JPS58223147A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents
ポジ型感光性組成物Info
- Publication number
- JPS58223147A JPS58223147A JP10644782A JP10644782A JPS58223147A JP S58223147 A JPS58223147 A JP S58223147A JP 10644782 A JP10644782 A JP 10644782A JP 10644782 A JP10644782 A JP 10644782A JP S58223147 A JPS58223147 A JP S58223147A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- alkali
- positive
- soluble polymer
- photosensitive composition
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルカリ可溶性高分子化合物と、４−（２’
−二トロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン類とを
含有する新規なポジ型感光性組成物に関する〇 本発明の感光性被覆材料は、感光性印刷版（以下２８版
と称す）及び、フォトレジストとして用いられる。２８
版及びフォトレジスト材料のためのポジ型感光性被覆材
料については、印刷雑誌１９６４６月号に記載されてい
る。
−二トロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン類とを
含有する新規なポジ型感光性組成物に関する〇 本発明の感光性被覆材料は、感光性印刷版（以下２８版
と称す）及び、フォトレジストとして用いられる。２８
版及びフォトレジスト材料のためのポジ型感光性被覆材
料については、印刷雑誌１９６４６月号に記載されてい
る。
現在、ポジ型１８版及びポジ型フォトレジストに用いら
れる感光材料は、はとんど０−キノンジアジド系化合物
とノボラック型フェノール樹脂とを混合したものを主成
分としている。
れる感光材料は、はとんど０−キノンジアジド系化合物
とノボラック型フェノール樹脂とを混合したものを主成
分としている。
０−キノンジアジド系化合物は、紫外光によシ分解して
遊離のカルボン酸を生成する。この性質を利用して、こ
の感光性皮膜上にポジフィルムを密着して紫外光で露光
した後、弱アルカリ水溶液で現像すると、霧光部分が溶
出して除去され、未露光部は除去されずに残シボジ画像
を形成する。これは遊離のカルボン酸が弱アルカリ水溶
液に溶出する際に、０−キノンジアジド系化合物と相溶
性の良い混合された皮膜形成能のあるフェノール樹脂も
一緒に溶出されるからである。
遊離のカルボン酸を生成する。この性質を利用して、こ
の感光性皮膜上にポジフィルムを密着して紫外光で露光
した後、弱アルカリ水溶液で現像すると、霧光部分が溶
出して除去され、未露光部は除去されずに残シボジ画像
を形成する。これは遊離のカルボン酸が弱アルカリ水溶
液に溶出する際に、０−キノンジアジド系化合物と相溶
性の良い混合された皮膜形成能のあるフェノール樹脂も
一緒に溶出されるからである。
Ｏ−キノンジアジド系化合物を用いたポジ型ＰＳ版は、
ポジフィルムと感光層を密着して露光する際、露光前の
密着が完全であってもボケが発生して版を損失すること
がある。これは露光時に、感光層を形成している０−キ
ノンジアジド系化合物の光分解による窒素ガスが、フィ
ルムと感光層の間に存在するために、それが密着を一時
的に不均一にさせ、そのまま露光を続けるのでボケが発
生する。このボケによる版の損失をなくすため、２８版
の表面を粗面化する方法が現在でも数多く報告されてい
る（例えば、特公昭５７−６５８２号）。
ポジフィルムと感光層を密着して露光する際、露光前の
密着が完全であってもボケが発生して版を損失すること
がある。これは露光時に、感光層を形成している０−キ
ノンジアジド系化合物の光分解による窒素ガスが、フィ
ルムと感光層の間に存在するために、それが密着を一時
的に不均一にさせ、そのまま露光を続けるのでボケが発
生する。このボケによる版の損失をなくすため、２８版
の表面を粗面化する方法が現在でも数多く報告されてい
る（例えば、特公昭５７−６５８２号）。
また、０−キノンジアジド系化合物を用いたポジ型フォ
トレジストは、基板と感光層との密着性を上げるために
、ブレベーク温度を１２０℃以上に上げて加熱乾燥させ
ることがあるが、この場合０−キノンジアジド化合物は
、熱で容易に分解して、バインダーであるフェノール樹
脂と架橋し、その結果、アルカリ水溶液での現像ができ
々くなってしまう。
トレジストは、基板と感光層との密着性を上げるために
、ブレベーク温度を１２０℃以上に上げて加熱乾燥させ
ることがあるが、この場合０−キノンジアジド化合物は
、熱で容易に分解して、バインダーであるフェノール樹
脂と架橋し、その結果、アルカリ水溶液での現像ができ
々くなってしまう。
本発明は、上述の従来技術の有する欠点を解消するだめ
のもので、露光時にガスの発生がなく、また熱的負荷に
対して敏感でないポジ型感光性組成物を提供することを
目的とするものである。本発明ポジ型感光性組成物はア
ルカリ可溶性高分子化合物と、下記の一般式（１）及び
叩で示される感光性有機化合物の少なくとも一種を含有
することを特徴とする吃のである。
のもので、露光時にガスの発生がなく、また熱的負荷に
対して敏感でないポジ型感光性組成物を提供することを
目的とするものである。本発明ポジ型感光性組成物はア
ルカリ可溶性高分子化合物と、下記の一般式（１）及び
叩で示される感光性有機化合物の少なくとも一種を含有
することを特徴とする吃のである。
（１） （１）
（式中、Ｒは水床原子又はアルキル基を表わし、Ｒはア
ルキル基を表わし、ｎは１または２を表わす。） 本発明に用いられるアルカリ可溶性高分子化合物として
は、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック
樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルパラヒドロ
キシペンザール、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、メタクリル酸とメタ
クリル酸メチルとの共重合体、メタクリル酸メチル、ス
チレン、メタクリル酸、ブタジェンとの多元共重合体、
シェラツクなどがあるが、これら以外のアルカリ可溶性
高分子化合物で、本発明に用いられる感光性有機化合物
と相溶性のあるものは使用することができる。
ルキル基を表わし、ｎは１または２を表わす。） 本発明に用いられるアルカリ可溶性高分子化合物として
は、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック
樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルパラヒドロ
キシペンザール、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、メタクリル酸とメタ
クリル酸メチルとの共重合体、メタクリル酸メチル、ス
チレン、メタクリル酸、ブタジェンとの多元共重合体、
シェラツクなどがあるが、これら以外のアルカリ可溶性
高分子化合物で、本発明に用いられる感光性有機化合物
と相溶性のあるものは使用することができる。
本発明に用いられる感光性有機化合物は、１゜３−ジカ
ルボニル化１１Ｋ、Ｏ−ニトロベンズアルデヒド、また
はその誘導体を縮合させて、１．５−ジケトン化合物と
し、これにアンモニアまたはヒドロキシルアミンを作用
させると得られる。
ルボニル化１１Ｋ、Ｏ−ニトロベンズアルデヒド、また
はその誘導体を縮合させて、１．５−ジケトン化合物と
し、これにアンモニアまたはヒドロキシルアミンを作用
させると得られる。
例えは、４−（２−ニトロフェニル）−２゜６−シメチ
ルー６．５−ジカルボエトキシー１１４−ジヒドロピリ
ジンは、次の合成工程で作られる。
ルー６．５−ジカルボエトキシー１１４−ジヒドロピリ
ジンは、次の合成工程で作られる。
これらの化合物の合成法は、米国特許第３゜４８５ 、
８４’７ 号、及びＬ 、 Ｅ 、Ｈｉｎｋｅｌ、 Ｅ
、Ｅ。
８４’７ 号、及びＬ 、 Ｅ 、Ｈｉｎｋｅｌ、 Ｅ
、Ｅ。
Ａｎｙｌｉｎｇ ａｎｄ Ｗ、Ｉ（、Ｍｏｒｇａｎ、
Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、１８３５（１９３１）、Ｅ、
Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ 、Ａｎｎ−２８１、２５（１
８９４）。
Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、１８３５（１９３１）、Ｅ、
Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ 、Ａｎｎ−２８１、２５（１
８９４）。
０、Ｍｕｍｎ ｅｔ ａｌ、、 Ｂｅｒ、５４，７２６
（１９２１）に記載されている。
（１９２１）に記載されている。
４−（２′−二トロフェニル） ｉ、４−ジヒドロピ
リジン類の光化学反応は、以前より研究されており、Ｊ
、Ａ、Ｂｅｎ５ｏｎ ａｎｄ Ｅ、Ｂｒｏｗｎ、 Ｊ、
Ａｍ。
リジン類の光化学反応は、以前より研究されており、Ｊ
、Ａ、Ｂｅｎ５ｏｎ ａｎｄ Ｅ、Ｂｒｏｗｎ、 Ｊ、
Ａｍ。
Ｃｈｅｍ、８ｏｃ、、７７．４４７（１９５５） の
記載によると、２゜６−シメチルー！Ｉ、５−ジアセチ
ル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピ
リジンのエタノール溶液に紫外線照射すると、この化合
物は分子内酸化還元反応がおきて、２．６−シメチルー
３，５−ジアセチル−４’−（２−ニトロソフェニル）
ピリジンが得られ、この光反応生成物のニトロン体は、
希塩酸に溶は易いといわ扛る０ 本発明者は、４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジ
ヒドロピリジン類と、アルカリ可溶性高分子化合物とを
溶剤に溶解し、その溶液を金属板に塗布、加熱乾燥した
後、ポジフィルムを密着して紫外線露光をしたところ、
黄色の感光皮膜の露光部分が消色し、ポジの焼き画像が
みられ、この紫外線露光した金属板を弱アルカリ性水溶
液に浸漬させると、露光部分が俗は出し、ポジ画像が金
属板上に形成することを発見し、本発明を完成させた。
記載によると、２゜６−シメチルー！Ｉ、５−ジアセチ
ル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピ
リジンのエタノール溶液に紫外線照射すると、この化合
物は分子内酸化還元反応がおきて、２．６−シメチルー
３，５−ジアセチル−４’−（２−ニトロソフェニル）
ピリジンが得られ、この光反応生成物のニトロン体は、
希塩酸に溶は易いといわ扛る０ 本発明者は、４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジ
ヒドロピリジン類と、アルカリ可溶性高分子化合物とを
溶剤に溶解し、その溶液を金属板に塗布、加熱乾燥した
後、ポジフィルムを密着して紫外線露光をしたところ、
黄色の感光皮膜の露光部分が消色し、ポジの焼き画像が
みられ、この紫外線露光した金属板を弱アルカリ性水溶
液に浸漬させると、露光部分が俗は出し、ポジ画像が金
属板上に形成することを発見し、本発明を完成させた。
−Ｆ記の文献記載によると、光反応生成物は希酸に溶は
易いということでおるが、本発明によるアルカリ現像で
の□ポジーポジの光反応機構は不明である。これは、光
化学反応によって４−（ターニトロフェニル）−１，４
−ジヒドロピリジン類の立体構造が変化するために、相
溶性のおるアルカリ可溶性高分子化合物が存在すると、
光反応により水素結合が切れて、露光部が弱アルカリ水
溶液に浴は易くなり、ポジ型感光性組成物を与えるもの
と解される。
易いということでおるが、本発明によるアルカリ現像で
の□ポジーポジの光反応機構は不明である。これは、光
化学反応によって４−（ターニトロフェニル）−１，４
−ジヒドロピリジン類の立体構造が変化するために、相
溶性のおるアルカリ可溶性高分子化合物が存在すると、
光反応により水素結合が切れて、露光部が弱アルカリ水
溶液に浴は易くなり、ポジ型感光性組成物を与えるもの
と解される。
本発明に用いられる感光性有機化合物としては、２，６
−シメチルー６．５−ジアセチル−４−（２′−二トロ
フェニル）−１，４−ジヒドロピリジン、４− （２’
−ニトロフェニル）−２゜６−ジテメルー５，５−ジカ
ルボエトキシ−１゜４−ジヒドロピリジン、４−（２，
４−ジニトロフェニル）−２、６−シメチルー６．５−
カルボストキシ−１，４−ジヒドロピリジン等があシ、
これらの化合物は、４５０鵠以下の紫外線照射によって
分子内酸化還元反応をおこす。
−シメチルー６．５−ジアセチル−４−（２′−二トロ
フェニル）−１，４−ジヒドロピリジン、４− （２’
−ニトロフェニル）−２゜６−ジテメルー５，５−ジカ
ルボエトキシ−１゜４−ジヒドロピリジン、４−（２，
４−ジニトロフェニル）−２、６−シメチルー６．５−
カルボストキシ−１，４−ジヒドロピリジン等があシ、
これらの化合物は、４５０鵠以下の紫外線照射によって
分子内酸化還元反応をおこす。
本発明の感光性組成物において、前記一般式の感光８：
１機化合物とアルカリ可溶性高分子化合物は、１：０．
５ないし１：６の重蓋比で混合する。しかしながら、耐
酸性を萬める目的で更に多量のアルカリ可溶性高分子化
合物を使用することができる。また必要に応じて０−キ
ノンジアジド系化合物を混合してもよい。
１機化合物とアルカリ可溶性高分子化合物は、１：０．
５ないし１：６の重蓋比で混合する。しかしながら、耐
酸性を萬める目的で更に多量のアルカリ可溶性高分子化
合物を使用することができる。また必要に応じて０−キ
ノンジアジド系化合物を混合してもよい。
本発明の感光性組成物は、通常適当な有機溶剤に溶かし
て使用される。この有機溶剤としてハ、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、メ
チルセロソルブ、エチルセロンルプ、エチルセロソルブ
アセテートナトのセロソルブ類、クロロホルム、二塩化
エチレンなどの塩素化溶剤類、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、ジメチルホルムアミドなどのアミン
類、及びこれらの混合溶剤が用いられる。
て使用される。この有機溶剤としてハ、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、メ
チルセロソルブ、エチルセロンルプ、エチルセロソルブ
アセテートナトのセロソルブ類、クロロホルム、二塩化
エチレンなどの塩素化溶剤類、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、ジメチルホルムアミドなどのアミン
類、及びこれらの混合溶剤が用いられる。
本発明の感光性組成物は、更に用途に応じて、染料、可
塑剤、光変色剤、及び塗布性を良くする添加剤などが配
合されて、印刷用アルミ板、フォトエツチング用各種金
鵜板、及びシリコンなどの半導体材料、あるいはフォト
イメージング用のガラスフィルムなどに塗布し、よ９優
れたポジ型感光性組成物として使用される。また本発明
の感光性組成物の現像液としては、メタケイ酸ナトリウ
ム、リン酸ナトリウムなどの無機アルカリ水溶液、また
半導体用として使用する場合は、金属イオンを含まない
有機アミンの水溶液を用いるのが有利である。ｆにアル
コール類などの本発明に用いる感光性有機化合物に対す
る溶解度の低い極性有機溶剤を用いて現像してもよい。
塑剤、光変色剤、及び塗布性を良くする添加剤などが配
合されて、印刷用アルミ板、フォトエツチング用各種金
鵜板、及びシリコンなどの半導体材料、あるいはフォト
イメージング用のガラスフィルムなどに塗布し、よ９優
れたポジ型感光性組成物として使用される。また本発明
の感光性組成物の現像液としては、メタケイ酸ナトリウ
ム、リン酸ナトリウムなどの無機アルカリ水溶液、また
半導体用として使用する場合は、金属イオンを含まない
有機アミンの水溶液を用いるのが有利である。ｆにアル
コール類などの本発明に用いる感光性有機化合物に対す
る溶解度の低い極性有機溶剤を用いて現像してもよい。
以下、実施例によって本発明の詳細な説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例ｔ
メチルエチルケトン１００ｆと、メチルセロソルブ３０
Ｆの混合溶剤に、クレゾールノボラック樹脂１０ｆ、４
−（２−二トロフェニル）−２゜６−シスチルー６．５
−ジカルボメトキシ−１゜４−ジヒドロピリジン３ｆ、
オイルブルー替６０５ α０１ｆを溶かして濾過し、感
光液とした。
Ｆの混合溶剤に、クレゾールノボラック樹脂１０ｆ、４
−（２−二トロフェニル）−２゜６−シスチルー６．５
−ジカルボメトキシ−１゜４−ジヒドロピリジン３ｆ、
オイルブルー替６０５ α０１ｆを溶かして濾過し、感
光液とした。
これを砂目室てした平版用アルミ板に、膜厚１５μにな
るようにホエラー塗布、乾燥して２８版を作成した。こ
の２８版にポジフィルム（５０チ網点フィルム）を密着
して、ＩＫｗ 超高圧水銀灯を用いて、距離１＠よシロ
０秒露光し、次に３６チメタケイ酸ソーダ水溶液で現像
、水洗した後、インキングしたところ非画線部に汚れの
ない強固なポジ画像が得られＩｒＡｍ九時にガスの発生
もなく容易にフィルムの密着ができ、ボケのない良好な
網点再現性を有する２８版を得ることができた。
るようにホエラー塗布、乾燥して２８版を作成した。こ
の２８版にポジフィルム（５０チ網点フィルム）を密着
して、ＩＫｗ 超高圧水銀灯を用いて、距離１＠よシロ
０秒露光し、次に３６チメタケイ酸ソーダ水溶液で現像
、水洗した後、インキングしたところ非画線部に汚れの
ない強固なポジ画像が得られＩｒＡｍ九時にガスの発生
もなく容易にフィルムの密着ができ、ボケのない良好な
網点再現性を有する２８版を得ることができた。
実施例２゜
シクロヘキサノン４０２に、フェノールノボラック８４
脂１ｏ ｖ、 ａ −（２’−二トロフェニル）−２，
６−シスチルー６．５−ジカルボエトキシー１．４−ジ
ヒドロピリジン８ｔを溶かし、０２μのフィルターを用
いてｍ遇し、感光液とした。この感光液を真空蒸着した
アルミニウム基板上に、スピンナーを用いて５０００
ｒ ｐｍ で塗布し、８０℃の熱風乾燥機で乾燥して１
０μの膜厚を得た。ポジマスクを通して超高圧水銀灯で
４秒露光し、５チテトラメチルアンモニウムハイドロオ
キサイド水溶液で現像し、水洗した。次に、ボストベー
クなしで、リン酸−硝酸の混合エツチング液で腐食した
ところ、アルミニウム基板は、サイドエッチのない、し
かもレジスト膜祉全くおかされずに、秀れたポジ画像が
得られた。
脂１ｏ ｖ、 ａ −（２’−二トロフェニル）−２，
６−シスチルー６．５−ジカルボエトキシー１．４−ジ
ヒドロピリジン８ｔを溶かし、０２μのフィルターを用
いてｍ遇し、感光液とした。この感光液を真空蒸着した
アルミニウム基板上に、スピンナーを用いて５０００
ｒ ｐｍ で塗布し、８０℃の熱風乾燥機で乾燥して１
０μの膜厚を得た。ポジマスクを通して超高圧水銀灯で
４秒露光し、５チテトラメチルアンモニウムハイドロオ
キサイド水溶液で現像し、水洗した。次に、ボストベー
クなしで、リン酸−硝酸の混合エツチング液で腐食した
ところ、アルミニウム基板は、サイドエッチのない、し
かもレジスト膜祉全くおかされずに、秀れたポジ画像が
得られた。
実施例五
メチルエチルケトン２００ｆと、シクロヘキサノン５０
Ｆの混合溶剤に、メチルメタクリレート、ヒドロキシエ
チルアクリレート、メタクリル酸共重合体（１０：３：
１モル比、分子ｔｉ。
Ｆの混合溶剤に、メチルメタクリレート、ヒドロキシエ
チルアクリレート、メタクリル酸共重合体（１０：３：
１モル比、分子ｔｉ。
万ン２５１，２．６−ジメテルー３，５−ジアセチル−
４−（２−二トロフェニル）ピリジン２０ｆ、ベンゾト
リアゾールｔ２５ｔを溶解し、濾過して感光液とした。
４−（２−二トロフェニル）ピリジン２０ｆ、ベンゾト
リアゾールｔ２５ｔを溶解し、濾過して感光液とした。
希塩酸で表面処理した厚さ０．３−の銅板にディップコ
ーティングして、銅板の両面に感光液を塗布し、１２０
℃で１０分間熱風乾燥した。ポジフィルムを両面より位
置合せして密着し、超高圧水銀灯を用いて露光した。次
いで、２．５チ炭酸ソーダ水溶液を用いてスプレー現像
した後、水洗乾燥し友ところ、熱カプリのない、きれの
良いポジのレジスト像が得られた。これを１５０℃、１
０分間ポストベークした後、４０°Ｂｅ塩化第二鉄液を
用いて４０℃で、両面よシスプレーエツチングし水洗波
、１０％苛性ソーダ水溶液でレジスト膜を剥離した。こ
の結果サイドエッチのない、良好表ポジのエツチングパ
ターンが得られた。
ーティングして、銅板の両面に感光液を塗布し、１２０
℃で１０分間熱風乾燥した。ポジフィルムを両面より位
置合せして密着し、超高圧水銀灯を用いて露光した。次
いで、２．５チ炭酸ソーダ水溶液を用いてスプレー現像
した後、水洗乾燥し友ところ、熱カプリのない、きれの
良いポジのレジスト像が得られた。これを１５０℃、１
０分間ポストベークした後、４０°Ｂｅ塩化第二鉄液を
用いて４０℃で、両面よシスプレーエツチングし水洗波
、１０％苛性ソーダ水溶液でレジスト膜を剥離した。こ
の結果サイドエッチのない、良好表ポジのエツチングパ
ターンが得られた。
特許州願人 冨士薬品工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルカリ可溶性高分子化合物と、下記の一般式ＣＩ）及
び［Ｕ） Ｈ１（ ＣＩ） （［） （式中、Ｒけ水素原子又はアル キル基を表わし、■（はアルキ ル基を表わし、ｎは１または ２を表わす。） で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特
徴とするポジ型感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10644782A JPS58223147A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | ポジ型感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10644782A JPS58223147A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58223147A true JPS58223147A (ja) | 1983-12-24 |
| JPH0153771B2 JPH0153771B2 (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=14433865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10644782A Granted JPS58223147A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58223147A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298947A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-12-11 | Siemens Ag | 感光性混合物及びレリーフ構造体の製法 |
| EP0459395A2 (en) * | 1990-05-29 | 1991-12-04 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Positive photo-sensitive resin composition |
| US5851736A (en) * | 1991-03-05 | 1998-12-22 | Nitto Denko Corporation | Heat-resistant photoresist composition, photosensitive substrate, and process for forming heat-resistant positive or negative pattern |
-
1982
- 1982-06-21 JP JP10644782A patent/JPS58223147A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298947A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-12-11 | Siemens Ag | 感光性混合物及びレリーフ構造体の製法 |
| EP0459395A2 (en) * | 1990-05-29 | 1991-12-04 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Positive photo-sensitive resin composition |
| US5449584A (en) * | 1990-05-29 | 1995-09-12 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd. | Positive photo-sensitive resin composition comprising a photosensitive polybenzoxazole or a mixture of a polybenzoxazole, an organic solvent soluble polymer and a diazoquinone and/or a dihydropyridine compound |
| US5851736A (en) * | 1991-03-05 | 1998-12-22 | Nitto Denko Corporation | Heat-resistant photoresist composition, photosensitive substrate, and process for forming heat-resistant positive or negative pattern |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0153771B2 (ja) | 1989-11-15 |
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