JPS5822302A - 水素吸蔵金属の活性化処理方法 - Google Patents

水素吸蔵金属の活性化処理方法

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Publication number
JPS5822302A
JPS5822302A JP56119785A JP11978581A JPS5822302A JP S5822302 A JPS5822302 A JP S5822302A JP 56119785 A JP56119785 A JP 56119785A JP 11978581 A JP11978581 A JP 11978581A JP S5822302 A JPS5822302 A JP S5822302A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen
metal
plasma
oscillator
occluded
Prior art date
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Pending
Application number
JP56119785A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiro Ono
二郎 大野
Ryoichi Suzuki
良一 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5822302A publication Critical patent/JPS5822302A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/02Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
    • B22F9/023Hydrogen absorption

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水素吸蔵金属を容易に活性化する処理方法に関
する。水素吸蔵金属は将来に予想される水素エネルギ一
時代にさまざまな形での利用が期待されるのみならず、
太陽エネルギー利用システムの冷暖房装置材料中蓄熱材
料などとして用いることも検討されている。
水素吸蔵金属の製造方法は、一般に2種以上の金属を所
定の組成に溶解し、凝固させた後、粉砕して100メ、
シュ程度の微粉末にする6次て水素雰囲気中で活性化処
理を行ってはじめて水′aa蔵能力を有する合金を得る
ことができる。合金の種類によってはこの間の手間は大
変である。たとえば、代表的な水素吸蔵合金であるチタ
ン−鉄(TiF・)合金は特性が良いために実用性の高
い合金と考えられているが、活性化が大変であることが
普及をはげんでいると言える。TIF・合金の場合、現
状では100メッシ、程度に微粉化した合金を圧力30
〜60 kg/dの水素雰囲気中あるいは真空中で3日
〜7日間m度、常温と450℃の間を加熱・冷却の繰返
しを行った後にはじめて水素吸蔵能力を生ずるようにな
る。また、活性化を容易にするためにMu * Nbな
どの微量元素を添加したシ、活性金属を蒸着コーティン
グする方法などがとられているが、前者の場合には活性
化が容易になりても@層特性が低下することが多く、後
者の場合には従来の製造工程に新たに複線な工1!が追
加されることになる。
そこで、溶解、粉砕、さらには活性化が迅速かつ大量に
可能な製造工程を開発することが、今後水素吸蔵合金が
大量に使用されるための重要な課題となっている。その
ため本発明者は活性化が迅速かつ大量処理が可能な方法
について多々実験検討を行い、本方法を発明した。
本発明は微粉化した水素吸蔵金属を水素プラズマ中にさ
らし、短時間で活性化処理を行なう方法である。プラズ
マの種類は圧力が1気圧以上の比較的気体圧力の高い高
温プラズマと、気体圧力の低い低温プラズマがある。高
温プラズマの気体温度は数千度以上であるが、低温デラ
ズiの気体温度は高々数Zoo℃である。水素吸蔵金属
の微粉をこれらのプラズマ中にさらした場合、比較的凹
凸に富んだ表面は前者の場合溶融して球状になるが稜者
はほとんど形状が変化しない。しかし両者共に活性化さ
れた合金が得られる。従来の活性化処理法は高圧水素ガ
ス中に水素吸蔵金属をさらし、@度を上下させるなどに
より、金属表面に形成した酸化皮膜を除き、さらに金属
表−面が水素ガスを水素原子に解離させる触媒作用を示
すようになるまで活性化を繰返す。活性化した金属は水
素ガスを原子に解離させて原子の状態で吸蔵する。一方
水素プラズマは水素が原子に解離しているので、金属表
面の酸化被膜を還元するのみならず容易に金属内部に拡
散し、吸蔵されるようになる。一旦水素が吸蔵されると
金属格子に歪や小さい亀裂を生じ、その後は容易に水素
の吸蔵・放出を行うようになる。したがって従来水素ガ
スを用(た活性化処理方法と本発明の水素プラズマを用
いた方法は原理的に異なってお夛、水素プラズマ法線従
来法に比べてきわめて迅速に活性化することができるよ
うになる。
以下に実施例に従って詳細に述べる。
実施例1 第1図は低温プラズマを用いて、本発明を実軸するため
の装置の一例を示したもので、2450M)Ixの発振
111から金属アンテナ2で電波を導き、磁製管3を通
して、回転ドラム式のプラズマ共振器4にマイクロ波が
放射される。ガス出入管5からアルゴン501水素50
慢の混合ガスt−1気圧で500 CC/IIIIの一
定流量で共振器内に導入しておく。共振器内の混合ガス
はマイクロ波エネルギーを吸収して電離し、低温プラズ
マを形成する。
共振器4は回転ドラム形式になっておシ、この内でTI
F・合金の約100μ隅微粉末6は共振器が回転するに
つれてドラム内を落下してつねにプラズマと接触してい
る。マイクロ波発振器の容量が1kWの場合に500i
Pの合金微粉末が約2分間で活性化を完了した。この活
性化を完了した合金微粉末はきわめて活性であシ、空気
に触れると表面が酸化されて活性を失うため、図に示す
ようにあらかじめ水素で置換した貯蔵容iS8をパイプ
で接続し、合金取出し弁7の操作によって貯蔵容器内に
移す。
第1表にマイクロ波発振器の出力と処理合金の量、およ
び処理時間の関係を示した。
本発明の低温プラズマを用いた水素吸蔵金属の活性化処
理法拡、従来の水*、fスを用いる活性化処理方法では
高温(450℃)、高圧(30〜60 Kf/cyi”
 )および長時間(約1週間)を必要としたのに対して
、常温、常圧で僅か2分程度で活性化が完了する。
第1表  合金の処理能力 実施例2 通常の水素高温プラズマは、アルゴンと水素の混合ガス
を高周波電場に導くことによって作シ出せる。第2図は
高温プラズマを用いた活性化装置の一例である。
レーザー発生装置の上端に設けられたガス導入口11か
らアA−がン(50優)、水g(so饅)混合ガスを2
0ノ/an 1 !lで管内に導入し、高周波発条器9
、高周波コイル1oで励起して混合ガスをプラズマ化す
る。このプラズマ中にTIF・合金の約100μm微粉
末を2方向の合金導入口12がらアルゴンガスとともに
噴出させゾラズiによって活性化処理を行った。なお、
ゾラズi発生装置の外側は水冷ジャケット13によって
被われている。
活性化処理され九微粉末状合金は水冷ジャケットで被わ
れたロート状の試料受け14に集められ、その後パルプ
16を通して貯蔵容器17に空気にふれることなく貯蔵
される。高周波発条器の周波数は41ms 、出力50
 kWで処理した場合、毎分的1−の合金の活性化が出
来た。上記の実施例1および実施例2で活性化し7’j
 TIF・合金の40℃における水素吸蔵特性を篇3図
に示した。これらの曲線は、従来の高温、高圧水素で長
期間活性化処理した合金とほぼ勢しい特性を示し九〇
【図面の簡単な説明】
第1図は低温プラズマによる活性化処理装置の例を示す
図、第2図は高温fラズマによる活性化処理装置の例を
示す図、第3図は水素吸蔵合金の水素WkH,特性を示
す図である。 1・・・マイクロ波発振器、2・・・金属アンテナ、3
・・・磁製管、4・・・!ラズマ共振器(回転ドラム)
、5・・・混合ガス出入管、6・・・微粉合金、7・・
・合金取出し弁、8・・・合金貯蔵容器、9・・・高周
波発条器、10・・・高周波コイル、11・・・混合ガ
ス導入管、12・・・合金導入口、13−・・水冷シャ
ク、)、14・・・試料受け、15・・・混合ガス出口
、16・・・合金取出し弁、17・・・合金貯蔵容器。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  粉末状水素数賦金属をH(水素原子)を含む
    プラズマによって処理することにょシ活性化させること
    を特徴とする水素吸蔵金属の活性化処理方法。
  2. (2)粉末状水素1lIR金属をH(水素原子)を含む
    プラズマによりて処理することにょシ活性化させた後、
    空気にふれることなく貯蔵容器内に入れる仁とをq#像
    とする水jl!黴成合成金属性化処理方法。
JP56119785A 1981-07-30 1981-07-30 水素吸蔵金属の活性化処理方法 Pending JPS5822302A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58136701A (ja) * 1982-02-08 1983-08-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 微粒子のコーティング方法
US5587226A (en) * 1993-01-28 1996-12-24 Regents, University Of California Porcelain-coated antenna for radio-frequency driven plasma source
JP2007216095A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 National Institutes Of Natural Sciences 水素貯蔵金属又は合金の初期活性化方法及び水素化方法
CN103551560A (zh) * 2013-09-29 2014-02-05 鞍钢实业微细铝粉有限公司 一种改性铝粉的制造方法

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