JPS58220297A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS58220297A
JPS58220297A JP57102835A JP10283582A JPS58220297A JP S58220297 A JPS58220297 A JP S58220297A JP 57102835 A JP57102835 A JP 57102835A JP 10283582 A JP10283582 A JP 10283582A JP S58220297 A JPS58220297 A JP S58220297A
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capacitor
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、アルファ粒子によるソフトエラーを防iE
するようにした高信頼性を有する半導体記憶装置に関す
る。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
半導体記憶装置には大きくわけて、ダイナミ、り形とス
タテイアク形のものがあり、前者ゆそれぞれ1個のキャ
ノ!シタおよびトランジスタで1つの記憶セルを、構成
している。また後者のスタティック形のものは第1図に
示すように4個のトランジスタ11〜14と2個の抵抗
15゜16とで1つの記憶セルを構成している。なお、
第1図においてBL 、“肛はビット線であり、乳はワ
ード線である。
上記ダイナミック形の半導体記憶装置の場合、電荷をキ
ャパシタに蓄積することによって情報の記憶保持を行な
うため、各素子が微細化されるにつれて蓄積電荷量が小
さくなり、外部からアルファ粒子が入射することにより
記憶内容が容易に破壊されるソフトエラーと称する誤動
作が問題となっている。
一方、上記スタティック形半導体記憶装置の場合、抵抗
15または16のいずれかを介して常に電流を供給する
形で記憶保持を行なうため、上記ソフトエラーに対して
は強いとされている。
ところがこの場合にも素子の微細化および低消費電力化
に伴い、ソフトエラーを発生する可能性が強くなってき
ている。すなわち、第1図において、各素子の微細化を
図るに伴ない、負荷となる抵抗15.16そ′れぞれと
駆動用のトランジスタ11.12それぞれとの接続点に
おける記憶ノードN 1  e N @の浮遊容量が小
さくなる。また、低消費電力化のために、抵抗15゜1
6の値を大きくしなければならない。そこでいま、アル
ファ粒子がノードN2に相当する接合付近に入射したと
すると、これによる電流工αが第1図に示すようにノー
ドN3とアースとの間に流れる。アルファ粒子が入射し
たことにより流れる上記電流■αは、第2図の波形図で
示すように非常に幅の短かいパルス状の電流でありその
ピーク値は300〜400μ人にも達し、総電荷量は1
00フエムト(10−15)クローンにもなる。この値
はノードN、における接合面積にほとんど依存せず、素
子の微細化に伴なってIαの値が小さくなることは期待
できない、現在の半導体記憶装置の集積密度のレベルか
らいうと、ノードNlの浮遊容量は約10ブエムトフア
ラツド程度で、ここに蓄積できる電荷量は高々50フエ
ムトクローンにしかならない。この値は■αによる総電
荷量より小さく、また抵抗16の値はギガオームの桁で
あるため、上記電流■αが流れることによって記憶内容
が破壊してしまう。
〔発明の目的〕
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
、その目的はアルファ粒子の入射に5− よって生じるソフトエラーの発生が防止でき、もって信
頼性の高い半導体記憶装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するためこの発明にあっては、直列接続
された2個の抵抗素子を負荷として有する2組のインバ
ータの入力端と出力端を互いに交差するようにたすきか
け接続してフリップフロップ回路を構成し、各インバー
タにおける2個の抵抗の接続点に2個の各容量それぞれ
の一端を接続し、各容量の他端は異なるインバータの出
力端に接続するようにしている。
〔発明の実施例〕
以下図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第3図において正極性の電源電圧VCC印加点とアース
電隼点との間には2個の抵抗21.22とトランジスタ
23が直列挿入されている。そしてこの抵抗21.22
およびトランジスタ23は、2個の抵抗21.22を負
荷とし、またトランジスタ23を駆動素子とするインバ
ータとを構成していて、抵抗22とトランジスタ23と
の接続点を出力ノードN1としている。これと同様に、
■cc印加点とアース電位点との間には2個の抵抗31
.32とトランジスタ33が直列挿入されている。そし
てこの抵抗31.32およびトランジスタ33は、2個
の抵抗31゜32を負荷とし、またトランジスタ33を
駆動素子とするインバーター34を構成し、抵抗32と
トランジスタ33との接続点を出力ノードN1としてい
る。インバータ24の出力ノードN。
はインバータ月の入力ノードとなるトランジスタ33の
ダート電極に、インバータUの出力ノードN2はインバ
ータ互」の出力ノードとなるトランジスタ23のダート
電極にそれぞれ接続ざnている。すなわち、上記2つの
インバータ24.34は、その人力ノードと出力ノード
とが互いに交差するようにたすきかけ接続されて、1ビ
ツトの情報を記憶するための7リツプフロツプ40を構
成している。
上記抵抗21.22の接i点には容量25の一端が接続
され、この容量25の他端はインバータ34の出力ノー
ドNZに接続されている。
上記抵抗31.32の接続点には容i s sの一端が
接続され、この容量35の他端はインバータ互]の出力
ノードNlに接続されている。
上記インバータLΔの出力ノードN、  ト一方(7)
ビット線BLとの間には情報伝達制御用のトランジスタ
26が、インバータ34の出力ノートN2と他方のビッ
ト線”肛との間にはもう1つの情報伝達制御用のトラン
ジスタ36がそれぞれ挿入されている。そして上記両ト
ランジスタ26.36のダート電極は共通のワード練乳
に接続されている。
さらに上記一方のインバータ互1の出力ノードNl と
アース電位点との間には、このノードN1に存在してい
る種々の容量、たとえばトランジスタ23.26のソー
ス、ドレイン領域と基板との間の接合容量やトランジス
タのダート容量をまとめて叫価的に表わした容量27が
挿入されている。そしてこれと同様に、他方のインバー
タ34の出力ノードN2とアース電位点との間にも種々
の容量をまとめて等制約に表わした容量37が挿入され
ている。
なお、第3図中のトランジスタはすべてNチャネルでエ
ンハンスメント型のMOS )ランジスタである。
また第3図において、抵抗21.22.31゜32の値
はそれぞれR1、R2r R3* Raに・容量25.
35はそれぞれC1、C,に設定され、容量27.37
の値はそれぞれC1,C4であるものとする。
そしてこの実施例回路ではR1>Ra *R@>R4の
場合に下記の(1)〜(6)式を満足している。
CIR2(t、  ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・曲曲・<5)CsR4< 
ty  ・・・・・・・・・・開聞面曲・・・・曲曲<
6)ただし、 vo:出力ノードNlまたはN、における高し9− ベル電位の平均値 VTN : )ランジスタ23.33のしきい値電圧、
すなわち両トランジスタが高レベルとして検出する電位
の下限値 td:アルファ粒子入射時に発生する電流ノ4ルス信号
のノ4?ルス幅(通常は0.3 ns程度)tw:書き
込みモード指定信号(リード・ライト信号A)のパルス
幅の最小値 次に上記のように構成された回路の作用を説明する。い
ま、一対のビット線BL 、−肛のうち一方のビット線
BLに低レベルの情報を、他方のピッ) 線BLに高レ
ベルの情報をそれぞれ与え、さらに図示しない書き込み
モード指定信号によって書き込みモードを指定する。す
ると、ワード練乳に所定ノ4ルス幅を持つ高レベル信号
が与えられて、トランジスタ26.36が共にオン状態
となる。この後、ビ、)線BL、“BLノ情報によりノ
ードN1が低レベルに、またノードN2が高レベルとな
るように両レベルが設定される。
この状態でいまアルファ粒子が入射し、この時発生した
キャリアが収集されてノードN2に負の電荷が流れ込ん
だとする。ノードN!に接続されている容量37の値C
4は現在の技術レベルでは15フ工ムトフアラド程度で
あり、ここに蓄積できる電荷量は75フ工ムトクーロン
程度である。そしそこの値は今後、さらに小さくなって
いく。これに対しアルファ粒子による電荷量は100フ
エムトクーロン程度であるために、上記容量37に蓄積
されていた電荷はアルファ粒子入射時に発生する電流ノ
9ルス信号のノ9ルス幅tdの期間にほとんど放電され
る。
一方、上記情報の書き込み時に2個の容量25.35は
、それぞれノードN2に近い側の端子が高電位となるよ
うに予め充電されている。
したがって、上記容量37の放電期間に、内容量25.
35からノードN!に対して放電が起こる。すなわち、
一方の容量25における放電電流はR1)R+aである
ため抵抗22および容量25を介して、他方の容量35
における放電電流はR3)R4であるため容量35およ
び抵抗32を介してそれぞれ流れる。容量37の放電が
終了した後に、容量2s、s5の電荷はそれぞれexp
(−t(1/C1Rz ) r exp(−td/Ca
R4)まで減少する。ここで抵抗21.31の値である
R1およびR3はそれぞれ、低消費電力化のために通常
ギガオーム程度に設定されている。このためtdの数倍
後の時点でのノードN2の電位は3個の容量25,35
.37による電荷の再分布のみによって決定され、cl
”Ca  とすれば、コノ値ハ2voC3@″″″d/
C3R4/ (20,十C4)  トナル。
そしてこの電荷再分布後のノードN2における電位がト
ランジスタ23のしきい値電圧VTNよりも高い状態に
あれば、トランジスタ23はオン状態となってノードN
1の電位は上昇できずトランジスタ33はオフ状態のま
まとなり、ノードN8は抵抗31.32を介して充電さ
れ、ここの電位は・順奏界の高レベルに復帰する。
すなわち、アルファ粒子が入射しても、ソフトエラーに
よるノードN2の情報の破壊は生じない。
次に上記電荷再分布後のノードN2における電位とトラ
ンジスタ23のしきい値電圧VT)iの大小関係から、
アルファ粒子が入射した場合でもノードN2における記
憶情報が破壊されないための条件を求める。
まず、 VTN (2VOC8@−”d′。s R47(2C1
l +C4) ・<7)次に上記(7)式の両辺ニ(2
C4+C4)/2VoCaを掛けると次の(8)式が得
られる。
さらに上記(8)式の両辺の対数をとると次の(9)式
が得られる。
上記(9)式の両辺を−1で除算してまとめると次の0
1式になる。
さらに上記α1式をまとめると次のαη式が得ら19− れる。
一方、上記(8)式ニオイテ右辺ノ・−td;/c3R
4ノ値は0から1の間の値である。したがって、こ式を
五 の(8)式の左辺のvTN2voc3 の値!少ff≦
とも1より小さい値であるため、上記α諸式が成立する
上記α→式の両辺を可で除算してまとめると次のe11
式が得られる。
ここで上記α環式とα諸式は前記(2)式および(4)
式にそれぞれ一致している。したがって、ノードN2に
おける高レベルの情報は、アルファ粒子が入射してこの
ノードN2に電流パルス信号が流れたとしても破壊され
ない。
またノードN2の場合と同様に、今度はノー14− ドN1が高レベルとなるように情報が記憶されている場
合に、アルファ粒子が入射してノードNlに負の電荷が
流れ込んだとする。そして3個の容量25.35.2’
lによる電荷再分布後のノードN1の電位は2V□C1
e−d′。tRy’(2Cx+C*)となる。そしてこ
のノードN1における電位がトランジスタ33のしきい
値電圧VTNよりも高い状態にあれば、前記と同様に情
報は破壊されず元の状態になる。さらに前記と同様にし
てノードN1の電位とトランジスタ33のしきい値電圧
VTHの大小関係から記憶情報が破壊されないための条
件を求めると、次の61式および(ト)式が得られる。
この場合にも上記α4式と0啼式は前記(1)式および
(3)式にそれぞれ一致している。
また前記(3)式および(4)式はCIR,とCsR4
の最小値を決定する条件式である。ところがClR2お
よびC3R4の値をむやみに大きくすると、情報書き込
み時にその書き込み時間内に情報を書き込めない状態が
発生する。したがって、これ。
を防止するには、前記(5)式および(6)式を満足す
るようにCIR,とC3R,の最大値を決定する必要が
ある。
なお、抵抗22.32それぞれは、容量25゜35それ
ぞれの電極と一体にした分布定数回路で実現することも
可能である。
第4図はこの発明の他の実・流側の構成を示す回路図で
ある。この実施例回路では容量25゜35の一端をイー
ドN、、N、それぞれに接続せずに、vcc電位あるい
はアース電位に設定されているノードN 3  r N
 4それぞれに接続するようにしたものである。そして
この実施例回路ではR1> Rz  r R8> R4
の時に下記のαす〜クヤ式を満足している。
ClRa<tw  ・・・・・・・・・・・・・曲・曲
曲曲・面切容量37.27それぞれの放電期間において
、ノードN、、Nlに対する放電に寄与する容量はそれ
ぞれ容量35のみ又は25のみである。
したがって、予めノードN、に高レベルの情報が記憶さ
れている場合、このノードN!にアルファ粒子入射によ
る負の電荷が流れ込んだ後の電荷再分布後のノードN3
における電位は、上記実施例回路の場合の半分の vocl e−’d/CsRゾ(2C1+C4)トする
。したがっテ前記と同様にこの値とVTNとの関係から
前記(19式とα1式に対応する式をもとめると、次の
に)式およびに)式が得られる。
これと同様にしてノーp N 直についても解くと、次
の(ハ)式および(ハ)式が得られる。
ここで上記に)〜(ハ)式は前記α・〜0*式に一致し
ている。したがって、ノードN1+N3におけル情報ハ
、アルファ粒子が入射して両ノードに電流・寺ルス信号
が流れたとしても破壊されない。
また上記に)式および(ハ)式はClR2とC,R4の
最小値を決定する条件式である。この場合にもClR2
* C8R4の値をむやみに大き゛くすると、情報を書
き込めない状態が発生する。したがって、これを防止す
るには、前記(イ)式およびIC式を満足するようにC
IR,とC,R4の最大値を決定する必要がある。
第5図はこの発明のさらに他の実施例の構成を示す回路
図である。この実施例回路では前記2個の容量25.3
5の一端どうしを接続して、抵抗21と22の接続点お
よび抵抗31と32の接続点相互間に等測的に1個の容
量45を挿入するようにしたものである。そしてこの実
施例回路では容量45の値をC5とし、”t>Ri+R
,>R4の時に下記の一〜■式を満足している。
C,R鵞< tw・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・伺CllR4< tw  ・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・句この実施例回路では、ノードN1.
N2へのアルファ粒子入射による負の電荷が流れ込んだ
後の電荷再分布は、容量45に蓄積されている電荷が放
電される時に生じる2個の抵抗22゜32を介して流れ
る電流により行なわれる。したがって、前記と同様にし
て、電荷再分布後のノードN1.N、における電位とV
TNとの大小関係式を解くと、上記(ハ)〜(ハ)式と
同じ式が得られる。また、上記(ハ)、(31式は、前
記と同様に、CB’8B’ r C6H5の最大値を与
える条件式である。
なお、この発明は上記した各実施例に限定されるもので
はなく種々の変形が可能である。たとえば上記各実施例
では一対のインバータ24゜34それぞれの負荷となる
抵抗2 J 、22.31゜32をR1−R4とした時
に、R1>R,および’8M )R4なる関係を満すよ
うに各値を設定する場合について説′明したが、これは
その逆にR1<RzおよびR,<Raとなるように設定
してもよい。そしてたとえば第3図に示す実施例回路に
この関係を導入する場合には、下記の@)〜(支))式
を満足するように各値を設定すれば、アルファ粒子入射
時における情報の破壊を防止することができる。
CIRI<贈 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
5)CIR8<糟 ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・°
・(2)〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明によれば、アルファ粒子の
入射によって生じるソフトエラーの発生が防止でき、も
って信頼性1の高い半導体記憶装置を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体記憶装置の回路図、第2図はアル
ファ粒子が入射した際に生じる電流ノ4ルス信号の波形
図、第3図はこの発明の半導体記憶装置の一実施例の回
路図、第4図はこの発明の他の実施例の回路図、第5図
はこの発明のさらに他の実施例の回路図である・ 21.22.31.32・・・抵抗、23.26゜33
.36・・・トランジスタ、24.84・・・インバー
タ、25.17.35.3’;r、4B・・・容量、4
0・・・フリツノフロップ、BL 、 BL・・・ビッ
ト線、乳・・・ワード線。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦箪 1 ヲ 第2図 100 200 300 400 − El’!Fl苗(1)木斧) 第5図 特許庁長官  若 杉 和 夫  殿、1、事件の表示 、特Ill昭57−102835号 2、発明の名称 半導体、記憶装置 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 (307)  東京芝浦龜気株式会社 4、代理人 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙の通り「■正する。 (21第9頁の(3)式を下記の通り訂正する。 記 (3)第9頁の+41式を下記の通り訂正する。 記 (4)第10頁第2行目ないし第4行目にr VTN 
:トランジスタ・・・・・・の下限値」とあるをr V
TN ニップの61.uOnの状態5、が破壊でれずに
安定状態に復帰可能な、インバータの出力ノード間の電
位差の最小の値」に引止する。 (51第17頁の0榎式を下記の通り訂正する。 (6)  第17頁のa鶏式を下記の通り訂正する。 記 2、特許請求の範囲    、 (1)負荷となる血列接蔽された第1.第2の抵抗素子
および駆動用のトランジスタからそれぞれなり、負荷と
トランジスタとの接続点を出力端とする2組のインバー
タの入力端および出力端を互いに交差接続して栴成され
るフリップフロップと、上記第1.第2の抵抗素手の接
続点にその一端が接続される謝1の容量と、上記インバ
ータの出力端に゛□接続される第2の容量とを具備し、
上記第1.第2の抵抗素′子の値をRI * R2、上
記第1.第2の容量の値をCI。 C2、上Eインバータ“の出力端における高レベル電位
の平均値を■。、上記フリップフロップの61°゛、u
O”の状態が安定した状態に復帰し得る”上記インバー
タや出力端間の電位差の最小値をVTN、アルファ粒子
の入射により発生したキャリアか収集されて生じる電流
・母ル夏が消滅するのに要する時間なtdとした場合に
、インバータの出力端との間に直列接続されていてその
値の間にR,)R,なる関係がある時に、書き込みモー
ド指定のために用いられる制卸ノ母ルス伯号の・9、ル
ス幅の最小値をtyとした場合に、C1R,< twの
条件を満足゛している特許論インバータの出力端との間
に直゛列接続され°ていてその値の間にR1(R,なる
関係がある時に、書き込みモード指定のために用いられ
る制卸ノクルス伯号のパルス幅の最小値をtvとした場
合に、C,R1<tWの条件を満足している特許請求の
範囲第1項に記載の半導体記憶装置。 (4)  前記第1の容量の他端が他方のインノ々−タ
の出力端に接続されている特許請求の範囲第1項に記載
の半導体記憶装置。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦3−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)負荷となる直列接続された第1.第2の抵抗素子
    および駆動用のトランジスタからそれぞれなり、負荷と
    トランジスタとの接続点を□出力端と、する2組葛イン
    バータの入力端および出力端を互いに交差接続して構成
    されるフリップフロップと、上記第1.第2の抵抗素子
    の接続点にその一端が接続される第1の容量と、上記イ
    ンノ々−夕の出力端に接続される第2の容量とを具備し
    、上記第1.第2の抵抗素子の値をR11R2、上記第
    1 、第ンの容量の値をCi、C,、上記インバータの
    出力端における高レベル電位の平均値を■。、トランジ
    スタが高レベルとして検出する電位の下限値をvTN%
    アルファ粒子の入射により発生したキャリアが収集され
    て生じる電流・ぐルスが消滅するのに要する時間をtd
    とした場合に、 を満足することを特徴とする半導体記憶装置。 轄)前記第1.第2の抵抗がこの順に電源とインバータ
    の出力端との間に直列接続されていてその値の間にR,
    >R,なる関係がある時に、書き込みモード指定のため
    に用いられる制御・母ルス信号の・母ルス幅の最小値を
    tWとした場合に、cln露、<、tWの条件を満足し
    ている特許請求の範囲第1項に記載の半導体記憶装置。 (3)前記第1.第2の抵抗がこの順に電源とインバー
    タの出力端との間に直列接続されていてその値の間にR
    1,(1’t、なる関係がある時に、書き込みモード指
    定のために用いられる制御パルス信号のパルス幅の最小
    値を鴨とした場合に、CIRr < tyの条件を満足
    している特許請求の範囲第1項に記載の半導体記憶装2
    置。 (4)前記第、1の容量の他端が他方のインバータの出
    力端に接続されている特許請求の範囲第1項に記載め半
    導体記憶装置。
JP57102835A 1982-06-15 1982-06-15 半導体記憶装置 Granted JPS58220297A (ja)

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EP89101197A EP0316307A1 (en) 1982-06-15 1983-06-14 Semiconductor memory device
US06/504,125 US4532609A (en) 1982-06-15 1983-06-14 Semiconductor memory device
EP83105819A EP0098417A3 (en) 1982-06-15 1983-06-14 Semiconductor memory device

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Cited By (2)

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