JPS5823476A - トランジスタ - Google Patents
トランジスタInfo
- Publication number
- JPS5823476A JPS5823476A JP56123264A JP12326481A JPS5823476A JP S5823476 A JPS5823476 A JP S5823476A JP 56123264 A JP56123264 A JP 56123264A JP 12326481 A JP12326481 A JP 12326481A JP S5823476 A JPS5823476 A JP S5823476A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- base
- emitter
- transistor
- high concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract 1
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 206010011878 Deafness Diseases 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D48/00—Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
- H10D48/30—Devices controlled by electric currents or voltages
- H10D48/32—Devices controlled by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H10D48/34—Bipolar devices
- H10D48/345—Bipolar transistors having ohmic electrodes on emitter-like, base-like, and collector-like regions
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
従来、ベース領域をコレクタ層内に深く形成するトラン
ジスタでは、ペース領域の表面濃度が下がり、金属電極
層と該ペース領域との間でオーミ、クコンタクトをとる
ことができない為、該ペース領域の表面部分に高濃度の
領域を形成し、金属電極層との間でオーミックコンタク
トがとられている。
ジスタでは、ペース領域の表面濃度が下がり、金属電極
層と該ペース領域との間でオーミ、クコンタクトをとる
ことができない為、該ペース領域の表面部分に高濃度の
領域を形成し、金属電極層との間でオーミックコンタク
トがとられている。
第1図は従来のトランジスタの断面図である。
第1図において、1はN星コレクタ領域、2はP型ベー
ス領域、このP型ベース領域20表面はぼ全域にわ九夛
高濃度のP屋ベース層3が形成されている。4はNFJ
エミッタ領域、5はシリコン酸化膜で表面保護gt−形
成し、6と7はそれぞれエミ、りおよびベースの金属電
極層である。
ス領域、このP型ベース領域20表面はぼ全域にわ九夛
高濃度のP屋ベース層3が形成されている。4はNFJ
エミッタ領域、5はシリコン酸化膜で表面保護gt−形
成し、6と7はそれぞれエミ、りおよびベースの金属電
極層である。
第2図も従来のトランジスタの断面図である。
第2図においては、ペース領域2と同領域の金属電極層
7のコンタクトを形成する部分にのみ高濃度ベース層3
が形成されている。
7のコンタクトを形成する部分にのみ高濃度ベース層3
が形成されている。
第1図の構造て゛は、エミッタ・ベース接合の外周囲全
面に高濃度のベース層が存在する為、エミ、り・ベース
間の抵抗rbk/が第2図の構造に比べ小さくなってし
まい、トランジスタの動作状態において、rbb’
による貿帰還作用が減少し、順方向の安全動作領域(F
80A)が狭くなってしまう。第2図の構造では、第1
図のrbb’ に比べその値は太き(、F2Oムは広く
なるが、エミ、り・ベース接合部でのペース領域の表面
濃度が低い為第1図の構造に比ベニミッタ・ベース間ブ
レークダウン電圧が高くなり、問題となる場合がある。
面に高濃度のベース層が存在する為、エミ、り・ベース
間の抵抗rbk/が第2図の構造に比べ小さくなってし
まい、トランジスタの動作状態において、rbb’
による貿帰還作用が減少し、順方向の安全動作領域(F
80A)が狭くなってしまう。第2図の構造では、第1
図のrbb’ に比べその値は太き(、F2Oムは広く
なるが、エミ、り・ベース接合部でのペース領域の表面
濃度が低い為第1図の構造に比ベニミッタ・ベース間ブ
レークダウン電圧が高くなり、問題となる場合がある。
本発明の目的は、上記エミ、り・ペース間ブレークダウ
ン電圧の問題を解決し、同時に順方向安全動作領域の改
善されたトランジスタを提供することにある。
ン電圧の問題を解決し、同時に順方向安全動作領域の改
善されたトランジスタを提供することにある。
本発明のトランジスタは、ベース領域表面に形成された
高amペース層が、エミ、り・ベース接合外周部の該接
合を保護するための保護膜の下で分離されている構成を
有する。
高amペース層が、エミ、り・ベース接合外周部の該接
合を保護するための保護膜の下で分離されている構成を
有する。
つぎに本発明を実施例によ〕説明する。第3図は本発明
の一実施例の断面図である。第3図において、N導電型
の牛導体基板のコレクタ領域1に、所定の方法によりP
聾のベース領域2を形成し、ベース領域2円に高濃度の
P導電型のベース層3aと3b、ならびにN鳳エミッタ
領域4゛ヲ形成し、金属電極層6.7をそれぞれエミッ
タ領域4と高濃度ベース層3m[被着している。
の一実施例の断面図である。第3図において、N導電型
の牛導体基板のコレクタ領域1に、所定の方法によりP
聾のベース領域2を形成し、ベース領域2円に高濃度の
P導電型のベース層3aと3b、ならびにN鳳エミッタ
領域4゛ヲ形成し、金属電極層6.7をそれぞれエミッ
タ領域4と高濃度ベース層3m[被着している。
このような本発明のトランジスタでは、エミッタ・ベー
ス接合外周の表面部分に、該接合に接する高濃度のベー
ス層3b會有している為、エミッタベース間のブレーク
ダウン電圧を、第1図の構造のトランジスタと同様に出
来、また、高濃度ベース層がエンツタ・ベース接合の外
周部の保護膜下で3a、3bに分離されている為、第2
図の構造のトランジスタと同等のrbvt−得る事が出
来、同構造のF80&を得る事が出来るものである。す
なわち、本発明は第1図に示した構造のトランジスタに
お込て、他の特性にほとんど影41ヲ与える事なく、簡
単にF80At−改善する事が出来るものである。
ス接合外周の表面部分に、該接合に接する高濃度のベー
ス層3b會有している為、エミッタベース間のブレーク
ダウン電圧を、第1図の構造のトランジスタと同様に出
来、また、高濃度ベース層がエンツタ・ベース接合の外
周部の保護膜下で3a、3bに分離されている為、第2
図の構造のトランジスタと同等のrbvt−得る事が出
来、同構造のF80&を得る事が出来るものである。す
なわち、本発明は第1図に示した構造のトランジスタに
お込て、他の特性にほとんど影41ヲ与える事なく、簡
単にF80At−改善する事が出来るものである。
以上の実施例においては、NPN型トランジスタについ
て説明してきたが、導電型を逆とじ九PNP型トランジ
スタについても同様の効果が認められる。
て説明してきたが、導電型を逆とじ九PNP型トランジ
スタについても同様の効果が認められる。
第1図と第2図はそれぞれ従来のトランジスタの一例お
よび他の一例の断面図、第3図は本発明の一実施例の断
面図である。 1・・・・・・コレクタ領域、2・・・・・−ベース領
域、3゜3m、3b・・・−高濃度ベース層、4・・・
・・・エミッタ領域、5・・・・・・エミッタベース接
合保護膜、6・・・・・・エミッタ金属電極層、7・曲
・ベース金属電極層。 第1図 第2図 第3図
よび他の一例の断面図、第3図は本発明の一実施例の断
面図である。 1・・・・・・コレクタ領域、2・・・・・−ベース領
域、3゜3m、3b・・・−高濃度ベース層、4・・・
・・・エミッタ領域、5・・・・・・エミッタベース接
合保護膜、6・・・・・・エミッタ金属電極層、7・曲
・ベース金属電極層。 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- ベース領域表面に形成された高濃度ベース層が、エミ、
り・ベース接合外周部の該接合上保護するための保護膜
下で分離されている事を特徴とするトランジスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56123264A JPS5823476A (ja) | 1981-08-05 | 1981-08-05 | トランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56123264A JPS5823476A (ja) | 1981-08-05 | 1981-08-05 | トランジスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5823476A true JPS5823476A (ja) | 1983-02-12 |
Family
ID=14856256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56123264A Pending JPS5823476A (ja) | 1981-08-05 | 1981-08-05 | トランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5823476A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03177365A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-08-01 | Ngk Insulators Ltd | アルミニウム溶湯用不定形耐火物 |
-
1981
- 1981-08-05 JP JP56123264A patent/JPS5823476A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03177365A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-08-01 | Ngk Insulators Ltd | アルミニウム溶湯用不定形耐火物 |
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