JPS5822158B2 - 3−メチル−3−セフエム抗生物質の製法 - Google Patents

3−メチル−3−セフエム抗生物質の製法

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JPS5822158B2
JPS5822158B2 JP7210481A JP7210481A JPS5822158B2 JP S5822158 B2 JPS5822158 B2 JP S5822158B2 JP 7210481 A JP7210481 A JP 7210481A JP 7210481 A JP7210481 A JP 7210481A JP S5822158 B2 JPS5822158 B2 JP S5822158B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般にデアセトキシセファロスポラン酸と呼
ばれている7−アシルアミノ−3−メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸抗生物質の新規な製法に関するもの
である。
特に本発明は7−アシルアミノ−3−アセトキシメチル
−2−セフェム−4−カルボン酸を7−アシルアミノ−
3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸に転化する
方法に関するものである。
本発明によれば、7−アミンまたは7−アシルアミノ−
3−アセトキシメチル−2−セフェム−4−カルボン酸
をイオウ親核試薬と反応させて、3−アセトキシ基の親
核移動によって、3−チオ置換メチル−2−セフェム−
4−カルボン酸を作り、このようにして得られた3−チ
オ置換−メチル−2−セフェム化合物を触媒水添条件で
還元裂開を行ない、3−メチル−2−セフェムの裂開生
成物を作る。
このようにして得た生成物を3−メチル−3−セフェム
化合物、デアセトキシセファロスポラン酸またはエステ
ルに異性化することができる。
たとえば、3−チオ置換メチル−2−セフェム化合物の
触媒水添によって主成分として得られた3−メチル−2
−セフェム化合物は、そのスルホキシドを形成し、次に
このスルホキシドを周知の方法で還元することによって
異性化することができる。
本発明の方法によって得られた7−アシルアミノ−3−
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸は、デアセトキ
シセファロスポラン酸クラスの周知の抗生物質である。
本発明の方法によれば、デアセトキシセファロスポラン
酸はセファロスポラン酸か、ら、セファロスポラン酸を
2−セフェム化合物に異性化し、次に3−アセトキシメ
チル基をチオ親核試薬で親核置換することによって作ら
れる。
3−チオ置換メチル−2−セフェム生成物を後述のよう
に還元条件において処理して、3−メチル−2−セフェ
ム還元生成物を得る。
その生成物を更に周知の方法によってデアセトキシセフ
ァロスポラン酸にJKE化する。
セファロスポラン酸すなわち3−セフェムを2−セフェ
ムに異性化する工程は、周知の方法、たとえば、J、C
hem、Soc、(1966)1142;J、Org、
Chem、、 35 、2429 (1970)および
J、Am、Chem、Soc、、 85 、1896(
1963)に述べである方法によって行なわれる。
また3−アセトキシメチル−2−セフェム異性化生成物
の親核置換反応は、J 、Chem、Soc 。
(1965)5015、および米国特許第344680
3号;第3278531号;第3261832号;第3
239516号および第3243435号に述べである
方法によって行なわれる。
本発明の方法によれば、下記の一般式Iに現わされる3
−チオ−置換 メチル−2−セフェム化合物は、 触媒水添条件で還元されて、下記の一般式で現わされる
化合物を生じる。
前記の式においてRはチェニルアセチル、R1は水素、
ベンジルまたはその塩、Zはベンゾイル、エトキシチオ
ノカルボニル、またはアミジノである。
Zがアミジノを示す時、これによって現わされるインチ
オウロニウム塩または置換インチオウロニウム塩は、チ
オ尿素または置換チオ尿素を希望の7−アシルアミノ−
3−アセトキシメチル−2−セフェム−4−カルボン酸
(この場合R1は水素)と、米国特許第3278531
号の方法によって、下記の反応式によって反応させるこ
とによって作られる。
(尚、式中、R2,R3,R4およびR6はいずれも水
素を示す) 1:1− 前記の反応において用いることのできるチオ尿素化合物
の例はチオ尿素、N、N’−ジフェニルチオ尿素、テト
ラメチルチオ尿素、n−ブチルチオ尿素、N 、 N’
−ジエチルチオ尿素、N 、 N’−ジーn−へキシル
チオ尿素、N、N’−ジエチルチオ尿素、N−(2−フ
ェニルエチル)チオ尿素、N−メチル−N’−n−ブチ
ルチオ尿素およびフェニルチオ尿素である。
本発明の工程の出発材料である3−チオー置換メチル−
2−セフェム化合物は周知の反応によつで作られる。
式■の化合物を作るのには、まずセファロスポラン酸を
3−アセトキシメチル−2−セフェム化合物に異性化し
、そののちこの2−セフェム化合物をイオウ親核試薬で
親核移動反応によって、式Iの化合物をうる。
前記の異性化反応ならびに親核移動反応の方法ならびに
工程については、Webberなど、J 、Am、Ch
em、Soc 、 、 91 。
5674 (1969) ; MnrphyおよびKo
ehl er 。
J、Org、Chem、35.2429(1970);
Cockerなど、 J、Chem、Soc、 (19
65)5015およびCockerなど、J 、Che
m、Soc。
(1966)1142において述べられている。
式Iで現わされる3−チオ置゛換メチルー2−セフェム
化合物は本発明によれば次のようにして触媒水添条件で
還元される。
化合物を不活性溶剤の中に溶かし、約大気圧と約17.
6に9/d(2501ds /平方インチ)との間の圧
力に保持された水素ガス中において、水添触媒の存在に
おいて水添する。
この反応は25℃またはその前後において行なうことが
できるが、約り0℃〜約55℃の温度で一層速い速度で
還元が生じる。
この工程において用いることのできる溶剤は出発材料お
よび生成物と反応しない通常の水添溶剤であって、水添
条件において自らは還元されないものが好ましいこの種
の溶剤としては水;テトラヒドロフランジオキサン;メ
タノール、エタノールその他類似のもののごときアルコ
ール溶剤;酢酸エチル、プロピオン酸メチル、ブチル酸
メチル、酢酸イソアミル、酢酸アミルその他類似のエス
テルのごときエステル;アルコール類およびエーテル類
である。
用いられる特定の溶剤は、使用される出発材料の形にあ
る程度依存している。
また本発明の工程においては溶剤混合物も用いることが
できる。
たとえば50%エタノール水溶液のごときアルコール水
溶液を用いることができる。
本発明の工程の水添触媒としてラニーニッケルが好まし
い。
ケイソウ上止のニッケルのごとき他の形のニッケル触媒
も用いることができるが、ラニーニッケルは収率が高く
、還元時間が少なくてすむ。
ラニーコバルトおよび炭素上のパラジウムのごとき他の
触媒を用いて作ることもできる。
前述のように、水添反応は平方センナあたり約3.5〜
17.6kg(平方インチあたり約15〜250ポンド
)の水素圧のもとに行なわれる。
還元はこれより高い圧力でも生じるが、このように高い
圧力は必要でない。
触媒水添反応は標準的な水添装置、たとえばParr低
圧水添装置の中で行なうことができる。
あるいはまた、開いた容器の中において、水添触質を懸
濁状で含む式Iの化合物の溶液の中に水素ガスを通すよ
うにして行なうこともできる。
本発明の好ましい実施態様においては、テトラヒドロフ
ランと水の溶剤混合物中の3−エトキシチオノカルボニ
ルチオメチル−7−C2−(2’−チェニル)アセトア
ミドシー2−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩溶
液に対して、pHが8.8に調整されるまでトリエチル
アミンを滴下する。
次にこの溶液にラニーニッケルを加え、この混合物をP
arr低圧水添装置で、約3.2ky/d(45ポンド
/psi)の水素圧で水添する。
この還元は室温で約18時間行なわされ。
触媒をろ過し、フィルタ上でテトラヒドロフランで洗っ
た。
ろ液と洗浄液とを一緒にし、5%塩酸と酢酸エチルの混
合物に加えた。
有機層を分離し、水で洗って乾燥した。
乾燥された有機層を乾燥するまで真空蒸発して、主とし
て7−(2−(2−チェニル)アセトアミドシー2−セ
フェム−3−メチル−4−カルボン酸を含む結晶残留物
を得た。
テ ラニーニッケルと水素を用いて式■の化合物を還元
する場合、大抵の場合に主生成物として3−メチル−2
−セフェム還元生成物を生じる。
本発明の3−メチル−2−セフェム還元生成物は特徴的
な核電磁共鳴スペクトルを有する。
p 本発明によって作られる3−メチル−2−セフェム
化合物は周知の方法によってデアセトキシセファロスポ
ラン酸(3−メチル−3−セフェム化合物)に転化する
ことができる。
すなわち、3−メチル−2−セフェム化合物を有機過酸
化物好ましくはm−クロロベル安息香酸によって酸化し
、対応のスルホキシドを得る。
周知のように、セファロスポリンスルホキシドの形成に
ともなって、二重結合はΔ2−からΔ3一位に異性化す
る。
このようにして得られた3−メチル−3−セフェムスル
ホキシドを1968年、10月3日には、米国特願第7
64925号に述べである方法によって還元する。
3−メチル−3−セフェム還元生成物即ちデアセトキシ
セファロスポラン酸は、動物および植物の病源菌の成長
を抑制する周知の抗生物質である。
下記の一般反応式は本発明において用いられる方法なら
びに工程を示すもので、セファロスポラ・ン酸を中間生
成物を通してデアセトキシセファロスポラン酸に転化す
る本発明の方法ならびに工程の有効性を示している。
以下本発明を二、三の例によって説明する。
参考例 40m1の水の中に2゜2g(29ミIJモル)のチオ
尿素を溶かした溶液に、7.9g(19ミリモルの7−
1:2−(2−チェニル)アセトアミドクー2−セフェ
ム−3−アセトキシメチル−4−カルボン酸ナトリウム
塩を加えた。
この溶液のpHをIN水酸化ナトリウム添加によってp
H7に調整した。
そこでこの溶液を水浴中で18時間、60℃の温度に加
熱した。
混合物を室温前後まで冷却し、生じた沈殿物をろ過し、
フィルター上で水で洗った。
沈殿物を真空乾燥して、3.2gの3−アミジノチオメ
チル−7−〔2−(2−チェニル)アセトアミドクー2
−セフェム−4−カルボン酸、分子内塩を生じた。
元素分析、C15H16N4 o4s3について計算;
理論値: C,43,68; H,3,91; N、
13.59実測値: C,43,48; H,3,9
4; N、 13.32前記生成物はり、M、S、0.
d6において下記の核電磁共鳴スペクトルを示した。
また下記のデータはスペクトルにおいて観測されたトー
値である。
6.22 (s、 2H,側鎖メチレン);5.82
(m、2H−Csメチレン)、5.38 (S % I
H%C4H)、4.8 4.6 (m、 2H% C
aおよびC7−H) : 3.50 (s、 IH,C
2−H): 3.09−2、59 (rn、 3 H%
芳香族水素)および1.7(d。
LH,アミド水素)。
例1 25m1のテトラヒドロフランと251nlの水の中に
950〜(2,4ミリモル)の3−アミジノチオメチル
7−(2−(2−チェニル)アセトアミドクー2−セ
フェム−4−カルボン酸分子内塩を溶かした溶液に、5
gのラニーニッケルを加えた。
この溶液をPaar低圧水添装置の中で、約3.2kg
/d(45psi)の水素圧で、室温で約12時間水添
した。
触媒をろ過し、フィルタ上でテトラヒドロフランで洗っ
た。
ろ液と洗浄溶剤を一緒にし、5%塩酸と酢酸エチルの混
合物に加えた。
有機層を分離し、水で洗い、そののち硫酸マグネシウム
上で乾燥した。
乾燥した有機層を乾燥するまで真空蒸発させて、結晶残
留物を得た。
還元生成物は薄層クロマトグラフィと核電磁共鳴スペク
トルによって、7−(2−(チェニル)アセトアミドク
ー2−セフェム−3−メチル−4−カルボン酸であるこ
とが示された。
例2 25m1のテトラヒドロフランと25m1の水の中に5
00yn9の7(2−(2−チェニル)アセトアミドロ
ー3−エトキシチオノカルボニルチオメチル−2−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム塩を溶かした溶液に、
pHが88となるまでトリエチルアミンを加えた。
この溶液に5gのラニーニッケル触媒を加え、その混合
物をParr低圧水添装置の中で、15時間、約3.2
kg/d(45psi )の初期水素圧で水添した。
触媒をろ過し、テトラヒドロフランで洗った。
ろ液と洗浄液を結合し、5%塩酸と酢酸エチルの混合物
に加えた。
有機層を分離し、水で洗い、乾燥した。
乾燥した酢酸エチル溶液を乾燥するまで真空蒸発させ、
7−(2−(2−チェーし)アセトアミドシー3−メチ
ル−2−セフェム−4−カルボン酸を生じた。
例3 前例に述べた還元法によって、ベンジル 3−ペンツイ
ルチオメチル−7−(2−(2−fエニル)アセトアミ
ドクー2−セフェム−4−カルボン酸塩を還元して、結
晶還元生成物、7−[2’−(2−チェニル)アセトア
ミド]−3−メチルー2−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンジルを生じた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記の一般式の化合物の製法であって不活性溶剤中
    において、下記の一般式の3−チオ置換−メチル 2−
    セフェム化合物を、 水添触媒の存在における水素と反応させる段階を含む方
    法。 (前記の式において、Rはチェニルアセチル、R1は水
    素、ベンジルまたはその塩、 Zはベンゾイル、エトキシチオノカルボニルまたはアミ
    ジノである。 )
JP7210481A 1971-12-06 1981-05-13 3−メチル−3−セフエム抗生物質の製法 Expired JPS5822158B2 (ja)

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US20529171A 1971-12-06 1971-12-06

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JPS5726691A JPS5726691A (en) 1982-02-12
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JPS5821635B2 (ja) 1983-05-02
JPS4885591A (ja) 1973-11-13
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