JPS5827721A - ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法 - Google Patents
ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法Info
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- JPS5827721A JPS5827721A JP12544281A JP12544281A JPS5827721A JP S5827721 A JPS5827721 A JP S5827721A JP 12544281 A JP12544281 A JP 12544281A JP 12544281 A JP12544281 A JP 12544281A JP S5827721 A JPS5827721 A JP S5827721A
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- diaminosiloxane
- diamine
- silicone
- polyimide
- dianhydride
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミ
ドシリコン共重合体樹脂の製造法に関するものである。
ドシリコン共重合体樹脂の製造法に関するものである。
その目的とするところは。
特に耐接着性、耐摩耗性、耐熱性に優れており。
電気絶縁材料、各種成形材料、被覆材料、含浸材料など
として有用なる樹脂及びその中間体を提供するところに
ある。
として有用なる樹脂及びその中間体を提供するところに
ある。
従来、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応さ
せて得られるポリイミド樹脂は、耐熱性のすぐれた樹脂
として、電気絶縁材料などに用いられている。ところが
、これは、基板との接着性が悪く、特にガラス基板など
との接着性は、はなはだ悪く、これらを改良するために
。
せて得られるポリイミド樹脂は、耐熱性のすぐれた樹脂
として、電気絶縁材料などに用いられている。ところが
、これは、基板との接着性が悪く、特にガラス基板など
との接着性は、はなはだ悪く、これらを改良するために
。
ある種のカップリング剤などが添加されて用いられその
利用範囲は大きく限定されている。
利用範囲は大きく限定されている。
本発明者らは、上述の欠点を除去すべく鋭意検討を重ね
た結果9本発明に至った。
た結果9本発明に至った。
本発明は、ジアミン、ジアミノシロキサンおよびテトラ
カルボン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジアミン
およびジアミノシロキサンの総量に対して0.1〜20
モルチとして反応させるポリアミド酸シリコン型中間体
の製造法ならびにジアミン、ジアミノシロキサンおよび
テトラカルボン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジ
アミ/およびジアミノシロキサンの総量に対して0.1
〜20モルチとして反応させてポリアミド酸シリコン型
中間体とし、ついで該中間体を脱水閉環させるポリイミ
ドシリコン共重合体樹脂の製造法に関する。
カルボン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジアミン
およびジアミノシロキサンの総量に対して0.1〜20
モルチとして反応させるポリアミド酸シリコン型中間体
の製造法ならびにジアミン、ジアミノシロキサンおよび
テトラカルボン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジ
アミ/およびジアミノシロキサンの総量に対して0.1
〜20モルチとして反応させてポリアミド酸シリコン型
中間体とし、ついで該中間体を脱水閉環させるポリイミ
ドシリコン共重合体樹脂の製造法に関する。
本発明において、ジアミン、ジアミノシロキサンおよび
テトラカルボン酸二無水物は、ジアミンおよびシア2ノ
シロキサ/をテトラカルボン酸二無水物とほぼ等モルと
して反応される。
テトラカルボン酸二無水物は、ジアミンおよびシア2ノ
シロキサ/をテトラカルボン酸二無水物とほぼ等モルと
して反応される。
本発明で用いられるジアミノシロキサンは例えば、一般
式 (Rは二価の炭化水素基、ホは一価の炭化水素基であり
R,Rはそれぞれ同一でも異なってもよ<+mは1以上
の整数である)で表わされる化合物である。Rは好まし
くは炭素数1〜5のアルキレン基、フェニレン基、アル
キル置換フェニレン基であり、R′は好ましくは炭素数
1〜5のアルキル基、フェニル基、アルキル置換フェニ
ル基である。例えば CH,CH5 1 CH8CH。
式 (Rは二価の炭化水素基、ホは一価の炭化水素基であり
R,Rはそれぞれ同一でも異なってもよ<+mは1以上
の整数である)で表わされる化合物である。Rは好まし
くは炭素数1〜5のアルキレン基、フェニレン基、アル
キル置換フェニレン基であり、R′は好ましくは炭素数
1〜5のアルキル基、フェニル基、アルキル置換フェニ
ル基である。例えば CH,CH5 1 CH8CH。
CH3CH3
C6H5CnH2
1
C6H!l C6H3
CH,CH。
CH3CH3
1
C6H,C,H。
CH,cHs CH3
などの化合物があげられる。これらのジアミノシロキサ
ンは1種または2種以上用いることができる。
ンは1種または2種以上用いることができる。
ジアミノシロキサンは1例えば米国特許第a185,7
19号明細書に示される方法によって合成される。
19号明細書に示される方法によって合成される。
ジアミノシロキサンは、ジアミンおよヒシアi /’y
a+サンの総量に対して0.1〜20−1:ルチとして
用いられる。20モルチを越えて用いることは9分子量
の低下及び耐熱性の低下の原因となり好ましくはない。
a+サンの総量に対して0.1〜20−1:ルチとして
用いられる。20モルチを越えて用いることは9分子量
の低下及び耐熱性の低下の原因となり好ましくはない。
また0、 1モルチ未満では、接着性などの特性が低下
するため好ましくない。接着性、耐熱性、生成化合物の
分子量の点からジアミノシロキサンはジアミンおよびジ
アミノシロキサンの総量に対して0.2〜10モルチが
好ましい。また、ジアミンとしては。
するため好ましくない。接着性、耐熱性、生成化合物の
分子量の点からジアミノシロキサンはジアミンおよびジ
アミノシロキサンの総量に対して0.2〜10モルチが
好ましい。また、ジアミンとしては。
特に制限はなく1例えば9m−フェニレンジアミン、p
−フェニレンジアミン、4.4’−ジアミノジフェニル
プロパン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン(以後
は「メチレンジアニIJ7Jと呼))、ベンジジン、4
4′−ジアミノジフェニルスルフィ)”、 4.4’−
ジアミノジフェニルスルホン、44−ジアミノジフェニ
ルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン、λ3′−ジ
メチルベンジジン、3.3’−ジメトキシベンジジン、
2.4−ビス(β−アミノ−1−ブチル)トルエン、ビ
ス(p−β−アミノ−1−ブチルフェニル)エーテル、
ビス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン
、1.3−ジアミノ−4−イングロビルベンゼン、L2
−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレ
ンジアミン、p−キシリレンジアミン、ビス(4−アミ
ノンクロヘキシル)メ、タン、デカメチレンジアミン。
−フェニレンジアミン、4.4’−ジアミノジフェニル
プロパン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン(以後
は「メチレンジアニIJ7Jと呼))、ベンジジン、4
4′−ジアミノジフェニルスルフィ)”、 4.4’−
ジアミノジフェニルスルホン、44−ジアミノジフェニ
ルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン、λ3′−ジ
メチルベンジジン、3.3’−ジメトキシベンジジン、
2.4−ビス(β−アミノ−1−ブチル)トルエン、ビ
ス(p−β−アミノ−1−ブチルフェニル)エーテル、
ビス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン
、1.3−ジアミノ−4−イングロビルベンゼン、L2
−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレ
ンジアミン、p−キシリレンジアミン、ビス(4−アミ
ノンクロヘキシル)メ、タン、デカメチレンジアミン。
3−メチルへブタメチレンジアミン、4.4−ジメチル
へブタメチレンジアミン、λ11−ドデカンジアミン、
ス2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミ7.2.5
−ジメチルへキサメチレンジアミン、2.5−ジメチル
へブタメチレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジ
アミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1.4−シ
クロヘキサンジアミン、1.12−オクタデカンジアミ
ン、ビス(3−アミノプロピル)スルフィド、N−メチ
ル−ビス(3−アミノプロピル)アミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミンなどが用いられ、これらは1種または2種以上で
用いられる。テトラカルボン酸二環水物4%に制限はな
く9例えばピロメリット酸二環水物。
へブタメチレンジアミン、λ11−ドデカンジアミン、
ス2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミ7.2.5
−ジメチルへキサメチレンジアミン、2.5−ジメチル
へブタメチレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジ
アミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1.4−シ
クロヘキサンジアミン、1.12−オクタデカンジアミ
ン、ビス(3−アミノプロピル)スルフィド、N−メチ
ル−ビス(3−アミノプロピル)アミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミンなどが用いられ、これらは1種または2種以上で
用いられる。テトラカルボン酸二環水物4%に制限はな
く9例えばピロメリット酸二環水物。
3.3.44−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、
入λ4,4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二凛水物
、シクロベノタンテトラカルポン酸二無水物、1.λ5
.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、Z3.
5.6−ピリシンチトラカルホン酸二無水物、1.4,
5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4
,9,10−ヘリレンチトラカルボン酸二無水物あるい
は4.4′−スルホニルシフタル酸二無水物などが用い
られ。
入λ4,4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二凛水物
、シクロベノタンテトラカルポン酸二無水物、1.λ5
.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、Z3.
5.6−ピリシンチトラカルホン酸二無水物、1.4,
5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4
,9,10−ヘリレンチトラカルボン酸二無水物あるい
は4.4′−スルホニルシフタル酸二無水物などが用い
られ。
これらは1種又は2種以上で用いられる。
本発明においては不活性溶媒が使用される。
この溶媒は、前記3種の単量体化合物の総てを溶解する
必要はないが、特に好ましいものとしては生成するポリ
アミド酸シリコン型中間体を溶解する作用を有するもの
である。
必要はないが、特に好ましいものとしては生成するポリ
アミド酸シリコン型中間体を溶解する作用を有するもの
である。
不活性溶媒としては9例えばN−メチル−2−ピロリド
ン、N、N−ジメチルアセトアミド。
ン、N、N−ジメチルアセトアミド。
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチレンスルホンなどの1種又は2種
以上が用いられる。
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチレンスルホンなどの1種又は2種
以上が用いられる。
本発明においては、好ましくは、ジアミノシoji’サ
ン、ジアミン及びテトラカルボン酸二無水物とを前記不
活性溶媒にできるだけよくとかし、この反応系を好まし
くは約80℃以下特に室温付近ないしそれ以下の温度に
保ちながら攪拌する。これによって反応は速やかに進行
し。
ン、ジアミン及びテトラカルボン酸二無水物とを前記不
活性溶媒にできるだけよくとかし、この反応系を好まし
くは約80℃以下特に室温付近ないしそれ以下の温度に
保ちながら攪拌する。これによって反応は速やかに進行
し。
かつ反応系の粘度は次第に上昇し、ポリアミド酸シリコ
ン中間体が生成する。こうし彰得られたポリアミド酸シ
リコン中間体はフェスとして安定で商品として有用であ
り、ポリイミドシリコン共重合体樹脂を得るために使用
することができる。
ン中間体が生成する。こうし彰得られたポリアミド酸シ
リコン中間体はフェスとして安定で商品として有用であ
り、ポリイミドシリコン共重合体樹脂を得るために使用
することができる。
この中間体を100〜350℃の温度で好ましくは30
分〜5時間熱処理すると、脱水、閉環し、ポリイミドシ
リコン共重合体樹脂が得られる。
分〜5時間熱処理すると、脱水、閉環し、ポリイミドシ
リコン共重合体樹脂が得られる。
この脱水、閉環反応は、脱水剤として無水酢酸、リン酸
等を用いて行なってもよい。上記の中間体をガラス板等
上に流し塗りし乾燥してフィルムとし、脱水、閉環反応
を行なってもよい。
等を用いて行なってもよい。上記の中間体をガラス板等
上に流し塗りし乾燥してフィルムとし、脱水、閉環反応
を行なってもよい。
以ド1本発明の詳細な説明する。
実施例1
温度針、攪拌機および塩化カルシウム管を備えた500
CCの三つロフラスコに44−ジアミノジフェニルエー
テル18)、1.3ビス(アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサンZ48 FおよびN−メチル−2ピロリ
ドン300)を入れよく攪拌しておく。これに44′−
ベンゾフェノンテトラカルボ/酸二無水物3z2?を徐
々に加える。添加終了後さらに5時間攪拌を続けた。次
にこの反応液(生成したポリアミド酸シリコン型中間体
の溶液)の一部を採取し、水に投じて沈殿を生じさせ、
その還元粘度ηsp/cを測定したところ0.68dl
/?(溶媒ジメチルスルホキシド、1)度0.IP/1
00cc溶液、温度25℃)であった。
CCの三つロフラスコに44−ジアミノジフェニルエー
テル18)、1.3ビス(アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサンZ48 FおよびN−メチル−2ピロリ
ドン300)を入れよく攪拌しておく。これに44′−
ベンゾフェノンテトラカルボ/酸二無水物3z2?を徐
々に加える。添加終了後さらに5時間攪拌を続けた。次
にこの反応液(生成したポリアミド酸シリコン型中間体
の溶液)の一部を採取し、水に投じて沈殿を生じさせ、
その還元粘度ηsp/cを測定したところ0.68dl
/?(溶媒ジメチルスルホキシド、1)度0.IP/1
00cc溶液、温度25℃)であった。
ついで、前記反応液をガラス板上に塗布し、かつ乾燥し
てフィルムを作り、これを300℃の温度で2時間処理
するとポリイミドシリコン共重合体樹脂のフィルムが得
られた。
てフィルムを作り、これを300℃の温度で2時間処理
するとポリイミドシリコン共重合体樹脂のフィルムが得
られた。
このフィルムは、ガラス基板との接着性が良くはくりが
困難であった。また鉛筆硬度法で6Hまで傷がつかず、
優れた耐摩耗性を示した。
困難であった。また鉛筆硬度法で6Hまで傷がつかず、
優れた耐摩耗性を示した。
実施例2
実施例1と同様なフラスコに、1.3ビス(アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン3.7)。
ピル)テトラメチルジシロキサン3.7)。
4.4−ジアミノジフェニルメタン17.07およびN
、N−ジメチルホルムアミド280?を入れ。
、N−ジメチルホルムアミド280?を入れ。
よく攪拌しておく。これにピロメリット酸二無水物10
.9)、4.4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物16.1y−を徐々に加える。添加終了後さらに5
時間攪拌を続ける。次に反応液の一部ヲ採取し・ ηs
p/cを測定したところo、5oa15F(実施例1と
同一条件で測定)であった。
.9)、4.4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物16.1y−を徐々に加える。添加終了後さらに5
時間攪拌を続ける。次に反応液の一部ヲ採取し・ ηs
p/cを測定したところo、5oa15F(実施例1と
同一条件で測定)であった。
ついで前記反応液を用い、実施例1と同様にフィルムを
作り、かつこれを300℃の温度に2時間処理しポリイ
ミドシリコン共重合体樹脂のフィルムを得た。
作り、かつこれを300℃の温度に2時間処理しポリイ
ミドシリコン共重合体樹脂のフィルムを得た。
このフィルムは、実施例1で得たフィルムと同様すぐれ
た耐接着性、耐摩耗性を示した。このフィルムの一部を
空気中で熱したところ400℃まで重量減少を示さなか
った。
た耐接着性、耐摩耗性を示した。このフィルムの一部を
空気中で熱したところ400℃まで重量減少を示さなか
った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 ジアミン、ジアミノシロキサンおよびテトラカル
ボン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジアミンおよ
びジアミノシロキサンの総量に対して0.1〜20モル
条として反応させることを特徴とするポリアミド酸シリ
コン型中間体の製造法。 2 ジアミン、ジアミノシロキサンおよびテトラカルボ
ン酸二無水物を、ジアミノシロキサンをジアミンおよび
ジアミノシロキサンの総量に対して0.1〜20モル多
として反応させてポリアミド酸シリコン型中間体とし、
ついで該中間体を脱水閉環させることを特徴とするポリ
イミドシリコン共重合体樹脂の製造法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12544281A JPS5827721A (ja) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法 |
GB8210815A GB2101149A (en) | 1981-04-14 | 1982-04-14 | Process for producing polyamide acid silicon type intermediate and polyimide silicon copolymer resin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12544281A JPS5827721A (ja) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5827721A true JPS5827721A (ja) | 1983-02-18 |
Family
ID=14910185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12544281A Pending JPS5827721A (ja) | 1981-04-14 | 1981-08-10 | ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5827721A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60245150A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-04 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS60258228A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-20 | エム・アンド・テイ・ケミカルス・インコーポレイテツド | ポリイミド、ポリ(アミド‐イミド)、ポリ(エステルイミド)、ポリアミド酸ポリ(アミド‐アミド酸)またはポリ(エステルアミド酸)重合体 |
JPS6164730A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
JPS61118424A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-06-05 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | 可溶性シリコ−ン−イミドコポリマ− |
JPS61118425A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-06-05 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | ジグライム可溶性シロキサン−イミド共重合体の製造方法 |
JPS61195832A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | 日東電工株式会社 | ポリイミド−金属箔複合フイルム |
JPS61201432A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-09-06 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | シリコンベ−ス上にホツトメルト接着剤を有する集積回路シリコンダイ複合体の製造方法 |
JPS63205322A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリアミドイミドシリコン重合体の製造法 |
JPH03195730A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | シロキサン変性ポリイミド及びその前駆体 |
WO1993024583A1 (en) * | 1992-06-04 | 1993-12-09 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Film adhesive and production thereof |
KR100360709B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2003-01-24 | 제일모직주식회사 | 실록산폴리이미드전구체조성물및그제조방법 |
KR100366260B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2003-03-04 | 제일모직주식회사 | 절연보호막용 폴리이미드 조성물의 제조방법 |
-
1981
- 1981-08-10 JP JP12544281A patent/JPS5827721A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60245150A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-04 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPS60258228A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-20 | エム・アンド・テイ・ケミカルス・インコーポレイテツド | ポリイミド、ポリ(アミド‐イミド)、ポリ(エステルイミド)、ポリアミド酸ポリ(アミド‐アミド酸)またはポリ(エステルアミド酸)重合体 |
JPH0554490B2 (ja) * | 1984-09-06 | 1993-08-12 | Sumitomo Bakelite Co | |
JPS6164730A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
JPS61118424A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-06-05 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | 可溶性シリコ−ン−イミドコポリマ− |
JPS61118425A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-06-05 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | ジグライム可溶性シロキサン−イミド共重合体の製造方法 |
JPS61201432A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-09-06 | マイクロサイ,インコーポレイテッド | シリコンベ−ス上にホツトメルト接着剤を有する集積回路シリコンダイ複合体の製造方法 |
JPS61195832A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | 日東電工株式会社 | ポリイミド−金属箔複合フイルム |
JPS63205322A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-24 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリアミドイミドシリコン重合体の製造法 |
JPH03195730A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | シロキサン変性ポリイミド及びその前駆体 |
WO1993024583A1 (en) * | 1992-06-04 | 1993-12-09 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Film adhesive and production thereof |
US5739263A (en) * | 1992-06-04 | 1998-04-14 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Film adhesive and process for production thereof |
KR100366260B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2003-03-04 | 제일모직주식회사 | 절연보호막용 폴리이미드 조성물의 제조방법 |
KR100360709B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2003-01-24 | 제일모직주식회사 | 실록산폴리이미드전구체조성물및그제조방법 |
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