JPS5827788B2 - 置換ピリジンの製法 - Google Patents

置換ピリジンの製法

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JPS5827788B2
JPS5827788B2 JP52105730A JP10573077A JPS5827788B2 JP S5827788 B2 JPS5827788 B2 JP S5827788B2 JP 52105730 A JP52105730 A JP 52105730A JP 10573077 A JP10573077 A JP 10573077A JP S5827788 B2 JPS5827788 B2 JP S5827788B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2−及び3一位で芳香族−又はへテロ芳香族
置換されているピリジンの製法に関する。
この置換ピリジンは医薬、植物保護剤及びプラスチック
の製造に重要な中間生成物である。
2−及び3一位で芳香族置換されているピリジンをケI
・ンから、即ち2・3−ジフェニルピリジンをデツキジ
ベンゾインから及び2−ベンジル3−フェニルピリジン
を1・3−ジフェニルアセI・ンから製造することは公
知である。
このために、ケトンを初めにエナミンに変換し、これを
3−フロムプロピルアミン−ヒドロプロミドとジメチル
ホルムアミド中で反応させてテトラヒドロピリジンに変
えかつ最後にこれをパラジウム触媒の存在で脱水素化し
てピリジンに変換する〔゛オルガーニック・ケミストリ
ー” (Org、Chem、 ) 28巻、3468〜
3473頁(1,963年)〕。
デソギシベンゾインから2・3−ジフェニルピリジンを
製造する場合、デツキジベンゾインを3・3−ジェトキ
シ−1−ジメチルアミノ−1−フロペンにより5−ジメ
チルアミノート2−ジフェニル2・4−ペンタジェン−
1−オンにかつこレヲl□リエチルオキソニウムテトラ
フルオロボレートによりかつ更にジメチルアミンにより
5−ジメチルアミノ−N−N−ジメチル−1・2−ジフ
ェニル2・4−ペンタジェンイミニウム−テトラフルオ
ロボレートに変換し、最後にこれを塩化アンモニウム/
アンモニア−溶液中で加熱して2・3ジフエニルピリジ
ンに変換する〔゛リービツクス・アンナーレン・デア・
ヒエミー”(L iebigsAnn 、 Chem
、 )、1975.874〜900頁〕。
これらの方法は工業的規模で適用するには余り好適では
ない。
それらのロスが大きくかつ取扱いが煩雑である。
その上、必要な反応試薬の若干のものは入手が困難であ
る。
ところで、2−及び3一位で芳香族−又はヘテロ芳香族
で置換されているピリジンの製法が判明した。
これはケト基に隣接して反応性メチレン基少な(とも1
個を有する芳香族−又はヘテロ芳香族置換されているケ
トンをオキソ基に隣接して不飽和炭素結合を有する脂肪
族オキソ化合物と、気相中アンモニア並びに脱水−及び
脱水素作用触媒の存在で温度約250〜550℃で反応
させることを特徴とする。
この方法により2−及び3一位で芳香族又はヘテロ芳香
族で置換されているピリジンを簡単で容易に入手し得る
物質から単一反応で生成することができる。
高い収率が達成される。本方法は公知方法とは異なり工
業的規模で適用するのに好適である。
本発明により、一般式: 〔式中R1及びR2は同じか又は異なっており、場合に
よりハロゲン、アルキル基又はシアノ基により1個所以
上で置換されている芳香族−又はへテロ芳香族環を表わ
しかつnは数値O又は1を表わす〕の芳香族又はヘテロ
芳香族置換されているケトンを一般式: 〔式中R3、R4及びR5は同じか又は異なり、水素か
又は場合により分枝している炭素原子殊に1〜6個、特
に1〜2個を有する低級アルキルを表わす〕のオキソ化
合物と、アンモニアの存在で反応させて一般式: 〔式中R1、R2、R3、R4及びR5並びにnは前記
のものを表わす〕の化合物に変換する。
例えば、芳香族−又はヘテロ芳香族で置換されているケ
トン(I)としては、4′・4“−ジクロルジフェニル
−1・3−アセl)ン、ジンチルジフェニルト3−アセ
トン、ジシアンジフェニル−1・3−アセトン、ジピリ
ジル−1・3−アセトン、ジチェニル−1・3−アセト
ン及ヒ特ニジフェニル−1・3−アセトン、ベンジルフ
ェニルケトン、ベンジルピリジルケトン、ピコリルフェ
ニルケトン及びベンジルチェニルケトンが該当する。
例えば、好適なオキソ化合物01)はメタクロレイン、
クロトンアルデヒド、メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、3−ペンテン−2−オン、4寺にアクロレイ
ンである。
反応条件、例えば温度と圧力並びに反応する物質の量比
と滞留時間は場合により一定範囲で相互に依存しかつ場
合により反応する物質の種類及び触媒の種類により決ま
る。
一般に、反応は温度約250〜550℃で実施する。
たいていの場合、温度約300〜500℃、特に350
〜4.50℃を有利に適用することができる。
圧力約1〜4バールで操作することは有利であるが、こ
れよりも低い圧力も高い圧力も使用できる。
しかし簡単な装置を使用するにはこれから余り偏倚した
圧力を使用しない方が有利である。
ケトン(I)とオキソ化合物間の量比は全く任意に、化
学量論的にかつまたそれ以下或いはそれ以上で選択する
ことができる。
一般に、ケトン(■)1モル当りオキソ化合物(8)約
0.5〜10モルを使用することは有利である。
有利にはケトン(■)1モル当りオキソ化合物(9)約
1〜5モル、特に2〜4モルである。
アンモニアはこの反応で全く任意に化学量論以下の量乃
至それ以上の量で存在してよい。
たいていの場合、ケトン(■)1モルに対して少なくと
もアンモニア約0.5モル、但し多くともアンモニア約
1、00モルが存在すると有利である。
有利にも、ケトン(■)1モルに対してアンモニア約1
〜20モル、殊に2〜15モル、特に3〜12モルであ
る。
反応を気相中で行なう。
ケトン(I)、オキソ化合物間及びアンモニアからのガ
スを不活性ガスにより稀釈することは有利である。
例えば、不活性ガスとしては水蒸気、空気、特に窒素が
該当する。
一般に、ケトン(■)1モルに対して合計して約20モ
ルを越えない不活性ガスを適用することは有利である。
ケトン(1)1モルに対して不活性ガス約0.5〜10
モル、特に1〜5モルを使うと優れている。
触媒としては、脱水−及び脱水素作用を有する物質が該
当する。
これは、例えば゛ハイドロカーボ7−ブロセスイング(
HydrocarbonP rocessing )
”、47巻、103〜107頁(1968年)に記載さ
れている、場合により他の金属酸化物及び弗化物の添加
物を含有する酸化アルミニラ11及び珪酸アルミニウム
のようなアルミニウム化合物をベースとする触媒である
西ドイツ国特許第215141.7号明細書、同第22
24160号明細書(−特公昭57 241、74号公報)及び同第2239801号明細書
(−特開昭49−53583号公報)による方法で製造
した触媒を使用すると有利である。
これは温度550〜1200℃で前処理した元素AI、
F及びOからの化合物であり、これは付加的に周期律表
の第2、第3又は第4族の元素少なくとも1種或いは周
期律表の第2、第4、第5又は第6族の元素少なくとも
2種或いは周期律表の第2主族の元素少なくとも1種を
含有する。
これらの触媒を固定床又は殊に流動床で使用する。
西ドイツ国特許公開明細書第2449340号による方
法は特に有利であり、その際にケトン(I)とオキソ化
合物(II)をアンモニアとは別個に反応器中に装入す
る。
一般に、滞留時間約0.2〜5.0秒間が有利である。
反応で生じるガス混合物の後処理は、常法でガスを液体
、特に水又はメタノールで洗浄しかつ抽出−及び蒸留手
段により更に分離することにより行なう。
西ドイツ国特許公開明細書第2554946号による方
法を適用すると特に有利であり、その際にガス混合物を
洗浄せずに冷却して、部分的に凝縮させ、場合により生
じ得る過剰分のアンモニアは残留ガス中に残留1〜かつ
これを直接循環系に案内する。
例1 添付図面の略示図に相応する西ドイツ国特許公開明細書
第24−49340号による装置を使用した。
反応器10及び再生装置20は巾70mmの管から成り
、これは下部に高さ200mmの自由室12.22を有
し、その上に11,21各々507nr/lの間隔でメ
ツシュ巾5間の網材40個を備えておりかつ上部に高さ
600mm及び巾160mmまでの自由室13,23を
有していた。
反応器10に下部14から毎時窒素15001(標準)
及びアンモニア18821(標準)カラ成るガス混合物
をガス状で均一流で供給した。
蒸発器中で毎時アクロレイン157M’及び窒素325
1(標準)からのガス混合物を調製し、他の蒸発器中で
ジベンジルケトン294M’及び窒素325.g(標準
)からのガス混合物を調製した。
これらのガスを一緒にして温度350’Cで側部15か
ら流動床中に(つまり反応器の底部の上方1.30m折
)流入した。
反応器は、丙ドイツ国特許第2224160号明細書(
−特公昭57−24474号公報)により酸化アルミニ
ウム、硝酸マグネシウム及び四弗化チタンから製造しか
つアルミニウム:マグネシウム:チタン:弗素の原子割
合] 000 : 25 :25 : 100を有する
触媒2.0 kgを含有していた。
触媒は粒径0.4〜1.、Ommを有していた。
反応器中の温度を440℃に保持した。
反応混合物16を温度350℃でガス洗浄装置中に導入
し、その中でメタノールにより2−ベンジル−3−フェ
ニルピリジン及びそれと共に発生するピリジン及び3メ
チルピリジンを十分に洗浄した。
残りのアンモニア及び窒素からの残留ガスを循環系で反
応器中に返流した。
再生装置20は触媒2.0 kgを含有していた。
再生装置中に毎時空気30001(標準)を下部から導
入した。
再生装置中の温度を440℃に保持した。
連続流で毎時触媒1.4kgを反応器から再生装置中に
供給しかつ同様に1.4kgを再生装置がら反応器中に
返流した。
ジベンジルケトン−変換率は100%であった。
毎時2−ベンジル−3−フェニルピリジン26751、
ピリジン891及び3−メチルピリジン365グが得ら
れた。
これは、使用したジベンジルケトンニ対して2−ベンジ
ル−3−フェニルピリジンの収率78%、並びに使用し
たアクロレインに対してピリジン8%及び3−メチルピ
リジン28%ニ相当シタ。
2−ベンジル−3−フェニルピリジンは沸点146〜1
50℃(1ミリバール)を有していた。
使用した触媒は次のように製造した: 直径2間及び長さ4〜6間で表面積BET300rn:
/?を有するロープ状プレス加工物形の酸化アルミニウ
ム1300?に、水10007nl及び濃硝酸30m1
中の分析用純度の硝酸マグネシウム6水化物(Mg(N
O3)2・6H20)160y′(0,62モル)の溶
液を加えた。
この混合物を引き続いて、8時間100’Cに保持する
ことにより乾燥した。
この乾燥物質を、水900mA中の弗化チタン尚TiF
477.5 ? (0,62−Eル) (7)溶液ト共
に一11拌した。
この混合物を、12時間100°Cに保持することによ
り乾燥した。
この乾燥物質を引き続き、空気気流中で4時間700°
Cに加熱した。
例2 容量100m1の固定床反応器に、西ドイツ国特許第2
224160号明細書(−特公昭5724174号公報
)により酸化アルミニウム、硝酸マグネシウム及び四弗
化チタンから製造しかつ原子割合アルミニウム:マグネ
シウム:チタン:弗素−1000:25:25:100
を有する触媒を充填した(製法は例J参照)。
この触媒上に毎時ジベンジルケトン92?(0,44モ
ル)、アクロレイン62P(1,1モル)、アンモニア
691(標準3.08モル)及び窒素391(標準)か
らのガス混合物を導入した。
反応器中の温度は440℃に保持した。
ジベンジルケトンとアクロレインを完全に反応させた。
毎時2−ベンジル3−フェニルピリジン83グが得られ
た。
これは使用したジベンジルケトンに対して収率77%に
相当した。
生成物は沸点146〜150℃(1ミリバール)を有し
ていた。
副生成物として、使用したアクロレインに対してピリジ
ン9%及び3メチルピリジン29%が生じた。
以下例2と同様にして行なった。
例3 出発物質 ベンジルフェニルケトン、アクロレイン及
ヒアンモニア;モル比1:2.3:6例2と同じ 420°C ベンジルフェニルケトン100% 2・3−ジフェニルピリジン、沸点 145〜147℃(2ミリバール) 使用したベンジルフェニルケトンに対 して62% 使用したアクロレインに対してピリジ ン13%及び3−メチルピリジン28% 例4 出発物質 ジベンジルケトン、クロトンアルデヒド及び
アンモニア;モル比1:3:8 触 媒 例2と同じ 反応温度 400℃ 変換率 ジベンジルケト7100% 生成物 2−ベンジル−3−フェニル−4−メチルピリ
ジン、沸点155〜157℃ (2ミリバール) 収 率 使用したジベンジルケI・ンに対して55% 例5 出発物質 ベンジルフェニルケトン、クロトンアルデヒ
ド及ヒアンモニア:モル比1: 2.7:7 触 媒 例2と同じ 反応温度 4. O0℃ 変換率ベンジルフェニルケトン]、 00%率 触 媒 反応温度 変換率 生成物 副生成物 収 生成物 収 率 2・3−ジフェニル−4−メチルピリ ジン、沸点1.50〜152℃(2ミリ バール) 使用したベンジルフェニルケトンに対 して46% 例6 出発物質 ジベンジルケI・ン、メチルビニルケトン及
びアンモニア;モル比1:2:6 触 媒 例2と同じ 反応温度 4100C 変換率 ジベンジルケトン100% 生成物 2−ベンジル−3−フェニル−6−メチルピリ
ジン、沸点154〜156℃ (2ミリバール) 収 率 使用したジベンジルケトンに対して52% 例7 出発物質 ベンジルフェニルケトン、メチルビニニルケ
トン及ヒアンモニア;モル比1: 2.3:6.5 触 媒 例2と同じ 反応温度 420°C 変換率ベンジルフェニルケトン]、 O0%生成物 2
・3−ジフェニル−6−メチルピリジン、沸点148〜
150°C(2ミリ バール) 収 率 使用したベンジルフェニルケトンに対して4
8% 例8 出発物質 ベンジル−2−ピリジルケ)・ン、アクロレ
イン及びアンモニア;モル比1: 3:8 触 媒 例2と同じ 反応温度 410℃ 変換率 ベンジル−2−ピリジルケトン100% 生成物 2−(2’−ピリジル)−3−フェニルピリジ
ン、沸点154〜156℃(2 ミリバール) 収 率 使用したベンジル−2−ピリジルケトンに対
して34% 副生成物 使用したアクロレインに対してピリジン15
%及び3−メチルピリジン24 % 例9 出発物質 ジベンジルケトン、アクロレイン及びアンモ
ニア:モル比1.0 : 2.5 : 7.0触 媒
西ドイツ国特許第21514.17号明細書により酸
化アルミニウム、硝酸マ グネシウム及びフルオロ珪酸から、原 子割合アルミニウム:マグネシウム: 珪素:弗素−1000:24:25: 56 反応温度 440°C 変換率 ジベンジルケトン100% 生成物 2−ベンジル−3−フェニルピリジン、沸点1
46〜150°c(1ミリバール)収 率 使用した
ジベンジルケトンに対して72% 副生成物 使用したアクロレインに対してピリジン12
%及び3−メチルビリジン31% 使用した触媒は次のように製造した: 直径2關及び長さ4〜6關で比表面積(BET)300
m、”/ ’ifの押出成形品の形をした酸化アルミ
ニウム1301’を、水1−1−0O0及び濃硝酸30
m1に溶けた分析純度の硝酸マグネシウム−6水利物1
61rの溶液と加熱下に、全液体が吸収されるまで攪拌
した。
物質を乾燥のため12時間に渡って100℃に保った。
次いでこれに水4−00 m、l中の34%弗化珪素2
1ornlの溶液を加え、乾燥のため8時間に渡って1
00°Cに加熱し、次いで4時間に渡って空気流中で7
50℃に保った。
例10 出発物質 ジベンジルケトン、アクロレイン及びアンモ
ニア;モル比1.0 : 2.5 : 7.0触 媒
丙ドイツ国特許第2239801号明細書(−特開昭
49−53583号公 報)により酸化アルミニウム、硝酸マ グネシウム及び弗化水素アンモニラl、 から、原子割合アルミニウム:マグネ シウム:弗素−1000: 25 : 50反反応度
440°C 変換率 ジベンジルケトン100% 生成物 2−ベンジル−3−フェニルピリジン、沸点1
46〜150°c(1ミリノく−ル)収 率 使用し
たベンジルケトンに対1〜て74% 副生成物 使用したアクロレインに対してピリジン10
%及び3−メチルピリジン27 % 使用した触媒は次のように製造した: 直径2關、長さ4〜6 mm、表面積3oo=/y(B
ET)の押出し成形体の形の酸化アルミニウム1、30
09に、水1.000m1及び濃硝酸3oml中の分析
用純度の硝酸マグネシウム−6−水和物Mg (NO3
)2・6H201,60グ(0,62モル)の溶液を加
えた。
この混合物を引き続き、8時間100°Cに保持して乾
燥した。
得られる乾燥物を水1000rnl中の弗化水素アンモ
ニウム35.6P(0,62モル)の溶液とともに攪拌
した。
この混合物を、12時間]00°Cに保持して乾燥した
この乾燥物質を引き続き空気気流中で4時間700℃に
加熱した。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明方法を実施する際に使用する装置の1
実施例を示す略示図である。 10・・・・・・反応器、20・・・・・・再生装置、
11゜21・・・・・・網材、12,13,22,23
・・・・・・自由室。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 12−及び3一位で芳香族−又はへテロ芳香族置換され
    ているピリジンを製造するに当り、ケト基に隣接して反
    応性メチレン基少なくとも1個を有する芳香族−又はヘ
    テロ芳香族置換されているケトンを、オキソ基に隣接し
    て不飽和炭素結合を有する脂肪族オキソ化合物と、気相
    中アンモニア並びに脱水−及び脱水素作用触媒の存在で
    温度約250〜5500Gで反応させることを特徴とす
    る置換ピリジンの製法。 2 反応を温度300〜500℃、特に350〜450
    °Gで行なう特許請求の範囲第1項記載の製法。 3 触媒として珪酸アルミニウムを使用する特許請求の
    範囲第1項又は第2項に記載の製法。 4 触媒として、550〜1200℃で前処理した、元
    素AI、F及びOから成る、付加的に周期律表の第2、
    第3又は第4族の元素少なくとも1種を含有する化合物
    を使用する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の製法
    。 5 触媒として、温度550〜1200°Cで前処理し
    た、元素Al、F及びOから成る、付加的に周期律表の
    第2、第4、第5又は第6族の元素少なくとも2種を含
    有する化合物を使用する特許請求の範囲第1項又は第2
    項記載の製法。 6 触媒として、温度550〜1200℃で前処理した
    AI、F及びOから成る、付加的に周期律表の第2主族
    の元素少なくとも1種を含有する化合物を使用する特許
    請求の範囲第1項又は第2項記載の製法。 7 ケトン(I) 1モル当りオキソ化合物(II)1
    〜5モルを使用する特許請求の範囲第1項〜第6項のい
    ずれか1つに記載の製法。 8 ケトン(I) 1モル当りアンモニア1〜20モル
    が存在する特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれか1
    つに記載の製法。 9 不活性ガスを供給する特許請求の範囲第1項〜第8
    項のいずれか1つに記載の製法。 10 反応を流動層中で行ないかつケトン(I)及び
    脂肪族オキソ化合物(l])をアンモニアとは別個に装
    入する特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1つに
    記載の製法。
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