の形に変換し得る。
同様に有利な方法によれば、基1は、R7カ咳換された
アミノ基を表わす場合、1個又Fi2個の低級アルキル
基(同−又は相異なる)によって置換されるか又は基−
00−Bll(式中、Rsは低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルアミノ基、又はジアルキルアミ
ノ基を表わし、これらの基の各アルキル部分は同−又は
相異なシ、6個以下の炭素原子を有する〕によって置換
され得る。
式Iの種々の生成物のうちで、いくつかのものが好まし
いクラスを構成する。このクラスに属する奄のは次の如
きものである。即ち、Blが水素原子、 V及びVが独立にメチル基、メトキシ基、低級アルコ中
ジアルキル基、 R4が0OOR”[式中、tは炭素原子l乃至4個を有
する(例えばメチル基及びエチル基、従ってこの場合R
4はカルボン酸メチル又はカルボン酸エチルである)か
、低級シアノアルキル基か、低級アルコキシアルキル基
であり、Bl及びVが水素原子であるか、それらの炭素
原子のうちの一つがメチル基であるか、V及び−が−緒
に炭素原子2乃至3個を有するアルキレン鎖を構成する
かであり、 Vけハロゲン原子(特に塩素又は弗素原子)か、炭素原
子1乃至4個を有するアルキル基(例えばメチル又はエ
チル)であって所望によりハロゲン化されている(例え
ばトリフルオロメチル)か、炭素原子l乃至4個を有す
るアルコキシ基であり、 nけ0.1又は2に婢しい。
yI檜基の性状によって、式Iの化合物はラセミ体、又
は光学的対掌体の形で存在し得る。特に、R1とMt異
なる場合、光学異性体の二つの形が存在し、これらの異
性体本本発明の一部である。(1)−ジメチルベンジル
アミンと同じ光学的配置の光学異性体が有利である。
式■の本発明化合物は、これもまた本発明の一部をなす
方法によって製造し得る。この方法は式R’−0HOの
アルデヒドを弐■のアミノエチレン鰐導体及び式Vのケ
トアミドと反応させることKある。
R4−0H−0−NH2■ 3 〔式中、R’ r Rりr R” + R’ + R’
 * R’ + R’及び口は前記の意味を有する。〕 次の反応式によって反応を行う。
反応温度は一般に+10℃と反応体及び/又は反応生成
物の分解温度との間にある。一般に15℃と100℃と
の間の温度が適当である。
この反応は発熱反応であって、初期には室温で操作する
ことができて、反応期間中に温度が上昇する。又この反
応は、反応媒質の沸点(溶媒を使用する場合には溶媒の
還流温度)においても実施し得る。
式■の生成物の製造のための本発明方法の反応は不活性
有機溶媒、即ち反応体及び/又は反応生成物と化学的に
反応しない有機溶媒の存在下に行うのが有利である。
適当な溶媒としては、芳香族炭化水素、特にベンゼン、
トルエン及びキシレン、脂肪族炭化水素又は脂環式炭化
水素、特にオクタン、デカン、トチカン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、ハロゲン化され九炭化水素
、特に1.2−ジクロロ−エタン、クロロホルム、四塩
化炭素、低級アルカノール、特にメタノール、エタノー
ル、インプロパノ−、ル、第三ブチルアルコール、工ご
チル、4IKエチルエーテル、ニトリル、特にアセトニ
トリル、アミド、特にジメチルホルムアミド、ケトン、
特にアセトン及びメチルイソブチルケトンの如き通常の
グロチックおよびアプロチック有機溶媒を挙げることが
できる。
式冒の生成物の製造のための本発明方法の反応は溶媒の
存在下に種々の反応体を単純に接触させることKよって
行うのが最も好都合である。
有利な方法によれば、式マのケトアきド及び式■のアミ
ノエチレン誘導体とを選ばれた溶媒中に溶解させるのが
好ましく、次にアルデヒドILI <) HOを、この
ようにして得た溶液に反応させる。
種々の反応体を好ましくは化学量論的量で使用する。化
学量論的量から10チ(モル単位)以下ずれた量を使用
することもできる。ただし、このずれは3091程度と
いう大きい値であってもよい。
反応媒質中の反応体の濃度は通常5重量%より大であり
、反応体の溶解度限界より小である。
一般には10乃至40重量−の濃度が適当である。
反応終了時に1弐Iの生成物は通常の技術によって反応
混合物から分離される。多くの場合、この分離は冷却に
よる単純な晶出によって行う。
本発明生成物の光学異性体はそれ自体公知のいかなる方
法によっても製造し得る。二つの方法はラセミ体混合物
から光学的対掌体を分離することである。更に好都合な
方法は単に1光学活性な式マのケトアミドを反応体とし
て用いることにある。前記ケトアミド自体は式 の光学活性なアミンから騨導される。
’5i、、xtv生成物の製造のための本発明方法の反
応は光学的反転を伴わず、従って求めた生成物の配置と
同じ配置の式■のアミンを選択することが有利である。
アルデヒドRIOHO及び式■の反応体は一般に公知の
生成物で市販されている。式Vのケトアミドは例えば’
 Orgaolc 8yith@iej r Oo+I
・Ctムマ・Voils L 10頁9に記載の方法で
適当な原料から製造し得る。
式璽の本発明化合物は、これもまた本発明の一部をなす
方法によって製造し得る。
この方法は式■のジヒドロピリジンを脱水素することを
特徴とする。
この脱水素は特にChenleil Ravlews 
1972 +Vol。
T 2 * No、 1・p31に記載されたそれ自体
公知の方法によって行い得る。前記方法とは即ち、硝酸
、亜硝酸(一般にその場で亜硝酸す) IJウムを酢醗
と反応させて形成)、クロム酸、沃素、硫黄又は過マン
ガン酸カリウムの如き酸化剤を作用させること、または
、式菖のジヒドロピリジンを所望により、例えばパラジ
ウムの如き脱水素触媒の存在下に1加熱することである
製造した化合物がジヒドロピリジンである場合には、こ
のジヒドロピリジンの脱水素によジピリジンを生ずる反
応がオープンエアの中で、又は酸素を含有する雰囲気中
で、時々自然に起ることが見出された。この脱水素反応
は触媒の不使用下に、多かれ少なかれ長い時間(例えば
20℃と50℃との間における酢酸中の溶解期間)の後
に、室温又は室温を超える温度において起υ得る。
式1のジヒドロピリジンから式夏のピリジンへの変換反
応は、酢酸中の式璽のジヒドロピリジンの懸濁液に亜硝
酸ナトリウムを反応させることによって行うのが有利で
ある。この反応は発熱反応であって、反応混合物の温度
がis℃を過ぎないように一般に反応混合物を冷却する
ことが好ましい。
式夏の生成物から式Iの生成物を製造することはもはや
光学的反転を伴わず、従って式菖の生成物と、この生成
物から誘導される弐Iの生成物とは同じ光学的配置を有
する。
R4がシアノアルキル基を表わし、他の置換基が式■に
おけると既述の意味と同じ意味を有し得る。式璽の化合
物は、弐■のクロロアルキルピリジンとシアン化ナトリ
ウムとの反応によって製造し得る。
1 c式中、mは1乃至4の成る数に等しい〕。
反応は常温において水性媒質中で行うのが有利である。
R4がアル−キシアルキル基を表わし、他の置換基が式
璽における既述の意味と同じ意味を有し得る。式璽の化
合物は、弐■のクロロアルキルピリジンと適尚なアルカ
リ金属アルカル−トとを反応させることによって製造し
得る。
この反応はナトリウムを用すて無水アルカノール、例え
ばメタノール中で行うのが有利であるO 化合物1は式■のががメトオキシカルボニル基である化
合物から製造し得る。即ち、このメトオキシカルボニル
基をヒドロキシアルキル基に(例えば水酸化リチウムア
ルミニウムを用いる反応によって)転化させ、次にこの
ヒドロキシアルキル基をクロロアルキル基に、例えば8
00 /lによるハロゲン化剤を用いる反応によって転
化させて化合物■を製造する。
類似の方法で B4がシアノアルキル基又はアルコキシ
アルキル基を表わす。式菫の化合物は、B4がメトキシ
カルボニル基を表わす式■の化合物から製造し得る。
下記の非限定的実施例は、本発明を説明し、本発明をい
かに実施し得るかを例示したものである。
化合物の構造は赤外線分光測定及び/又は核磁気共鳴(
NMR)測定によって確認された。
NMRスペクトルは、参照基準としてヘキサノfk’)
シロキサンを使用してジメチルホルムアミド内で60メ
ガヘルツで実施された。
実施例1乃至7は本発明化合物の製法を説明するもので
ある。
これらの実施例において、[α]:はナトリウムのDI
Iに対する20℃における旋光能を示す。
この測定はジメチルホルムアミド中で行った。
実施例8乃至lOは本発明化合物を使用した除草剤組成
物並びにこれらの組成物の応用を説明する。
表α)乃至(7)は製造した化合物の性質及び物理的特
性を示す。表(ロ)乃至(2)はこれらの化合物の除草
剤への応用を示す。
(以j−幻2白ン 表(1)乃至(■)は製造した化合物の性質及び物還的
特性を示す。表(Vl)乃至(XI)はこれらの化合物
の除草剤への応用を示す。
実施例1゜ 式 %式%( ルベンジル)カルバモイル−5−メトキシカルボニル−
2,6−ルチジン(右旋性化合物21)の製造。
コンデンサと温度針と中央の機械的攪拌器とを備えた1
リツトルの三重フラスコ内に+1l−N−(α−メチル
ベンジル)−アセトアセトアミド(112g;0.54
6(2)l)と、メチルβ−アミノクロトネート(61
1;0.6 mail )と、 エタノール(110m)とを導入する。
この混合物を室温で攪拌後35℃に加熱する。
反応体が溶解した時、混合物中に強度30重量%のホル
ムアルデヒド水溶液(60gg:即ち約0.6mol)
を注入する。この反応は発熱反応であって温度は自然に
75℃まで上昇する。次に反応混合物を還流によって6
0分間加熱する。
冷却後、沈澱物を一過する。これによって所望の生成物
を含有する混合物が得られ、また、副産物として、!、
4−ジヒドロー3.5−ジメトキシカルボニル−2,6
−ルチジンを得る。
前記副産物はメチルβ−アミノクロトネート2モル及び
ホルムアルデヒド1モルの縮合の結果生じたものである
エタノール(5−/j’)中の再晶出によって所望生成
物(22g)を得る。
一出ix料+1l−N−(α−メチルベンジル)アセト
アセトアミドに対する収率:   13%−融 点: 
    180℃ 一実験式:      C1@ l(□N、 O。
−[α]”:     128℃ 出発原料(11−N−(αメチルルベンジル)−アセト
アセトアミドは、アセトアセトアニリドの製造について
’ Orgat+le 5yntheses。
Co11*etlve Volume 3%  10頁
1に記載の方法によって(11−α−メチルベンジルア
ミンヲシケトンと反応させて製造した。
実施例2 化合物l乃至31の製造 実施例日こ記載の方法に従って操作して、適当な原料か
ら化合物1乃至31を製造する。その生成物の式と、融
点と収率とは表(I) 、 (1)及び(厘)に示す。
表(1)の生成物並びに表(1)の化合物31は光学異
性体を生じ得ない。化合物20、忘よび24−30は、
出発反応体として使用したアミンと同様にラセミ体であ
る。化合物21はすでに実施例1に記載の如く光学的に
活性である。
化合物22は光学活性で、純粋で左旋性光学異性体の形
状の出発アミンから製造されている。
化合物23は光学活性で、純粋で右旋性の光学異性体の
形状の出発アミンから製造されている。
実施例3゜ 式、 の(dl−3−メトキシカルボニル−5−(N−(α−
メチルベンジル)−カルバモイル)−2゜6−ルチジン
(化合物70)の製造0 コンデンサと、温度針と、中央の機械的攪拌器とを備え
た250−の三重フラスコ内に−(dl−1、4−ジヒ
ドロ−3−メトキシカルボニル−5−(N−(α−メチ
ルベンジル)−カルバモイル)−2、6−ルチジン(化
合物21)(5,!i’;0.015m>1)と、 一酢酸(40sd) とを入れる。
反応混合物を16℃に冷却してから小さい割合で亜硝酸
ナトリウム(1、l Ji’ : 0.015 mol
)を加える。
反応混合物が25℃を越えないように水浴による冷却に
よって発熱反応を調節する。
およそ20−25℃で30分間攪拌した後、混合物を氷
の上に注ぎ、濃縮アンモニア溶液(50m)で中和する
◎抽出を2ft行い、各回100−の塩化メチレンを用
いる。硫酸ナトリウム上で乾燥し、有機相を蒸発させた
後、粗生成物(5g)を得る。これをシリカ150gの
上で一過してから塩化メチレンとアセトンとのそれぞれ
の体積比85/l 5の混合物を用いてegIIliを
行う。このようにして、自然に晶出する生成物(3,2
g)を得る。この生成物を洗浄して白色粉末状の求める
化合物(2,39)を得る。
−融 点: 129℃ 一収率(ジヒドロルチジンから):  46%−[α]
; :=++ 30゜ 実施例4゜ 実施例3に記載の方法によって、適当な原料から操作し
て、化合物51乃至87を製造した。
式と、融点と、製造期間に得られた収率とは表(N)及
び(V)に示す〇 表(IV)及び(V)の生成物はR5とR′とが同一で
あって、光学異性体を生じ得ない。他の生成物について
は、出発原料である反応性アミン並びに得られた化合物
は、化合物59.60及びフOに対して以外はすべてラ
セミ体である。化合物59.60及び71はこれらの三
つの化合物に対してそれぞれ右旋性、左旋性、左旋性で
あった出発原料である反応性アミンと同様に、光学異性
体である。化合物59.60及び7゜の旋光V(旋回能
)[αコrはそれぞれ−160゜十is°、+30°で
ある。
実施例5 式 %式% ル)−力ルバモイル〕−5−エトキシカルボニル−6−
メトキシメチルビリジン(化合物88)の製造。
250ゴの三重フラスコに、エチル3−アミノ−4−メ
トキシクロトネート(3,8N )と、181−N−(
α−メチルベンジル)−アセトアセトアミド(6g)と
、エタノール(50m)を入れる。反応体の溶解後、3
0%(重量/体積)のホルムアルデヒド水溶液(4m 
; 約40 mM)を加える。約80℃における1時間
の還流の後、反応が終了する。冷却後反応媒質を濃縮し
てからアセトン(200sd)中に溶解させる。これを
水(Loom)中の過マンガン酸カリウム(4g:25
a+M)  水溶液を加えて酸化する。
反応が終了した時、形成された二酸化マンガンを一過し
、メタノールですすぐ、有機相を濃縮し、次にシリカ1
50g上で一過し、エチルアセテートヘキサンとの等し
い割合による混合物によって溶−する。
このようにして黄色の粘稠な油の形状をした待望の生成
物(32g)を得る。
収率:  38% 出発生成物として使用したエチル3−アミノ−4−メト
キシクロトネートはエタノール中におけるai*アンモ
ニア溶液をエチルメトキシアセテートに反応させること
によって製造した。
エチルメトキシアセテートは次に示す如く製造した。
機械的攪拌器と、温度計と、コンデンサと、滴下漏斗と
を備えた11の三重フラスコ中に、エチル第三マロン酸
ブチル(47Ji’)を入れる。
このエチル第三マロン酸ブチルはOrgalleSyn
th@m*m Co11. vol、 IV、417頁
に記載の方法に従って製造したものである。両組フラス
コにエチルエーテル(350m)を、次にマグネシウム
エチレート(2g、5 Ji’ s O,25moOを
加える。還流で1時間攪拌後、反応媒質を約20℃の温
度に冷却しながらメトキシアセナルクロリドをゆっくり
と加える。添加終了後、媒質を1時間還流で加熱する。
10℃に冷却後、2Nの硫酸(150m)によって加水
分解を行う。有機相をデカントし、員酸水素ナトリウム
で洗浄し、水洗し、塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次に
硫化ナトリウムの上で乾燥させる。濃縮後、得られた油
をトルエン(500sd)中で溶解させる。これにパラ
トルエンスルホン酸(11)を加えて、イソブチン及び
二酸化炭素の発生が終了するまで還流で加熱する。これ
を冷却し、炭酸木本ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウ
ムの上で乾燥した後、有機相を濃縮してから水流ポンプ
で真空蒸留する。
化合物88を12JF得る。
収率:  30% 実施例6 式 の佑l−3−(N−(α−メチルベンジル)−力ルバモ
イル〕−5−シアンメチル−2,6−シメチルピリジン
(化合物89)の製造。
この製造は、化合物7Bとして前に説明した(81−3
−(N−(α−メチルベンジル)−力ルバモイル〕−5
−メトキシカルボニル−2,6−シメチルビリジンから
出発して数段階で行う。
中央の機械的攪拌器と、コンデンサと、諷度計と、滴下
漏斗とを備えた三重フラスコ中に無水テトラヒドロフラ
ン(500s+4)を、次iこリチウムアルミニウム水
素化物(14,9)を入れる。5℃乃至10℃に冷却後
、化合物78(50g)をテトラヒドロフラン(3oo
−)中にゆっくり注入する。添加終了後、反応媒質を2
5−30℃で45分間攪拌する。冷却後、反応媒質を水
(14sd)で、次に15%の水酸化す) IJウム水
溶液で、最後に水(42sd)で加水分解する。有機相
を硫酸す) IJウム上で乾燥し、次いでP遇する。か
くして(81−3−(N−(α−メチルベンジル)−カ
ルバモイル〕−5−ヒドロキシメチル−2,6−シメチ
ルピリジン(45iを得る。これは141’cで融解す
る。
滴下漏斗と、中央の機械的攪拌器と、コンデンサと、温
度針とを備えた三重フラスコ中に先に塩化メチレンll
中に得られた5−ヒドロメチルピリジン(45g)を入
れる。これに塩化チオニル(ali+)を注入して還流
で30分間加熱する。
冷却後4N塩化ナトリウム(170d)で中和する。有
機相をデカントし、乾燥し、濃縮した後、精製後(81
−3−(N−(α−メチルベンジル)−力ルバモイル)
−5−’)aoylftレー2゜6−シメチルピリジン
(37,61)を得る。これは165℃で融解するO 1gのエルレンマイヤーフラスコ内で先に得た5−クロ
ロメチルピリジン(12,9)をエタノール(5oo−
)中で加熱(so℃)によって溶解する。
次に水(100m)中のシアン化ナト1ノウム(s、s
 y )の溶液を注入する。
50℃に保って24時間後、該混合物を真空中で濃−し
、次に塩化メチレン(300t+7)と水(100d)
とを加える。有機相をデカントし、硫酸ナトリウムの上
で乾燥して濃縮する。
得られた生成物をシリカ(150Ii)上で一過し、溶
離は塩化メチレン/エチルエーテル/メ9/−7+、(
10/10/1 )で行われる。このようにして(81
−3−(N−(α−メチルベンジル)カルバモイル〕−
5−シアノメチル−2゜6−シメチルピリジン(化合物
88)(10,2Ii)を、146℃で融解する白色結
晶の形状で得る。収率82%(5−クロロメチルビリジ
ンから)。
実施例7 式 %式%) メチルピリジン(化合物90)の製造。
250−のフラスコ中に、(Sl−3−(N−(α−メ
チルベンジル)カルバモイル)−5−クロロメチル−2
,6−シメチルピリジン(21g)を無水メタノール(
50m)中に入れる。
前記(Sl−3−(N−(α−メチルベンジル)カルバ
モイル)−5−クロロメチル−2、6−−、’メチルビ
リジンの製法は実施例6に記載した。
溶解後、それにメタノール(sob)中のナトリウム(
soo9)の溶液を注入する。
2時間還流した後、反応が終了した。混合物を濃縮して
から塩化メチレン(200m)と水(10Card)と
の中に溶解させる。有機相をデカントし、乾燥し、濃縮
する。このようにして、125℃で融解する求める生成
物(1,8g)を得る。
実施例8゜ 実施例7の方法によって、適当な原料から操作して、1
30℃で融解する(81−3−(N−(α−メチルベン
ジル)カルバモイル〕−5−二トキシメチル−2,6−
シメチルピリジン(化合物91)を製造する。
l!繍例9.各種植物の発生前(発芽前→処理への除草
剤の使用 軽い農業用土を満たした9X9X9a+の鉢の中に、植
物の種類及び種子の大きさに従って定められる個数の穀
粒(種子)を播く。
次にこれらの穀粒を厚さ約3闘の土の層で覆う。土に給
湿機、500//ha の使用量に対応し且つ所定の濃
度で活性成分(活性材料ともいう)を含有する量の噴霧
用混合物を噴−することによって鉢を処理する。
前記噴霧用温合物は所望の濃度を得るように所定量の水
によって水利剤を希釈して製造する。
との水利剤は次の重量組成を有する。
−試験すべき活性成分−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−20%一固体不活性キャリャ:カオリナイトー
−−−−69%−界面活性剤(解膠剤・):リグノ スルホン酸カルシウムーー−−−−−−−−−−−−−
−−−−5%−界面活性剤(湿潤剤):イソプロ ビルナフタレンスルホン酸ナトリウムーーーー・1%−
凝結防止用シリカ −−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−5%この水利剤は平均の大きさが40
Lクロンより小さい粒子を得るように超黴粉砕横中で含
有物を混合、粉砕して得られた。
噴霧用温合物中の活性成分の濃度に従って、活性成分の
用量は0.5乃至8 ”p / h a であった。
処理した鉢を、次に檜の中に配置する。これらの櫂は地
下温源の潅鷹用水を受容するためのもので、相対温度7
0%で、35日間室温に保つO 35日後、試験すべき部活性成分を含有する噴射用混合
物によって処理した鉢の中の生存植物の個数と、同じ条
件によってではあるが該活性成分を含有しない噴射用混
合物を用いて処理した対照用鉢の中の生存植物の個数と
を数える。
このようにして非処理対照物に対する処理した植物の防
除率(%)を測定する。100%は、試験植物の完全な
死滅を示し、0%は薬剤処理した鉢の中の生存植物の個
数が対照用鉢の中の生存植物の個数と同一であることを
示す。
この例の試験のために用いた植物の種類は次のものであ
った。
野生からす麦(Av*na fatua)      
FAYめひしば(Dlgltarlm sangllnal is)       D I G
きび属(Eehlnoehlot crus−guil
t)    PANライグラス(Lollurn rn
ultlflorum)    RAY粟i%(8st
arla fab@r目)       SETすずめ
のでっぽう(Alop@earus      VUL
rnyosuroldsm) 双子葉雑草 あか−ざ(Chenopodlucn’ gp)   
    CHR菊(Chryaanthernum s
sgetum)    CHRいぬほうずき(Solm
num nlgrum)    MOR洋がらしく5l
napis  arvenmls)     MOUは
こべ属(Stellarla media)     
 8T1:小麦(Trltlcurn matlvum
)       BLEとうもろこしくZea may
s)        Mム■大麦(Hordsum v
u1gar*)        ORG米(Oryza
 sat%マa)        Rtz双子葉裁培植
物 油II(Brasslea ol@rae@a)   
  COL棉(Gossyplum barbad*n
te)    COTいんげん豆(Phaseolus
 vulgarlg)     HA R大# (Gl
ya lns rnax)         80 J
ひまわり(Hellat+thum  annuus)
     TOU駅察結果は次のように表に示す(発生
前処理の適用) 表(vl)−雑草一式■の生成物 表(劃−裁培植物一式■の生成物 表(■)−雑草一式Iの生成物 表([)−裁培植物一式Iの生成物 除草剤の使用 軽い機業用土を満たした9 X 9 X 9 cmの鉢
の中に、植物の種類と穀粒(種子)の大きさとに従って
定められる個数の穀粒を播く。
次に前記穀粒を厚さ約3簡の土の層で覆い、穀粒が高さ
5乃至103の実生を生じるまで穀粒を発芽するに任せ
る0 このとき鉢を、5001 / ha の適用量に対応し
且つ所定の濃度の活性成分を含有する噴霧用混合物の噴
霧によって処理する。
−噴霧用混合物は実施例9におけると同じ方法で製造し
た。
噴霧用混合物中の活性成分の一度によって、使用される
活性成分の用量は2乃至8#/haであった。
一逃理した鉢を次に地下Saの潅鑞用水を受容するため
の槽の中に配置し、30日間相対湿度70%で室温に保
つ。
30日後に、試験すべき活性成分を含有する9Itll
用混合物によって処理した鉢の中の生存植物の個数と、
同じ条件によって、しかし活性材料を含有しない噴霧用
混合物を用いて処理した対照の鉢の中の生存植物の個数
とを数える。このようにして非処理対照物に対する処理
した植物の防除率(%)を測定する。tno%は、試験
植物の完全な死滅を示し、0%は処理した鉢の中の生存
植物の個数が対照の鉢の中の生存植物の個数に等しいこ
とを示す。
用いた植物の名称及び略称は、先に示した通りである。
観察結果は式Iの生成物については表(X)及びff 
(Xll)に、式蓋の生成物については表(XI)及び
(X[I)に示す。
前記鎖側において得られ、表(Vl)乃至(℃1)に示
された結果は処理した帰化植物、禾本科植物及び双子葉
植物の両方の大多数への本発明化合物の優れた除草剤活
性並びに該化合物の栽培植物lこ関する選択性を示して
いる。
本発明化合物は実際の使用に際してはそれだけで使用す
ることは希である。多くの場合これらの化合物は組成物
の一部をなす。除草剤として使用し得るこれらの組成物
は、農業に使用し得る固体又は液体キャリヤ及びこれも
また農業に使用し得る界面活性剤と組合せて、先に述べ
た如き本発明化合物を活性成分として含有する。
特に中性の常用のキャリヤ及び常用の界面活性剤を使用
し得る。
これらの組成物はまた他のあらゆる種類の配合剤、例え
ば保護コロイド、接着剤、増粘剤、チキソトロープ剤、
浸透剤、安定剤、金属イオン側鎖剤等を含有することが
可能で、また、毒性農g*性(特に殺虫剤、殺真劇剤又
は除草剤特性)又は植物生長促進特性(特に肥料)又は
植物生長促進特性を有する他の公知の活性配合剤をも含
有し得る。更に一般に、本発明化合物は通常の製剤技術
に対応するあらゆる固体又は液体添加剤と組合わせ得る
本発明化合物の使用量は特に、除去すべき雑−草の性質
と、これらの雑草に対する栽培植物の通常の蔓延の度合
とに従って、大きな範囲内で種々変えることができる・ 一般的には、本発明組成物は通常本発明による1種類以
上の化合物的0.05乃至95%(重量)と、1種類以
上の固体又は液体キャリヤ約l乃至94.95%と、所
望により1種類以上の界面活性剤約0.1乃至20%と
を含有する。
前に述べたところによれば、本発明化合物は一般に複数
のキャリヤと、所望により複数の界面活性剤とに組合さ
れる。
本f141Ill書において、′キャリヤ0(担体)と
いう語は該活性材料の植物又は穀粒(種子)又は土壊へ
の施用を容易にするために前記活性成分と組合せる有機
又は無機の、天然又は合成の材料を示す。このキャリヤ
は、従って一般に中性であって、農業に、特に処理され
る植物について受入れ得るものでなければならない。キ
ャリヤは固体(クレー、天然又は合成シリケート、シリ
カ、樹脂、ワックス、固体肥料、等)又は液体(水、ア
ルコール、ケトン、石油留分、芳香族又はパラフィン系
炭化水素、クロロヒドロカーボン、液化ガス等)であり
得る。
界面活性剤はイオン型又は非イオン型の乳化側又は分散
剤又は湿潤剤である。例えばポリアクリル酸塩、リグノ
スルホン酸塩、フェノールスルホン酸塩又はナフタレン
スルホン酸塩、酸化エチレンの脂肪アルコールへの又は
脂肪酸への、又は脂肪アミンへの重縮合物、置換された
フェノール(49にアルキルフェノール又はアリールフ
ェノール)、スルホコハタ酸塩エステルの塩、タウリン
誘導体(特にアルキル−酒石酸塩)、及びアルコール又
はフェノールへの酸化エチレンの縮合物の燐酸エステル
を挙げることができる。少くとも一つの界面活性剤の存
在は、活性成分及び/又は中性キャリヤが水に可溶性で
なく且つ適用ビヒクルが水である場合には、一般に不可
欠である。
式(1)の化合物を適用するために、この化合物は一般
に組成物の形状にすることができ、これらの組成物はそ
れ自体かなり様々な、固体又は液体の形状のものにする
ことができるO固体組成物の形状として、散布又は分散
用粉末(式(1)の化合物の含有量はioo%に違し得
る)と、細粒、特に押出し、圧縮、粒状キャリヤの含浸
、粉末からの粒状化によって得られる細粒(これらの細
粒中の式(1)の化合物の含有量はこれら後者の場合0
,5乃至80%である)とを挙げることができる。
液体組成物又は適用の際に液体組成物を構成するための
組成物の形状としては、濃縮懸濁液、水利剤(即ち噴霧
用粉末)及びペーストを挙げることができる。
濃縮懸濁液は噴霧によって施用することが可能であって
、沈澱しない安定な液状生成物を得るように製造されて
おり、通常、活性成分10乃至75%、界面活性剤0.
5乃至15%、チキントロープ剤0.1乃至10%、適
当な添加剤0乃至10%とを含有する。前記添加剤とは
、消泡剤、腐蝕前止剤、安定剤、浸透剤、接着剤の如き
ものである。キャリヤとしては、水又は有機液体が用い
られ、前記有機液体はその中で該活性材料があまり溶解
しないか又は全く溶解しない。或種の有機固体又は無機
塩はキャリヤ中で溶解可能で、沈降を防止し又は水のた
めの凍結防止剤として作用する〇 水利剤(即ち噴霧用粉末)は通常活性材料20乃至95
%を含有するように製造する。水利剤は通常更に固体キ
ャリヤを含有する。この固体キャリヤは湿潤剤O乃至5
%、分散剤3乃至lO%、また必要な場合には0乃至1
0%の1種類以上の安定剤及び/又は他の添加剤を含有
する。前記添加剤とは、浸透剤、接着剤又は凝結防止剤
、色素、等である。
(族1余白) ここに種々の水和剤組成物を例示する。
−活性材成分一−−−−−−−−−−−−−−−50%
−ノグノスルホン酸カルシウム(解膠剤)−−−−−−
−−−−−−−−−−5%−凝結防止用シリカー−−−
−−−−−−−−5X−カオリン(充填剤) −−−−
−−−−−−−3s X別の、80%の水利剤の例を下
に示す。
・活性成分−−−−−−−−−−−80N・アルキルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム−−2%・リグノスルホ
ン葭ナトリウムー−−−−−2%・凝結防止用シリカー
−−−−−−−−−−−−3N・カオリンー−−−−−
−−−−−−−−−−−−13%別の水林剤の例を下に
示す。
・活性成分−−−−−−−−−−−−−−−−−−50
%・アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム−−2%
・低粘Wノ1−y−ルセルロースー−−−−−−−2%
・珪櫟土−−−−−−−−−−−−−−−−−−−46
%別の水利剤の例を下に示す0 ・活性成分−、、==−−−−−−−−−−−−90%
・ジオクチルスルホコノ為り酸ナトリウムー−−0,2
N・合成シリカ−=−=−一−−−−−−−−−9.8
%別の、70%の噴霧用粉末の組成物は次の成分を使用
する。
一活性成分一=−−−−−−−−−−−−−−7009
−ジブチルナフチルスルホン酸ナトリウム−−50f物
−++−+−+−+−−−+−−−−−−−30f−カ
オリンー−−−=++−+−−++−−100f−シャ
ンバ一二ュチョークー−−−−−−1202別の、40
Xの噴霧用粉末の組成物は次の成分を使用する。
一活性成分一+++++−−−−−−−−−−−400
9−リグノスルホン酸ナトリウムー−−−−50SF−
ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム−10f−7
リカーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 54o
f別の、25%の噴繕用粉末の組成@は次の成分を使用
する。
一活性成分一−−−−−−−−−−−−−−−−25(
1−リグノスルホン酸カルシウム−−−−−45f−シ
ャンパ一二ュチョークトヒドロキシエチルセルロースの
等11tA合物−−−19を−ジプチルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム−15f−シリカー−−−−−−−−
−−−−−−−−−−195f−シャンパーニュチョー
クー−−−−−−−195t−カオリンー−−−−−−
−−−−−−−一−−281f別の、25%の噴に用粉
末の組成物は次の成分を使用する。
一活性成分一−−−−−−−−−−−−−−−−−25
0f−インオクチルフエノキシーポリオキ シエチレンーエタノールー−−−−−−−25を一シャ
ンバーニュチョークとヒドロキシエチルセルロースとの
等重量混合物−−−−1’lf−アルミノ珪酸ナトリウ
ムー−−−−−−−5431−多孔質珪藻土−−−−−
−−−−−−−−−−16!M別のS10%の噴霧用粉
末の組成物は次の成分を使用する。
一活性成分一−−−−−−−−−−−−−−−−−10
0f−蝉和脂肪酸スルフエートのナトリウム塩の混合物
−−−−−−−−−−−−−−−−−30f−ナフタレ
ンスルホン酸トホルムアルデヒドとの縮合生成物−−−
−−−一−−−−5Of−カオリンー−−−−−−−−
−−−−−−−−−820?これらの噴霧用粉末til
lち水利剤を得るために、活性成分を適当な混合器内で
添加物とよく混合させてからSjル又は他の適当な粉砕
機で粉砕する。
これによって、有利な湿潤性及び懸濁性を有する噴霧用
粉末を得る0これらの粉末を、水を用いてあらゆる所望
のll!1度で懸濁させ得る。この懸濁液は%特に植物
の象に適用するために非常に有利に使用し得る。
水利剤の代りに、ペーストを作ることもできる。
これらのペーストの生産及び使用の条件及び様式は水和
剤即ち噴霧用粉末の生産及び使用の条件及び様式に類似
である。
先に述べ九如く、分散液1例えば本発明による一種類の
水利剤を水によって希釈して得られる組成物は本発明の
一般的範囲に含まれる。
1噴霧用混合物“(iたは1噴精混合物“)という飴は
栽培植物に施用される如き、水で希釈した組成物を示す
ために使用する。
これらのすべての分散液又は水性乳g4液又は噴霧用混
合物はろらゆる適当な手段、主として噴繕によって除草
すべき栽培植物に施用し得る。噴−の際の用菫は一般(
枦τヘクタール当り噴霧用混合物100乃至200リッ
トル機度である。
土壌に施用されるべき粒剤(細粒物)は通冨これらの粒
剤が0.1■と2mの間の寸法を有するように作られる
。これは凝巣父は含浸技術によって製造することが可能
である。
粒剤は活性成分l乃至25%と、添加剤0乃至10Xを
含有することが好ましく、前記添加剤は安定剤1遊離の
遅い改質剤、粘結剤及び溶剤の如きものである。
粒剤組成物の一例によれば、次の成分を用いる〇−活性
成分一−−−−−−−−−一−−−−−−50f−エビ
クロルヒドリンー−−−−−−−−−−2,5?−セチ
ルボリグリコールエーテルー−−−−2,5?−ポリエ
チレングリコールー−−−−−−−351−カオリン(
粒度:0.3乃至0.8■)−910tこの%男i]な
場合には、活性成分をエピクロルヒドリンと混合してか
らアセトン(60f)中に分散させ、次にポリエチレン
グリコールと、セチルポリグリコールエーテルとを加え
る・得られた分散剤でカオリンを湿潤させてから真空で
アセトンを蒸発させる。
上に示した如く、本発明は栽培植物1特に棉1ひまわり
、小麦、及び大麦の除草法にも係る。この方法によれば
、除草すべき区域の植物及び/又は土壌に対して少くと
も−m類の本発明化合物の有効縫を適用する0これらの
化合物は前に述べた本発明による除草剤組成物の形状で
使用する。一般に、0.1乃至10に4/haに及ぶ活
性材料の皺は良好な結果を与える。活性材料の使用量の
選択は、解決すべき問題の大きさと1気候条件と、検1
1中の栽培植物とに従って行う。一般に栽培植物及び雑
草の予備発生処理、又は土壌中に混入することによって
栽培S物をあらかじめ播種すること(この混入は従って
本発明の処理方法の補足的操作である)によって処理を
行う。たたし、成る場合には、使用される化合物次第で
1発生後の処理によってもまた良好な結果を得ることが
り能である。
本発明処理方法の他の実施例もま丸駒用し得る。
従って、栽培植物の菌の移植前に、土壌に活性成分を、
混入して又は混入せずして、適用することが可能でめる
本発明処理方法は一年生栽培植物の場合にも多年生栽培
植物の場合にも適用される0多年生裁培植物の場合には
本発明活性材料を局所的に、例えば酌記載培植物の列の
間に適用することが好ましい。
表    ■ 表    厘 表    X 表    ! 表    1 第1頁の続き 13100 317100 ) 0発 明 者 フランソヮ・ドウ・レナク・イルツバツ
ク フランス国69006リヨン・アヴ ニュ・フォック48

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)弐′ l 〔式中、 −RslTJP及びBSは同一であるか和装なるかであ
    って、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
    又は炭素原子2乃至8個を有スるアルコキシアルキル基
    を表わし、+ B4は、場合によって塩又はエステルの
    形状にされていてもよいカルボキシル基、シアノ基、低
    級シアノアルキル基、又は炭素原子2乃至8個を有する
    アルコキシアルキル基の如き有機基を表わし、 BS及び硬は水素原子もしくは低級アルキル基を表わす
    か、又はB1とがとが一諸に、炭素原子2個乃至す個を
    有する単一の二価のアルキレン基を構成するかであって
    、PとR6のいずれかが更にシアノ基を表わすことも可
    能であシ、 BYはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、低級アルケニル基、低級アルケニルオキシ基(これ
    らの種々の基、すなわちアルキル、アルコキシ、アルケ
    ニル、アルケニルオキシ基は所望によりハロゲン化され
    ていてもよい)、又はニトロもしくはシアノ基又は所望
    によって蓋換されていてもよいアミノ基を表わし、或い
    は複数の8丁が存在するとIKは、そのうちの2個のR
    7が一諸になって炭素原子l乃至4個を有するアルキレ
    ン−ジオキシ基を形成するととも可能であり、 −nは0又は5以下の正の整数であり、表わし、2又は
    3個の不飽和結合を含むことが可能である〕 を有することを特徴とする特に除草剤として使用し得ゐ
    新規化合物。 とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 微とする特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 (4) R4が基−ooon”  〔式中、Vは低級ア
    ルキル基〕、又は低級アルコキシアルキル基又は低級シ
    アノアルキル基を表わすことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の化合物。 (5)  −FLIが水素原子であり、−、Bm及びP
    がメチル基又はメトキシ基又はメトキシメチル基であり
    、 −B’カ000RI (式中、BSは炭素原子l乃至4
    個を有する〕、又はシアノメチル基又は低級アルコキシ
    メチル基でsす、 Bl及びVが水素原子であるか、又は8IとPのうちの
    一つがメチル基であるか、又はBlと−とが一諸にエチ
    レン鎖を形成し、+ Blが塩素もしくは弗素原子、又
    は炭素原子1乃至4個を有するアルキル基(所望により
    ハロゲン化されていてもよい)、又は炭素原子l乃至4
    個を有するアル2埒ン基であり、 −nが0.1又は2に等しい ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のい
    ずれかに記載の化合物。 (6)  (1)−α−メチルベンジルアミンと同じ配
    置の光学異性体の形状を有することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項乃至第5項のいずれかに記載の化合物。 (7)弐R’−0HOのアルデヒドと、式■のアミノエ
    チレン誘導体と、式マ のケトアミド 〔前記3式中、R” r R” r IL” + R’
     + R’ + R’ + R’ 及ヒnFi特許請求
    の範囲第2項及び第4項乃至第6項のいずれかに記載の
    意味を有する〕とを反応させることを特徴とする特許請
    求の範囲第2項及び第4項乃至第6項のいずれかに記載
    の化合物を製造する方法。 (8)  不活性溶剤の存在下にlIs℃と100℃と
    の間の温度で反応を行うことを特徴とする特許請求の範
    囲第7項に記載の方法。 (9)  反応体の濃度が5重量−より大きく、そして
    反応体の相対比について、その化学量論的量からの隔た
    シは10 mar−未満であることとを特徴とする特許
    請求の範囲第7項又は第8項に記載の方法。 (2)特許請求の範囲第2項に記載の化合物を脱水素子
    ることを特徴とする特許請求の範囲第3項乃至第6項の
    いずれかに記載の化合物の製法。 (II  脱水素を硝酸又は亜硝酸又はり冒ム酸、ヨー
    ド、硫黄の如き酸化剤を用いて行うことを特徴とする特
    許請求の範囲第10項に記載の′方法。 (神 脱水素を、所望によシ脱水素触媒の存在下に、酸
    素含有雰凹気中で単純な加熱によって行うことを特徴と
    する特許請求の範囲第10項に記載の方法。 (#式 〔式中、11L” + R” + R” * R’ +
     R@r R’及び口が、特許請求の範囲第1項に記載
    されたと同じ意味を表わし、ff+け1乃至4のいずれ
    かの整数を表わす〕 のクロロアルキルピリジンにシアン化ナトリがピリジン
    核を表わし、Vがシアノアルキル基を表わしている特許
    請求の範8#11項に記載の化合物の製法。 (14式 〔式中、RIIR鵞* R” * R’ + R・、R
    テ及び鵬は特許請求の範囲第1項に記載されたと同じ意
    味を有し、mは1乃至4のいずれかの整数を表わす〕 のクロロアルキルピリジンにアルカリ金属アルカル−ト
    を反応させることを特徴とする、キル基を表わす特許請
    求の範囲第1虫に記載の化合物の製法。 (11特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれか忙記
    載の化合物の少くとも一種類を活性成分として含有する
    ことを特徴とする除幕側組成物。 (11S  活性成分0.05乃至95重量−を含有す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の組
    成物。 (功 更に1固体又は液体キャリヤl乃至94.95%
    を含有し、かつ、所望により一種類以上の界面活性剤0
    .1乃至20−を含有することを特徴とする特許請求の
    範囲第15項又は第16項のいずれかに記載の組成物。 (I  除草すべき区域の植物及び/又は土壌に特許請
    求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載の少くとも
    一種類の化合物の有効量を適用することを特徴とする栽
    培植物、特に棉、ひまわり、小麦又は大麦の栽培地の雑
    草の選択的除草方法。 (10,1乃至10々/haの活性成分を使用すること
    を特徴とする特許請求の範囲第18項に記載の方法。 に)栽培植物の発生前又は栽培植物の播種前に混入によ
    って使用されることを特徴とする特許請求の範囲第18
    項又は第19項に記載の方法。
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