JPS63314241A - ポリアミド酸共重合体の製造方法 - Google Patents
ポリアミド酸共重合体の製造方法Info
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- JPS63314241A JPS63314241A JP14916487A JP14916487A JPS63314241A JP S63314241 A JPS63314241 A JP S63314241A JP 14916487 A JP14916487 A JP 14916487A JP 14916487 A JP14916487 A JP 14916487A JP S63314241 A JPS63314241 A JP S63314241A
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミド酸
の製造方法に係るものである。さらに詳しくは、極めて
優れた寸法安定性を有し、しかも従来公知のポリイミド
樹脂と同様に、優れた機械的緒特性を保持している新規
なポリイミド樹脂の前駆体となるポリアミド酸の製造方
法に係るものである。
の製造方法に係るものである。さらに詳しくは、極めて
優れた寸法安定性を有し、しかも従来公知のポリイミド
樹脂と同様に、優れた機械的緒特性を保持している新規
なポリイミド樹脂の前駆体となるポリアミド酸の製造方
法に係るものである。
(従来技術の説明2発明が解決しようとする問題点)
ポリイミド樹脂は高度の耐熱性、耐薬品性、電気的特性
、機械的特性、その他優れた諸特性を有していることが
知られており、特に耐熱性を有する電気絶縁フィルム、
電線被膜をはじめとして、各種用途に非常に有用であり
広く利用されている。
、機械的特性、その他優れた諸特性を有していることが
知られており、特に耐熱性を有する電気絶縁フィルム、
電線被膜をはじめとして、各種用途に非常に有用であり
広く利用されている。
しかしながら近年、より優れた寸法安定性を有し、しか
も伸度等の機械的特性に優れたポリイミド樹脂に対する
要求が高まりできており、この目的で種々の検討が行わ
れている。例えば、一般式(I)で表される反復単位か
らなるポリイミド膜は、伸度などの機械的特性に優れて
いるが、一般に線膨張係数及び湿度膨張係数が大きく、
寸法安定性が悪いことが知られている。一方、一般式(
n)の整数+ROは前記と同様であるコ で表される反復単位からなるポリイミド膜は、線膨張係
数及び湿度膨張係数が小さく寸法安定性に優れるものの
、非常に脆弱であり、フィルムとしての実用性に欠け、
実際に工業的に使用できないという欠点を有していた。
も伸度等の機械的特性に優れたポリイミド樹脂に対する
要求が高まりできており、この目的で種々の検討が行わ
れている。例えば、一般式(I)で表される反復単位か
らなるポリイミド膜は、伸度などの機械的特性に優れて
いるが、一般に線膨張係数及び湿度膨張係数が大きく、
寸法安定性が悪いことが知られている。一方、一般式(
n)の整数+ROは前記と同様であるコ で表される反復単位からなるポリイミド膜は、線膨張係
数及び湿度膨張係数が小さく寸法安定性に優れるものの
、非常に脆弱であり、フィルムとしての実用性に欠け、
実際に工業的に使用できないという欠点を有していた。
また一般式(りと一般式(II)の反復単位からなるラ
ンダム共重合ポリイミド膜等も必ずしも満足できる物性
を有していない。
ンダム共重合ポリイミド膜等も必ずしも満足できる物性
を有していない。
本発明者らは、より優れた寸法安定性を有し、しかもよ
り優れた機械的緒特性を兼ね備えた新規なポリイミド膜
を見いだすべく鋭意検討の結果本発明に到達した。
り優れた機械的緒特性を兼ね備えた新規なポリイミド膜
を見いだすべく鋭意検討の結果本発明に到達した。
(問題点を解決するための手段)
すなわち、本発明は有機溶媒中、全ジアミン成分に対し
て10〜90モル%の芳香族ジアミン成分(A)と、こ
のジアミン成分(A)に対して40〜99モル%の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を反応させアミド酸プレポ
リマーを得、次いでこのアミド酸プレポリマー溶液に全
ジアミン成分に対して90〜10モル%の芳香族ジアミ
ン成分(B)[成分(A)と成分(B)が4.4”−゛
ジアミノジフェニルエーテルとp−フェニレンジアミ
ンとの組合せになる場合を除く]を追加添加後、全ジア
ミン成分と実質的に等モルとなるように、不足分の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を添加反応することを特徴
とするポリアミド酸共重合体の製造方法である。このポ
リアミド酸の溶液を、流延又は塗布して膜状となしその
膜を乾燥すると共に該ポリアミド酸共重合体を、熱的あ
るいは化学的に脱水閉環(イミド化)すると、寸法安定
性と機械的性質を兼ね備えたポリイミド共重合体膜を得
ることができる。
て10〜90モル%の芳香族ジアミン成分(A)と、こ
のジアミン成分(A)に対して40〜99モル%の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を反応させアミド酸プレポ
リマーを得、次いでこのアミド酸プレポリマー溶液に全
ジアミン成分に対して90〜10モル%の芳香族ジアミ
ン成分(B)[成分(A)と成分(B)が4.4”−゛
ジアミノジフェニルエーテルとp−フェニレンジアミ
ンとの組合せになる場合を除く]を追加添加後、全ジア
ミン成分と実質的に等モルとなるように、不足分の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を添加反応することを特徴
とするポリアミド酸共重合体の製造方法である。このポ
リアミド酸の溶液を、流延又は塗布して膜状となしその
膜を乾燥すると共に該ポリアミド酸共重合体を、熱的あ
るいは化学的に脱水閉環(イミド化)すると、寸法安定
性と機械的性質を兼ね備えたポリイミド共重合体膜を得
ることができる。
本発明に用いる芳香族ジアミン成分(A)としては、4
.4”−ジアミノジフェニルエーテルやパラフェニレン
ジアミン、ジメチルベンジジン、ジメトキシベンジジン
、ジアミノパラテルフェニル等があげられる。芳香族ジ
アミン成分(B)としては同様なジアミンを用いること
ができるがジアミン成分(A)とジアミン成分(B)と
は異なっていることが必要である。
.4”−ジアミノジフェニルエーテルやパラフェニレン
ジアミン、ジメチルベンジジン、ジメトキシベンジジン
、ジアミノパラテルフェニル等があげられる。芳香族ジ
アミン成分(B)としては同様なジアミンを用いること
ができるがジアミン成分(A)とジアミン成分(B)と
は異なっていることが必要である。
本発明の効果を得るにより好ましい芳香族ジアミン成分
の組合せとしては、4.t”−ジアミノジフェニルエー
テルと次式。
の組合せとしては、4.t”−ジアミノジフェニルエー
テルと次式。
[式中、R,nは前記と同様である]
で示される芳香族ジアミンとの組合せをあげることがで
きる。
きる。
上記の式で示される芳香族ジアミンは2種以上を組合せ
て用いることも可能である。上記式中、Rは水素原子又
は−価の置換基であるが、置換基としてはハロゲン原子
、ニトロ基、水酸基あるいはメチル基、メトキシ基等の
一価の有機基をあげることができる。
て用いることも可能である。上記式中、Rは水素原子又
は−価の置換基であるが、置換基としてはハロゲン原子
、ニトロ基、水酸基あるいはメチル基、メトキシ基等の
一価の有機基をあげることができる。
本発明に用いる芳香族テトラカルボン酸無水物としては
ピロメリット酸無水物、3.3=、4゜4′−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、3゜3−.4.4=−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
1,2,5,6,−テトラカルボン酸二無水物などがあ
げられ、本発明においてはこれらを単独あるいは混合し
て用いることができる。
ピロメリット酸無水物、3.3=、4゜4′−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、3゜3−.4.4=−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
1,2,5,6,−テトラカルボン酸二無水物などがあ
げられ、本発明においてはこれらを単独あるいは混合し
て用いることができる。
本発明においては重合時の単量体の添加方法が重要であ
り、全ジアミン成分に対して10〜90モル%、好まし
くは15〜85モル%、更に好ましくは20〜80モル
%の芳香族ジアミン成分(A)と、この芳香族ジアミン
成分(A)に対して40〜99モル%の芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物とを反応させ、アミド酸ブリポリマー
を得る。次いでこのアミド酸プレポリマー溶液に、全ジ
アミン成分に対して90〜10モル%、好ましくは85
〜15モル%、更に好ましくは80〜20モル%の芳香
族ジアミン成分(B)を追加添加後、全ジアミン成分と
実質的に等モルとなるように、不足分の芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物を添加し、反応させて本発明のポリア
ミド酸共重合体を得る。
り、全ジアミン成分に対して10〜90モル%、好まし
くは15〜85モル%、更に好ましくは20〜80モル
%の芳香族ジアミン成分(A)と、この芳香族ジアミン
成分(A)に対して40〜99モル%の芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物とを反応させ、アミド酸ブリポリマー
を得る。次いでこのアミド酸プレポリマー溶液に、全ジ
アミン成分に対して90〜10モル%、好ましくは85
〜15モル%、更に好ましくは80〜20モル%の芳香
族ジアミン成分(B)を追加添加後、全ジアミン成分と
実質的に等モルとなるように、不足分の芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物を添加し、反応させて本発明のポリア
ミド酸共重合体を得る。
ポリアミド酸共重合体の生成反応に使用される有機溶媒
としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルス
ルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミドなどの
ホルムアミド系溶媒、N、N−ジメチルアセトアミド、
N、N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶
媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピ
ロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o +
、 m +、又はp−クレゾール、キシレノール、ハロ
ゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒
、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラ
クトンなどの有機極性溶媒を挙げることができる。これ
らは単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更に
はキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の添加も
可能である。
としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルス
ルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミドなどの
ホルムアミド系溶媒、N、N−ジメチルアセトアミド、
N、N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶
媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピ
ロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o +
、 m +、又はp−クレゾール、キシレノール、ハロ
ゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒
、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラ
クトンなどの有機極性溶媒を挙げることができる。これ
らは単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更に
はキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の添加も
可能である。
また、このポリアミド酸共重合体は、前記の有機溶媒中
に5〜40重量%、好ましくは5〜30重量%、更に好
ましくは5〜2Sffi量%溶解されているのが取り扱
いの面からも望ましい。
に5〜40重量%、好ましくは5〜30重量%、更に好
ましくは5〜2Sffi量%溶解されているのが取り扱
いの面からも望ましい。
反応温度は0〜100℃、好ましくは5〜80℃、更に
好ましくは5〜50℃の温度範囲である。
好ましくは5〜50℃の温度範囲である。
かくして得られたポリアミド酸共重合体溶液からポリイ
ミドを得ることができるがこの製造方法としては一般に
公知の二つの方法が可能である。
ミドを得ることができるがこの製造方法としては一般に
公知の二つの方法が可能である。
即ち、
(イ)熱的に脱水閉環(イミド化)する方法(ロ)化学
的に脱水閉環(イミド化)する方法がある。
的に脱水閉環(イミド化)する方法がある。
詳しく説明すると、(イ)は例えばポリアミド酸溶液を
加熱ドラム或はエンドレスベルト上に流延し乾燥した後
、自己支持性の膜を得る。これをドラム或はエンドレス
ベルト上がら引き剥し、両端を固定し、更に約450〜
500’Cの温度に徐々に加温し、乾燥イミド化し、ポ
リイミド膜を得る方法である。
加熱ドラム或はエンドレスベルト上に流延し乾燥した後
、自己支持性の膜を得る。これをドラム或はエンドレス
ベルト上がら引き剥し、両端を固定し、更に約450〜
500’Cの温度に徐々に加温し、乾燥イミド化し、ポ
リイミド膜を得る方法である。
(ロ)では例えばポリアミド酸溶液に無水酢酸などの脱
水剤及びピリジン、ピリコン類、キノリン類などの三級
アミン類を混合後、(イ)と同様にしてポリイミド膜が
得られる。
水剤及びピリジン、ピリコン類、キノリン類などの三級
アミン類を混合後、(イ)と同様にしてポリイミド膜が
得られる。
このようにして得られるポリイミド共重合体は、極めて
優れた寸法安定性を有し、しがち従来公知のポリイミド
樹脂と同様に、伸度などの機械的特性に優れている。例
えば、一般式(I)や(n)の反復単位を有するポリイ
ミドやコポリイミドよりも優れた寸法安定性と機械的強
度を有しているのである。
優れた寸法安定性を有し、しがち従来公知のポリイミド
樹脂と同様に、伸度などの機械的特性に優れている。例
えば、一般式(I)や(n)の反復単位を有するポリイ
ミドやコポリイミドよりも優れた寸法安定性と機械的強
度を有しているのである。
(実施例)
実施例中、ODAは4,4′−ジアミノジフェニルエー
テル、o−TLDはジメチルベンジジン、PMDAは無
水ピロメリット酸を示す。
テル、o−TLDはジメチルベンジジン、PMDAは無
水ピロメリット酸を示す。
伸度は、JIS K−7113に準拠した方法で測定
した。線膨張係数は、熱機械分析装置[TMA−10,
セイコー電子株式会社製]を用い、10℃/分の条件で
測定し、200℃の値で表した。湿度膨張係数は、熱機
械分析装置[TMA−30,8津製作所製]を用い、5
0℃の温度条件で相対湿度を20%〜80%まで変化さ
せて測定し、相対湿度20%〜80%の間の平均値で表
した。
した。線膨張係数は、熱機械分析装置[TMA−10,
セイコー電子株式会社製]を用い、10℃/分の条件で
測定し、200℃の値で表した。湿度膨張係数は、熱機
械分析装置[TMA−30,8津製作所製]を用い、5
0℃の温度条件で相対湿度を20%〜80%まで変化さ
せて測定し、相対湿度20%〜80%の間の平均値で表
した。
比較例1
500mj’四ツロフラスコにOD A 21.549
を採取し、245.00gのN、N−ジメチルアセトア
ミドを加え溶解した。他方、100LI’ナスフラスコ
にP M D A 23.489を採取し、前記ODA
溶液中に固形状で添加した。さらに、この100m1!
ナスフラスコ中の壁面に付着残存するPMDAを10.
009のN、N−ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ
目フラスコ)内へ流し入れた。更に引き続き1時間撹拌
を続け、15重量%のポリアミド酸溶液(I)を得た。
を採取し、245.00gのN、N−ジメチルアセトア
ミドを加え溶解した。他方、100LI’ナスフラスコ
にP M D A 23.489を採取し、前記ODA
溶液中に固形状で添加した。さらに、この100m1!
ナスフラスコ中の壁面に付着残存するPMDAを10.
009のN、N−ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ
目フラスコ)内へ流し入れた。更に引き続き1時間撹拌
を続け、15重量%のポリアミド酸溶液(I)を得た。
一方、500rlI!四ツロフラスコにo −T L
D22.209を採取し、245.009のN、N−ジ
メチルアセトアミドを加え溶解し、前記と同様の方法に
従い22.80 gのPMDAを反応させ15重量%の
ポリアミド酸溶液(If)を得た。但し、最終の壁面に
付着残存するPMDAは10.00 ’JのN、N−ジ
メチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流
し入れた。いずれの場合も反応温度は5〜10℃に保ち
、また以上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内は
乾燥窒素気流下に置いた。
D22.209を採取し、245.009のN、N−ジ
メチルアセトアミドを加え溶解し、前記と同様の方法に
従い22.80 gのPMDAを反応させ15重量%の
ポリアミド酸溶液(If)を得た。但し、最終の壁面に
付着残存するPMDAは10.00 ’JのN、N−ジ
メチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流
し入れた。いずれの場合も反応温度は5〜10℃に保ち
、また以上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内は
乾燥窒素気流下に置いた。
次に別途に、前記の方法により得られたポリアミド酸溶
液(1)98.589を500m+?四ツロフラスコに
採取し、更にポリアミド酸溶液(II)101.429
を混入し、乾燥窒素気流下5〜10℃で約10分間撹拌
した。
液(1)98.589を500m+?四ツロフラスコに
採取し、更にポリアミド酸溶液(II)101.429
を混入し、乾燥窒素気流下5〜10℃で約10分間撹拌
した。
得られたポリアミド酸混合溶液をガラス板状に流延塗布
し約100℃にて約60分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜
をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、その
倹約100℃で約30分間、約200℃で約60分間、
約300℃で約60分間加熱し、脱水閉環乾燥後15〜
25ミクロンのポリイミド膜を得た。これらのフィルム
は以下の性質を示した。
し約100℃にて約60分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜
をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、その
倹約100℃で約30分間、約200℃で約60分間、
約300℃で約60分間加熱し、脱水閉環乾燥後15〜
25ミクロンのポリイミド膜を得た。これらのフィルム
は以下の性質を示した。
線膨張係数(at200℃)
0.6X10″5(C111701117℃)湿度膨張
係数(at50℃) 1.0 x 10’ (cm/cm/ RH%)伸度
lO% 比較例2 50011i四ツロフラスコにOD A 10.82
gと0−TLD 11.28gを採取し、245.0
0gのN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。
係数(at50℃) 1.0 x 10’ (cm/cm/ RH%)伸度
lO% 比較例2 50011i四ツロフラスコにOD A 10.82
gと0−TLD 11.28gを採取し、245.0
0gのN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。
他方、100gナスフラスコにP M D A 23.
12 gを採取し、前記ジアミン混合溶液中に固形状で
添加した@さらに、この100gナスフラスコ中の壁面
に付着残存するPMDAを10.009のN、N−ジメ
チルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し
入れた。更に引き続き1時間撹拌を続け、コポリアミド
酸溶液を得た。反応温度は5〜10℃に保った。但し以
上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素
気流下に置いた。
12 gを採取し、前記ジアミン混合溶液中に固形状で
添加した@さらに、この100gナスフラスコ中の壁面
に付着残存するPMDAを10.009のN、N−ジメ
チルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し
入れた。更に引き続き1時間撹拌を続け、コポリアミド
酸溶液を得た。反応温度は5〜10℃に保った。但し以
上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素
気流下に置いた。
次に比較例1の方法に従い、このコポリアミド酸溶液よ
りコポリイミド膜を得た。このフィルムは以下の性質を
示した。
りコポリイミド膜を得た。このフィルムは以下の性質を
示した。
線膨張係数(at200℃)
0.7 X 10’ (cm / cm / ℃)湿
度膨張係数(at50℃) 1、OXIO’ (cm/cm/RH%)伸度
8 % 実施例1 500TILl四ツロフラスコに芳香族ジアミン成分(
A)としてOD A 10.Ei29を採取し、255
.009のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解し
た。
度膨張係数(at50℃) 1、OXIO’ (cm/cm/RH%)伸度
8 % 実施例1 500TILl四ツロフラスコに芳香族ジアミン成分(
A)としてOD A 10.Ei29を採取し、255
.009のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解し
た。
他方、1001111’ナスフラスコにP M D A
10.40 gを採取し、前記ODA溶液中に固形状
で添加し、そのまま1時間撹拌を続はアミド酸プレポリ
マー溶液を得た。次いで、50がナスフラスコに芳香族
ジアミン成分(B)としてo −T L D 11.
26gを採取し、このアミド酸プレポリマー溶液に固形
状で添加し、添加した。−TLDが完全に溶解するまで
十分に撹拌した後、別途に10011I!ナスフラスコ
に不足分のP M D A 12.729を採取し、反
応系(四ツロフラスコ)内へ固形状で添加した。
10.40 gを採取し、前記ODA溶液中に固形状
で添加し、そのまま1時間撹拌を続はアミド酸プレポリ
マー溶液を得た。次いで、50がナスフラスコに芳香族
ジアミン成分(B)としてo −T L D 11.
26gを採取し、このアミド酸プレポリマー溶液に固形
状で添加し、添加した。−TLDが完全に溶解するまで
十分に撹拌した後、別途に10011I!ナスフラスコ
に不足分のP M D A 12.729を採取し、反
応系(四ツロフラスコ)内へ固形状で添加した。
引き続き1時間撹拌を続はコポリアミド酸溶液を得た。
反応温度は5〜10℃に保った。但し、以上の操作でP
MDAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置い
た。
MDAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置い
た。
得られたコポリアミド酸混合溶液をガラス板状に流延塗
布し約100℃にて約60分間乾燥後、コポリアミド酸
塗膜をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、
その後約150℃で約30分間、約300℃で約60分
間加熱し、脱水閉環乾燥後15〜25ミクロンのポリイ
ミド膜を得た。
布し約100℃にて約60分間乾燥後、コポリアミド酸
塗膜をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、
その後約150℃で約30分間、約300℃で約60分
間加熱し、脱水閉環乾燥後15〜25ミクロンのポリイ
ミド膜を得た。
このフィルムは以下の性質を示した。
線膨張係数(at 200℃)
0.3 xlO−5(cm/a/’C)湿度膨張係数(
at50℃) 0.5 X 10’ (cm / cm / RH%
)伸度 35 % 実施例2 500d四ツロフラスコに芳香族ジアミン成分(A)と
してo−TLDll、26gを採取し、255.00g
のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。他方
、100I!LiナスフラスコにP M D A 10
.409を採取し、前記o−TLD溶液中に固形状で添
加し、そのまま1時間撹拌を続はアミド酸プレポリマー
溶液を得た。次いで、50gナスフラスコに芳香族ジア
ミン成分(B)としてOD A 10.82 gを採取
し、このアミド酸プレポリマー溶液に固形状で添加し、
添加したODAが完全に溶解するまで十分に撹拌した後
、別途に1001ナスフラスコに不足分のP M D
A 12.729を採取し、反応系(四ツロフラスコ)
内へ固形状で添加した。引き続き1時間撹拌を続はコポ
リアミド酸溶液を得た。反応温度は5〜10℃に保った
。但し、以上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内
は乾燥窒素気流下に置いた。
at50℃) 0.5 X 10’ (cm / cm / RH%
)伸度 35 % 実施例2 500d四ツロフラスコに芳香族ジアミン成分(A)と
してo−TLDll、26gを採取し、255.00g
のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。他方
、100I!LiナスフラスコにP M D A 10
.409を採取し、前記o−TLD溶液中に固形状で添
加し、そのまま1時間撹拌を続はアミド酸プレポリマー
溶液を得た。次いで、50gナスフラスコに芳香族ジア
ミン成分(B)としてOD A 10.82 gを採取
し、このアミド酸プレポリマー溶液に固形状で添加し、
添加したODAが完全に溶解するまで十分に撹拌した後
、別途に1001ナスフラスコに不足分のP M D
A 12.729を採取し、反応系(四ツロフラスコ)
内へ固形状で添加した。引き続き1時間撹拌を続はコポ
リアミド酸溶液を得た。反応温度は5〜10℃に保った
。但し、以上の操作でPMDAの取り扱い及び反応系内
は乾燥窒素気流下に置いた。
得られたコポリアミド酸混合溶液をガラス板状に流延塗
布し約100℃にて約60分間乾燥後、コポリアミド酸
塗膜をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、
その後約150℃で約10分間、約200℃で約60分
間、約300℃で約60分間加熱し、脱水閉環乾燥後1
5〜25ミクロンのコポリイミド膜を得た。このフィル
ムは以下の性質を示した。
布し約100℃にて約60分間乾燥後、コポリアミド酸
塗膜をガラス板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、
その後約150℃で約10分間、約200℃で約60分
間、約300℃で約60分間加熱し、脱水閉環乾燥後1
5〜25ミクロンのコポリイミド膜を得た。このフィル
ムは以下の性質を示した。
線膨張係数(at 200℃)
0.3 X 10’ (am / cm / ’C)
湿度膨張係数(at50℃) 0.5 X 1G’ (cm/ cm/ RH%)伸
度 33 %
湿度膨張係数(at50℃) 0.5 X 1G’ (cm/ cm/ RH%)伸
度 33 %
Claims (4)
- (1)有機溶媒中、全ジアミン成分に対して10〜90
モル%の芳香族ジアミン成分(A)と、このジアミン成
分(A)に対して40〜99モル%の芳香族テトラカル
ボン酸二無水物を反応させアミド酸プレポリマーを得、
次いでこのアミド酸プレポリマー溶液に全ジアミン成分
に対して90〜10モル%の芳香族ジアミン成分(B)
[成分(A)と成分(B)が4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテルとp−フェニレンジアミンとの組合せにな
る場合を除く]を追加添加後、全ジアミン成分と実質的
に等モルとなるように、不足分の芳香族テトラカルボン
酸二無水物を添加反応することを特徴とするポリアミド
酸共重合体の製造方法。 - (2)芳香族ジアミン成分(A)が次式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは水素又は一価の置換基、nは1〜3の整数
である] で示される芳香族ジアミンであり、芳香族ジアミン成分
(B)が4,4′−ジアミノジフェニルエーテルである
特許請求の範囲第1項記載のポリアミド酸共重合体の製
造方法。 - (3)芳香族ジアミン成分(A)が4,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテルであり、芳香族ジアミン成分(B)
が次式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R及びnは前記と同様である] で示される芳香族ジアミンである特許請求の範囲第1項
記載のポリアミド共重合体の製造方法。 - (4)芳香テトラカルボン酸二無水物成分が、ピロメリ
ット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、又はそれ
らの混合物である特許請求の範囲第1〜3項記載のポリ
アミド共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62149164A JP2810661B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | ポリアミド酸共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62149164A JP2810661B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | ポリアミド酸共重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63314241A true JPS63314241A (ja) | 1988-12-22 |
JP2810661B2 JP2810661B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=15469195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62149164A Expired - Lifetime JP2810661B2 (ja) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | ポリアミド酸共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2810661B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6416834A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof |
JPS6416833A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof |
JPS6416832A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Production of polyamic acid copolymer |
US5202412A (en) * | 1990-10-02 | 1993-04-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide copolymer precursors |
US6444783B1 (en) | 2000-12-21 | 2002-09-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Melt-processible semicrystalline block copolyimides |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101429995B1 (ko) * | 2013-04-04 | 2014-08-18 | 한서대학교 산학협력단 | 다공성 고분자 촉매, 이의 제조방법 및 이를 이용한 흡착제 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161429A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
JPS61111359A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Ube Ind Ltd | ポリイミド膜 |
JPS63254131A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 芳香族ポリイミドの製造方法 |
-
1987
- 1987-06-17 JP JP62149164A patent/JP2810661B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161429A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂の製造方法 |
JPS61111359A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Ube Ind Ltd | ポリイミド膜 |
JPS63254131A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 芳香族ポリイミドの製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6416834A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof |
JPS6416833A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof |
JPS6416832A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Kanegafuchi Chemical Ind | Production of polyamic acid copolymer |
US5202412A (en) * | 1990-10-02 | 1993-04-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide copolymer precursors |
US6444783B1 (en) | 2000-12-21 | 2002-09-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Melt-processible semicrystalline block copolyimides |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2810661B2 (ja) | 1998-10-15 |
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