JPH02298947A

JPH02298947A - 感光性混合物及びレリーフ構造体の製法

Info

Publication number: JPH02298947A
Application number: JP2071782A
Authority: JP
Inventors: Eberhard Kuehn; エバーハルト、キユーン; Albert Hammerschmidt; アルベルト、ハンマーシユミツト; Erwin Schmidt; エルウイン、シユミツト; Hellmut Ahne; ヘルムート、アーネ
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1989-03-20
Filing date: 1990-03-19
Publication date: 1990-12-11
Anticipated expiration: 2013-09-21
Also published as: DE58908012D1; US5081000A; JP2800148B2; EP0388482A1; EP0388482B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、ポリマー及び光活性成分からなる感光性混合
物並びにこの種の感光性混合物からレリーフ構造体を製
造する方法に関する。

〔従来の技術〕

感光性混合物、すなわちフォトレジストからフォトリソ
グラフィーにより製造されるμ端範囲の構造は高密度集
積回路の製造に際して重要な役割を演する。すなわちこ
の種の構造は一般にこれらのデバイスを製造する際に行
われるイオン注入、ドーピング、湿式及び乾式エンチン
グのような一連の処理工程でマスクとして使用される。

　　　゛レリーフ構造体の熱的及び機械的特性並びに耐
食性は基礎となるレジストの主要樹脂、すなわちポリマ
ーを適当に選択することによって調整することができる
が、光構造化の可能性は主として光活性成分により決定
される。その際光活性成分及びポリマーはもちろん例え
ば感光性混合物が脱混合せず、また露光されたレジスト
が現像され得るように調整しなければならない、更に光
活性成分は、良好な溶解性、貯蔵安定性、無毒性で、可
能な限り水性の、すなわち生態学的に危険性のない現像
剤での現像可能性及び高い感光性、すなわち光活性成分
の退色と関連する短い露光時間のような一連の要件を満
たす必要がある。更に基板上へのポリマーの接着性が損
なわれてはならず、また良好な分解能と関連して原型の
正確な転写が保障されなければならない。

微細構造を製造するにはネガ型レジスト又はポジ型レジ
ストを使用することができる（例えば「アンゲバンテ・
ヒエミー（Ａｎｇｅ＠、　Ｃｈｅｗ、）　Ｊ第９４巻、
１９８２年、第４７１〜４８５頁参照）。

構造化の原理が一般にその可溶性を低下させる露光部分
の網状化に基づくものであるネガ型レジストはポジ型レ
ジストに比べて、膨化により制約される一層少ない分解
能を示し、また多くの場合生態学的及び経済的に好まし
くない有機現像剤で現像される。照射によってその可溶
性が高められるポジ型レジストの場合、露光部分と非露
光部分との間の可溶性の差は通常光化学的に誘発される
極性の変化によってもたらされ、これにより膨化するこ
となく水性−アルカリ性現像が可能となる。

例えばポジ型レジストは光活性成分として〇−ニトロベ
ンジルーエステル化合物を有する系であり、これは露光
に際して極性カルボン酸と０−ニトロソベンズアルデヒ
ドとに分解する（上記文献の第４８２頁参照）、シかし
０−ニトロソベンズアルデヒドはレジスト中で有色のア
ブ化合物と結合し、従って退色作用に逆行する。いわゆ
る化学的増幅（ｃｈａｒｍ比ａｌ　ａｍｐｌｉｆｉｃａ
ｔｉｏｎ）の原理に基づいて作動する系では光分解的に
プロトンが生じ、これがその後例えばフェノールエステ
ルを相応するフェノールに鹸化する。しかしこれらの系
で使用された光開始側、すなわちトリアリールスルホニ
ウム塩のようないわゆるクリベーロ（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ
）塩（例えば「ポリマー・エンジニアリング・アンド・
サイエンス（Ｐｏｌｙｍ、　Ｅｎｇ、　Ｓｃｉ、）　Ｊ
第２３巻、１９８３年、第９５３〜９５６頁参照）は、
極めて腐食性であり、これはマイクロエレクトロニクス
分野での使用の妨げとなる。

特に市販のポジ型レジストにおいて最も頻繁に使用され
ている光活性成分は、ジアゾナフトキノンのスルホン酸
エステルをベースとするものであり（上記文献の第４８
１頁参照）、これは退色特性が良好なことから露光時間
を短縮させる。しかしこの種の系は、合成に経費が嵩み
、従つて人手困難であり、コスト高で、可燃性又は爆発
挙動（この最後の挙動は特に４−スルホン酸の場合に該
当する）を有し、また熱安定性が少なく、従って分解し
易いという一連の欠点を有する。更に厚い層（〉３０μ
霞）に構造化することはできない。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の課題は、有効なフォトレジストの提供可能性を
拡大すること、すなわちフォトレジストに設定される諸
要件を高度に満たし、＠組構造の製造を可能とする、ポ
リマー及び光活性成分からなる感光性混合物を提供する
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

この課題は本発明によれば、ポリマーが無水カルボン酸
基又はフェノール水酸基を有し、光活性成分が次の構造
式：〔式中基Ｒ１は同−又は異なるものでＲ’　＝Ｈ。

（ＣＨｌ）−−ＣＨ，、ＯＨ，Ｏ−（ＣＨｔ）、ｌ　−
ＯＨ５、（ＣＦｇ）−−ＣＦｓ　、Ｃｂ　　Ｈａ　、Ｏ
−ＣｈＨ％　、Ｃ０ＯＨ，Ｃｏｏ　−（ＣＨｌ）、−Ｃ
Ｈｓ　、ＣＯ−（ｃＨｔ）、−ＣＨ３、（ＣＨｌ）＊　
　−ｏ−（ＣＩ（ｔ）−−ＣＨｘ　、　（ＣＨり、−Ｏ
Ｈ，（ＣＨ−ＣＨ）ｐ　　−Ｃｏ　−ＣＨｓ　、Ｆ、Ｃ
Ｌ　Ｂ　ｒ又は■を表し、ｍ＝０〜Ｉ　Ｏ，ｎ＝０〜１
０及びＰ−１〜４であるか、又は２対のオルト位の基Ｒ′の一方は芳香族又はオレフ
ィン不飽和六員環の構成成分であり、〔式中Ｎ　Ｏｘ基
は常にジヒドロピリジン環に結合するためオルト位にあ
り、基Ｒｔは同−又は異なるものでＲ”　　＝Ｈ，（ＣＨｘ）−−ＣＨｓ　　、ＯＨ，０−
（ＣＨｚ）、　　−ＣＨ，、（ＣＦり１１−　ＣＦｓ　
、Ｃ６Ｈａ　、０−　Ｃｈ　　Ｈａ　、Ｃｏｏ　Ｈ、Ｃ
ｏｏ　−（ＣＨｔ）−−ＯＨ５、Ｃｏ　−（ＣＨｔ）−
−ＣＨａ　、　（ＣＨｚ）、ｌ−Ｏ−（ＣＨｍ）−−Ｃ
Ｈｘ　、　（ＣＨり、−０Ｈ１Ｎｏ、　、Ｆ、ＣＩ、Ｂ
ｒ又は■を表し、ｍ＝　Ｑ　〜１０及びｎ−０〜１０で
ある）を表し、Ｒ３は炭素原子数１〜７のアルキル、又
は置換されていてもよいシクロへキシル及びフェニルを
表す］で示されるＮ置換１．４−ジヒドロピリジン又は
ｌ、　　４−ジヒドロピリジン誘導体であることにより
解決される。

〔作用効果〕

本発明による感光性混合物はポジ型レジスト又はネガ型
レジストとして作用し、一連の優れた特性によって特徴
づけられる。すなわちこのレジスト溶液は貯蔵安定であ
るだけではなく、驚くべきことにはこのレジスト溶液か
ら水−アルカリ性の場合によってはアミン又はアンモニ
アを含む現像剤を用いて構造化することのできる層を製
造することが可能である。この場合特にフェノール水酸
基を有するポリマーを含む混合物が、傑出した構造化を
可能とする。この種の感光性混合物は更にネガ型レジス
トとして作用するが、無水カルボン酸基を有するポリマ
ーを含む混合物はポジ型レジストとして機能する。更に
本発明によるフォトレジストは、良好なすなわち迅速か
つ完全な退色特性（３６５ｎｍで）並びに極めて良好な
溶解性（く１μｍ）を示し、また厚い層厚で構造化する
ことができる。更にこのレジストに使用した光活性成分
は簡単な合成によって価格的に有利に入手することがで
き、無毒性で、良好に溶解し、また好ましい熱安定性を
有する。

本発明によれば新規物質類、すなわち次の構造式：〔式中基Ｒ１及びＲ２は同−又は異なるものであり、基
Ｒ’　、Ｒ”及びＲ３は前記のものを表す〕で示される
、置換されたＮ−アルキル化又はＮ−アリール化１，４
−ジヒドロピリジン（及びその誘導体）、特にＮ−アル
キル化又はＮ−アリール化４−（２’−ニトロフェニル
）−１，４−ジヒドロピリジン（及び相応する誘導体）
を、レジスト系中の光活性成分として使用することがで
きる。

４位でアリール置換されたＮ−アルキル−１゜４−ジヒ
ドロピリジンはそれ自体公知であり（ドイツ連邦共和国
特許第１８１３４３６号及び同第１９２３９９０号明細
書並びに米国特許第３９４６０２８号明細書参照）、こ
れらは医薬分野において使用されている。この種の化合
物の光化学特性に関してはいまだ報告されていない、す
なわちこれらの化合物を光活性成分として感光性混合物
に使用することについてはまったく指摘されていない。

本発明による感光性混合物には無水カルボン酸基を有す
るポリマーが使用される。このポリマーはを利には次の
構造式を有する。

ｃ式中ｒ　／　ｒ　＋　ｓ　＝　Ｏ〜０．６及びｒ＋ｓ
＝４〜３０００であり、Ｘ及びＹは同−又は異なるもの
であり、単結合又は−０００−１−ＣＯＮＨ−１−ＣＯ
ＮＨＮＨ−１−ｏｃｏｏ−１−〇−１−３Ｏ！−及び−
ｃｏｏｃｏ−を表し、基Ｒ１、Ｒ１、Ｒｆｆ　、Ｒ４、Ｒ８及びＲ６は同−又
は異なるものであり、それぞ゛れＨ，（ＣＨり、−ＣＨ
，、Ｃ，Ｈ，、Ｃ０ＯＨ，Ｃｏｏ　−（ＣＨ，）。

−ＣＨ５、ＣＯ−（ＣＨｚ）、−ＣＨ５、Ｓｉ　　（（
ＣＨｔ＞ｍ　　−ＣＨｓ　　）　３　　、Ｓ　１（Ｃｉ
　　Ｈｓ）ｓ　、ＣＨｘ−３１（ＣＨｓ）ｘ　、Ｓ　１
（ＯＣＨｓ）３　、Ｃａ　　Ｈａ　　−ＯＨ，Ｃ６Ｈ４
−（ＣＨり、１−　ＣＨｓ　　、Ｃｈ　　Ｈａ　　−０
−（ＣＨｔ）　−−ＣＨｓ及びＣｃＨｚ＞、−ｏ−（Ｃ
Ｈ，）、−ＣＨ，を表し、ｍ−０〜ｌＯ及びｎ＝θ〜ｌ
Ｏであり、Ｒ１とＲ２又はＲコとＲ４又はＲＳとＲ６は互いに環状
脂肪族又は芳香族的に結合されていてもよい〕。

本発明による感光性混合物に使用されるフェノール水酸
基を有するポリマーは有利には、次の構造式：ｃ式中ｐ＝ｌ　Ｏ〜１００００であり、ｎ＝Ｈ，（ＣＨ
ｓ）−−ＯＨ−（ＣＨｚ）、ｌ−ＣＨｓ　　、ＯＨ，Ｏ
−（ｃｏｚ）、−ＣＨｉ　、Ｃ，Ｈ５又はハロゲン、す
なわちＦＳＣｌ、Ｂｒ及びＩであり、ｍ＝１〜１０及び
ｎ＝０〜１０である〕で示されるフェノール−ホルムア
ルデヒド−縮合生成物である。

〔式中Ｒ，Ｒ”　、Ｒ，、Ｒ，”及びＲｔは芳香族基で
あり、ｎｌ　ｓ　ｎｌ及びｎ、に関しては、ｎｌ　−１
〜Ｉ　Ｑ　Ｏ，ｎｌ及びｎ　ｓ　＝０　％又はｎ、及び
ｎｇ　−１〜ｌ　ＯＯ，ｎｇ−０％又はｎｌ、ｎｌ及び
ｎ　ｓ　−１〜１００　（Ｒ＊　Ｒ’及び／又はＲ，≠
Ｒ，”）、又はｎｌ及びｎｓ　＝　１−１００．　ｎｔ　−０（Ｒ≠Ｒ
１及び／又はＲ＋’ｌ’Ｒ＋”）である】で示されるヒ
ドロキシポリアミド、又は次の構造式：（式中Ｒ及びＲ
”は同じであるか又は異なっていてもよい芳香族基であ
り、ｎは２〜１００である〕で示されるヒドロキシポリ
イミドをを利に使用することができる。

「芳香族基」という概念はフラン及びチオフェンのよう
な複素環式も含むことから、「フェノール」水酸基はこ
の種の基にも存在し得る。

先に記載した種類のヒドロキシポリアミドはドイツ連邦
共和国特許出願公開筒３７１６６２９号明細書からまた
欧州特許出願公開第０２９１７７９号明細書から公知で
ある。先に記載した種類のヒドロキシポリイミドは欧州
特許出願公開第８８１１６７９号明細書（この場合Ｒ及
びＲ”は先に記載した２つの刊行物に示した定義を有す
る）並びに欧州特許出願公開第０３００３２６号明細書
の対象である。

本発明による感光性混合物の場合、ポリマ一対光活性成
分の質量比は一般に２０：ｆ〜１：２０であり、有利に
はこの質量比はｔｏｏｔ−ｔｉｔＯである。この場合更
にポリマー混合物が存在していてもよい。

レリーフ構造体を製造するには、本発明による感光性混
合物を基板に層又は箔の形で施し、マスクを介して化学
光線で露光するか又は適当な光線を導くことによって照
射する。引続き露光又は照射した層又は箔部分を溶出又
は除去し、その際得られた構造物を高めた温度で乾燥し
、場合によっては熱処理する。

感光性混合物、すなわちフォトレジストは有利には有機
溶剤中の溶液として基板に施すことができる。この場合
溶剤としてはＮ−メチルピロリドン又はメトキシプロピ
ルアセテートを使用するのが有利である。同様に類似す
る特性を有する他の有機溶剤例えばジメチルホルムアミ
ド及びＮ、　Ｎ−ジメチルアセトアミド、並びにこれら
の溶剤の混合物を使用することもできる。

本発明による方法では有利に接着剤及び／又は湿潤剤を
使用することもできる。この場合接着剤又は湿潤剤はフ
ォトレジスト溶液に加えることができるが、フォトレジ
ストで被覆する前に基板に施すこともできる。フォトレ
ジスト溶液は遠心塗布法又は静電噴霧法により基板に施
すのが有利である。同様に他の被覆法例えば浸漬法、ブ
ラシ掛は及びローラ塗布法を使用することもできる。基
板はガラス、金属、特にアルミニウム、プラスチック又
は半導電性材料からなるのが有利である。

〔実施例〕

次に本発明を実施例に基づき更に詳述する。

例−」− 市販のノボラック〔ベークライト（Ｂａｋｅｌｉｔｅ）
ＬＧ７２４ＣＨ４４５ｇを、Ｎ−メチル−３，５−ジア
セチル−４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒ
ドロピリジン〔この製造については［リービッヒス・ア
ンナーレン・デア・ヒエミー（Ｌｉｅｂｉｇｓ　Ａｎｎ
、　Ｃｈｅ＋ｗ、）　Ｊ第６７０巻、１９６３年、第５
７頁以降参照）０．５ｇと一緒にＮ−メチルピロリドン
２０ｇに溶かし、その際得られた溶液を、噴霧器を用い
０．２μｍフィルタを介して、アミノシランをベースと
する市販の接着剤（ＫＢＭ６０２）で処理した３′−シ
リコンウェーハ上に施した（１１００ｒｐｍ、２０秒、
層厚１．５　μｍ）。乾燥した後（７０℃、１０分、空
気中で）マスクを介して２０秒間露光しくランプは４２
１／ｃＩ１１２のＭＪＢ５５）、引続き水−アルカリ性
現像剤（Ａ２４００Ｋ、水で１＝５．５に稀釈）で９０
秒間現像した。これにより微細構造が得られた（ネガ画
像）。

舅−１市販のポリビニルフェノール（分子量＝９０００〜１ｌ
１０００）５を、Ｎ−メチル−２，６−シメチルー４−
（２’−ニトロフェニル）−１゜４−ジヒドロピリジン
−３，５ジカルボン酸ジメチルエステル（この製造につ
いてはドイツ連邦共和国特許第１９２３９９０号明細書
参照）Ｉｇと一緒にＮ−メチルピロリドン２０ｇに？容
かし、その際得られた溶液を、噴霧器を用い０．２μｍ
フィルタを介して、アミノシランをベースとする市販の
接着剤（ＫＢＭ６０２）で処理した３＃−シリコンウェ
ハ上に施した（１５００ｒｐｍ、２０秒、層厚１．４４
μｍ）、乾燥した後（７０°Ｃ１１０分、空気中で）、
マスクを介して１０秒間露光しくランプは４２ａ＋Ｗ／
ｃｍ”のＭＪＢ５５）、引続赤水−アルカリ性現像剤（
Ａ２４００Ｋ、水で１：９に稀釈）で２０秒間浸漬現像
した。これにより良好なコントラストを有する微細なネ
ガ型レリーフ構造体が得られた。

斑−ユ２．２−ジー　（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル
）１．１．ｌ、３，３．３−ヘキサフルオルプロパンと
２，２−ジー　（４−クロルカルボニルフェニル）　−
１，１，ｌ、　　３．　３．　３−へキサフルオルプロ
パンとから製造したポリベンズオキサゾール前駆物質〔
この製造についてはｒ　Ｐｏｌｙｍ。

Ｌｅｔｔｅｒｓ　Ｊ第２巻、１９６４年、第５７頁以降
参照］４ｇを、Ｎ−メチル−３，５−ジアセチル−４−
（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン
（この製造については［リービッヒス・アンナーレン・
デア・ヒエミー（Ｌｉｅｂｉｇｓ　Ａｎｎ、　Ｃｈｅｗ
、）　Ｊ第６７０巻、１９６３年、第５７頁以降参照）
Ｉｇと一緒にＮ−メチルピロリドン２０ｇに溶かし、そ
の際得られた溶液を、０．２μ−フイルタを介して、ア
ミノシランをベースとする市販の接着剤（ＫＢＭ６０２
）で処理した３″−シリコンウェハ上に施した（１００
０ｒｐｍ、２０秒、層厚１．９μ−）。乾燥した後（７
０°Ｃ１１５分、空気中で）、マスクを介して２０秒間
露光しくランプは４２ｍＷ／ｃｍ”のＭＪＢ５５）、引
続き水−アルカリ性現像剤（ＮＭＤ−３，０，１５％）
で８０秒浸漬現像した。その際得られた層を拡散炉中で
熱処理した（室温〜１７０°Ｃで１時間、１７０〜３０
０　’Ｃで１時間、３００〜４００．’Ｃ７’１時間、
４００°Ｃで１時間及び４００°Ｃ〜室温で４時間）、
これにより小さな焼戻しピーク（９％）を有する微細な
高温安定性のネガ型レリーフ構造体が得られた。

貰−土スチロール／無水マレイン酸−コポリマー（１：　１）
３ｇを、Ｎ−メチル−２，６−シメチルー４−（２′−
二トロフェニル）へ１，４−ジヒドロピリジン−３，５
ジカルボン酸ジメチルエステル（この製造についてはド
イツ連邦共和国特許第１９２３９９０号明細書参照）Ｉ
ｇと一緒にＮ−メチルピロリドンｌ１ｇに溶かし、その
際得られた溶液を、０．２μ鎮フイルタを介して、アミ
ノシランをベースとする市販の接着剤（ＫＢＭ６０２）
で処理した３″−シリコンウェーハ上に施した（１７０
０ｒｐｍ、２０秒、層厚１．４μｍ）。乾燥した後（７
０℃、１５分、空気中で）、マスクを介して１０秒間露
光した（ランプは４２ｍＷ／ｃｍ”のＭＪＢ５５）、露
光した層を水−アルカリ性現像剤（Ａ２４００に、水で
１：５に稀釈）で７５秒間現像し、次いで乾燥した（１
２０°Ｃ１１０分）。

これにより微細なポジ型レリーフ構造体が得られた。

Claims

【特許請求の範囲】１）ポリマー及び光活性成分からなる感光性混合物にお
いて、ポリマーが無水カルボン酸基又はフェノール水酸
基を有し、光活性成分が次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中基Ｒ＾１は同一又は異なるものでＲ＾１＝Ｈ、（
ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、ＯＨ、Ｏ−（ＣＨ＿２）−
ＣＨ＿３、（ＣＦ＿２）＿ｍ−ＣＦ＿３、Ｃ＿６Ｈ＿５
、Ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿５、ＣＯＯＨ、ＣＯＯ−（ＣＨ＿２）
＿ｎ−ＣＨ＿３、ＣＯ−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、
（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｍ−ＣＨ＿３、
（ＣＨ＿２）＿ｍ−ＯＨ、（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｐ−ＣＯ−
ＣＨ＿３、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩを表し、ｍ＝０〜１０
、ｎ＝０〜１０及びｐ＝１〜４であるか、又は２対のオルト位の基Ｒ＾１の一方は芳香族又はオレ
フィン不飽和六員環の構成成分であり、基Ｒは：Ｒ＝▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式
、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ 〔式中ＮＯ＿２基は常にジヒドロピリジン環に結合する
ためオルト位にあり、基Ｒ＾２は同一又は異なるものでＲ＾２＝Ｈ、（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、ＯＨ、Ｏ−
（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、（ＣＦ＿２）＿ｎ−ＣＦ
＿３、Ｃ＿６Ｈ＿５、Ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿５、ＣＯＯＨ、Ｃ
ＯＯ−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、ＣＯ−（ＣＨ＿２
）＿ｎ−ＣＨ＿３、（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｏ−（ＣＨ＿２
）＿ｍ−ＣＨ＿３、（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＯＨ、ＮＯ＿２
、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又は１を表し、ｍ＝０〜１０及びｎ＝
０〜１０である）を表し、Ｒ＾３は炭素原子数１〜７のアルキル、又は置換されて
いてもよいシクロヘキシル及びフェニルを表す〕で示さ
れるＮ置換１、４−ジヒドロピリジン又は１、４−ジヒ
ドロピリジン誘導体であることを特徴とするポリマー及
び光活性成分からなる感光性混合物。２）光活性成分が次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中基Ｒ＾１及びＲ＾２は同一又は異なるものであり
、基Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は前記のものを表す〕で
示されるＮ置換４−（２′−ニトロフェニル）−１、４
−ジヒドロピリジン又は相応する誘導体であることを特
徴とする請求項１記載の感光性混合物。３）無水カルボン酸基を有するポリマーが次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｒ／ｒ＋ｓ＝０〜０．６及びｒ＋ｓ＝４〜３００
０であり、Ｘ及びＹは同一又は異なるものであり、単結
合又は−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨＮＨ−、
−ＯＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ＿２−及び−ＣＯＯＣＯ
−を表し、基Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６
は同一又は異なるものであり、それぞれＨ、（ＣＨ＿２
）＿ｎ−ＣＨ＿３、Ｃ＿６Ｈ＿５、ＣＯＯＨ、ＣＯＯ−
（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、ＣＯ−（ＣＨ＿２）＿ｎ
−ＣＨ＿３、Ｓｉ〔（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３〕＿３
、Ｓｉ（Ｃ＿６Ｈ＿５）＿３、ＣＨ＿２−Ｓｉ（ＣＨ＿
３）＿３、Ｓｉ（ＯＣＨ＿３）＿３、Ｃ＿６Ｈ＿４−Ｏ
Ｈ、Ｃ＿６Ｈ＿４−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、Ｃ＿
６Ｈ＿４−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３及び（ＣＨ
＿２）＿ｎ−Ｏ−（ＣＨ＿２）−ＣＨ＿３を表し、ｍ＝
０〜１０及びｎ＝０〜１０であり、Ｒ＾１とＲ＾２又はＲ＾３とＲ＾４又はＲ＾５とＲ＾６
は互いに環状脂肪族又は芳香族的に結合されていてもよ
い〕を有することを特徴とする請求項１又は２記載の感
光性混合物。４）フェノール水酸基を有するポリマーが次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｐ＝１０〜１００００であり、Ｒ＝Ｈ、（ＣＨ＿
２）＿ｍ−ＯＨ、（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、ＯＨ、
Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＣＨ＿３、Ｃ＿６Ｈ＿５又はハ
ロゲンであり、ｍ＝１〜１０及びｎ＝０〜１０である〕
で示されるフェノール−ホルムアルデヒド縮合生成物で
あることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性混合
物。５）フェノール水酸基を有するポリマーが次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ、Ｒ＾＊、Ｒ＿１、Ｒ＾＊＿１及びＲ＿２は芳
香族基であり、ｎ＿１、ｎ＿２及びｎ＿３に関してはｎ
＿１＝１〜１００、ｎ＿２及びｎ＿３＝０、又はｎ、及
びｎ＿２＝１〜１００、ｎ＿３＝０、又はｎ＿１、ｎ＿
２及びｎ＿３＝１〜１００（Ｒ≠Ｒ＾＊及び／又はＲ＿
１≠Ｒ＿１＾＊）、又はｎ＿１及びｎ＿３＝１〜１００、ｎ＿２＝０（Ｒ≠Ｒ＾
＊及び／又はＲ＿１≠Ｒ＿１＾＊）である〕で示される
ヒドロキシポリアミドであることを特徴とする請求項１
又は２記載の感光性混合物。６）フェノール水酸基を有するポリマーが次の構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ及びＲ＾＊は同じであるか又は異なっていても
よい芳香族基であり、ｎは２〜１００である〕で示され
るヒドロキシポリイミドであることを特徴とする請求項
１又は２記載の感光性混合物。７）ポリマー対光活性成分の質量比が２０：１〜１：２
０、有利には１０：１〜１：１０であることを特徴とす
る請求項１ないし６の１つに記載の感光性混合物。８）請求項１ないし７の１つに記載の感光性混合物を基
板に層又は箔の形で施し、マスクを介して化学光線で露
光するか又は適当な光線を導くことによって照射し、露
光又は照射した層又は箔部分を溶出又は除去し、その際
得られた構造物を高めた温度で乾燥し、場合によっては
熱処理することを特徴とするレリーフ構造体の製法。９）感光性混合物を有機溶剤に溶かした溶液として基板
に施すことを特徴とする請求項８記載の製法。１０）接着剤及び／又は湿潤剤を使用することを特徴と
する請求項８又は９記載の製法。