JPS59180893A - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPS59180893A
JPS59180893A JP58056096A JP5609683A JPS59180893A JP S59180893 A JPS59180893 A JP S59180893A JP 58056096 A JP58056096 A JP 58056096A JP 5609683 A JP5609683 A JP 5609683A JP S59180893 A JPS59180893 A JP S59180893A
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JP
Japan
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Pending
Application number
JP58056096A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Priority to DE8383106729T priority patent/DE3381955D1/de
Priority to EP83106729A priority patent/EP0100011B1/en
Priority to US06/514,350 priority patent/US4613957A/en
Publication of JPS59180893A publication Critical patent/JPS59180893A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • G11C7/065Differential amplifiers of latching type
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は半導体メモリ、特にROM (リードオンリメ
モリ)の差動形センスアンプ用の比較電位発生回路に関
する。
〔発明°の技術的背景とその問題点〕
一般に差動形センスアップは、その動作が安定でしかも
極めて微小な電位差を検出できることから半導体メモリ
によく用いられる。この場合、読み書き可能なRAM 
(ランダムアクセスメモリ)等では、メモリデータとし
て互いに逆レベルの1対のデータが出力されるため、こ
の1対のデータを差動形センスアンプの1対の入力端に
導くようにしているが、ROMでは′1#もしくはt 
Osのいずれか一方のデータしか出力しないので、RO
MQ差動形差動形センスアップはメモリセルと同等のト
ランジスタを用いて比較電位を用意しておいて列線電位
(データ)の読み出しを行なうようにしている。
第1図は、たとえばNチャンネルプロセスによシ製造さ
れた絶縁ダート型電界効果トランジスタ(MOS−FE
T)を用いた従来のマスクROM tl−示すものであ
シ、10はメモリセルアレー、11群はメモリセル用ト
ランジスタ、12群は列選択用トランジスタ、13は行
デコーダ、14は列デコーダ、15群は行線、16群は
列線、17〜19は負荷トランジスタ、zo、zxはバ
イアス電圧発生用抵抗でオシ、上記メモリセルアレー1
0から読み出きれるデータによシ決定される列線電位v
1は差動形センスアンプz2の一方入力となる。なおこ
のセンスアンプ22において、CE、CEは制御入力で
ある。
一方、23は比較電位発生回路であって、前記メモリセ
ル用トランジスタ11と同等の比較用トランジスタ24
を用いて比較電位■2を生成し、前記差動形センスアン
プ22の他方の入力とするものであり、25.26は前
記抵抗20.21と同様のバイアス電圧発生用抵抗、2
7は列デコーダ14から1”レベルカダートに与えられ
てオン状態に設定された前記列線ダート用トランジスタ
12と同等のトランジスタ、28〜30は前記負荷トラ
ンジスタ17〜I9と同等のトランジスタである。そし
て、31.32は上記比較用トランジスタ24のダート
に一定電位を印加するためのバイアス用抵抗である。
而して上記ROMにおいては、比較用トランジスタ24
のダート電位が一定であるため、比較電位V2は第2図
に示すように時間経過に対して一定の固定電位である。
従って、ROMのデータ読み出し時に列線電位Vlが第
2図に示すように比較電位v2を横切るように変化した
とすると、差動形センスアンプ22の出力が反転し、出
力バッファ回路33の出力Voは第2図中点線で示すよ
うに変化する。例えば選択されたメモリセルのしきい値
が高いとメモリセルはオンせず、列線は充電され、低い
と選択されたメモリセルはオンし、列線は放電される。
このようにメモリセルトランジスタのしきい値によシデ
ータのul”、′0”が記憶される。しかしこの第2図
の電圧波形からも分るように、差動形センスアンプ22
は、列線電位Vlが比較電位v2を横切ったところでセ
ンスアンプ出力レベルが変化する。そのためメモリデー
タの読み出し速度は、列線の充放電時間が支配的でおっ
た。
そこでメモリデータの読み出し速度を速めるために、列
線電位の充放電を速める各種の工夫はなされているが、
メモリデータの検出方法即ち差動形センスアンプ部分に
関する工夫は余シなされていない。
〔発明の目的〕
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、センスアン
プ部分を改良することによシ、メモリデータの読み出し
速度を上げ得る半導体メモリを提供しようとするもので
ある。
〔発明の概要〕
本発明は上記目的を達成するため、列線と容量結合をも
2節点を設け、この節点の電位を検出するようにしたも
のである。
〔発明の実施例〕
以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第3
図(、)は同実施例の回路図、同図(b)はその内部ノ
ードの電圧波形を示す。第3図(、)において節点りは
、前記第1図の列線電位v1を与えることになる。節点
x1は節点りと容量C1を介して結合され、更に容量C
2を介して接地される。同様に節点x2は容量Cs k
介して節点りと結合され、更に容量C4ft介して接地
されている。また節点xlp*1は、それぞれ電源■と
接地間に直列接続された抵抗R1yR2の接続点、抵抗
R3+ R4の接続点に結合され、節点11pXZは、
トランジスタ1〜4よシなる差動型センスアンプDF、
の一対の入力となる。
また容量”s =Cs  t C2<C4の関係が成シ
立つように容量CI −C4は設定される。
第3図(、)の回路において、節点りが充電方向に変化
すると、容量C1、Csの容量結合によシ節点X1yX
11の電位が変化する。この時容量02<04であるた
め、節点x1の方がx2に比べて急速に変化し、Xl 
 e Xiに電位差が生じる。この電位差を差動アン7
’DF1で検出し、例えば節点人の電位2aニア−′−
夕として出力する。
節点りの変化が止まると、節点X1?X2はそれぞれ抵
抗R11R2及びRgpB<により所定電位まで放電さ
れる。節点X1.!2が同一電位レベルになっても、差
動アン7’DFiは一種の7リツプフロツプ結合になっ
ているため、その状態を保持する。次に節点りが充電さ
れた状態から放電方向へ変化する時も、同様に節点Xl
O方の変化が急なだめ、xl  + Xlに電位差が発
生し、このことで差動アンfDF1がデータを読み出す
ことができる。なおこの例では容量C1<04にして節
点X1+X2の電位変化に差をつけたが、容量C2、C
,は特に設けなくとも、容量C,とC3に差をつけても
よい。
例えばCs>’Csに設定すれば第3図(b)と同様な
結果になる。まだ容量結合をもつ節点X2の電位変化は
節点りよシ遅いので、節点りとX。
の変化を差動アンプDF、で検出してもよい。
上記のように節点りと容量結合をつけることで節点りの
電位変化をすばやく検出できるため、読み出し速度の速
い半導体メモリが得られるものである。
第4図(、)は本発明の他の実施例を示す回路図、の回
路はトランジスタ10〜14及び16〜20が付加され
ているが、容量関係は前実施例と同様にCI −C3+
 C2<C4である。第4図(、)において節点り即ち
列線が″′0″レベルの時、トランジスタ10.16は
オフ、そのため節点X1+X2はそれぞれffレッショ
ン型トランジスタ14.20によ逆放電され、トランジ
スタ12.Igがオフする電位以下になると、節点x3
.x4がそれぞれ″1″ルベルになり、トランジスタ1
3.19がオンし、節点x1はトランジスタ13.14
の導通抵抗の比で決まる電位になる。節点x2も同様に
トランジスタ19.20の導通抵抗の比で決まる電位と
なる。
これら節点の電位は、Xl<Xl となるように節点り
が“0″レベルの時に設定される。即ち節点りが0”レ
ベルの時には、X1+X2の電位差が第3図(a)で示
したよりな差動型センスアンプDF !で検出される。
この状態から節点りが充電方向に変化すると、容量C1
〜C4により第3図(、)の場合のようにXIがXlよ
りも速く変化するため、Xlがx2の電位を超え、この
時これをセンスアンプが検出し、データとして出力する
ことになる。
次に節点りが“1”レベルにな多安定すると、トランジ
スタ10がオンし、Xlの電位はトランジスタ10.1
4の導通抵抗の比で決まる。
またx2の電位はトランジスタ16,2θの導通抵抗の
比によシ決定される。この状態において電位はxl)x
2となシ、この電位差で差動アンプはデータを安定に出
力する。同様に節点りが放電方向へ変化する時も、xl
の変化がx2に比べて急であるため、節点りの変化がセ
ンスアンプですばやく出力される。この例の場合も第3
図<−>の場合同様、C1>C3とすればC2vC4は
特に必要ない。
第5図(、)は本発明の更に他の実施例の回路図、同図
(b)はその内部ノードの電圧波形を示す。この実施例
は、容量C11+C12r Fランジメタ31〜35よ
シなるゲートG1 、トランジスタ36〜40よシなる
ゲートG2 、トランジスタ41゜42よシなるインバ
ータを有し、節点りと容量結合した節点zoの電位と、
節点り自体の電位が、その大きさ及び変化速度を異にす
ることを利用している。
いまダート回路G1 、G2のしきい値電圧vXとする
と、節点りが充電方向へ変化する時は、選点りの電位が
しきい値電圧■工を通過したときデータが検出され、節
点りが放電方向へ変化する時は、節点りと容量結合され
たzoがVを通遇する時にデータを検出するようにして
いる。
節点zoは、節点りの電位のα倍(0くαく1)である
ため、節点りが放電方向にある時は、節点zoがよシ速
くデート回路のしきい値電圧vxを通過し、従りてデー
タ検出がよシ速く行なえるものである。
〔発明の効果〕
以上説明した如く本発明によれば、列線電位を容量結合
によシ検出することで、列線電位の充電方向か放電方向
かの電位変化をすばやく検出することができる。よって
メモリのデータ読み出し速度をより速く行なうことがで
きるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体メモリを説明する゛回路図、第2
図は同回路の動作を示す波形図、第3図(、)は本発明
の一実施例を説明する回路図、同図(b)は同回路の動
作を示す波形図、第4図(、)は本発明の他の実施例を
説明する回路図、同図(b)は同回路の動作を示す波形
図、第5図(a)は本発明の更に他の実施例を説明する
回路図、同図(b)は同回路の動作を示す波形図である
。 11・・・メモリセル、15・・・行線、16・・・列
線、xl  + x2 ”・節点、C,−c4・・・容
量、DFl・・・センスアンプ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第2図 第3図 (a) (b) (b) (b)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)行線と、この行線により選択されるメモリセルと
    、このメモリセルからのデータを受ける列線と、この列
    線と容量結合をもつ節点と、この節点の電位によシ前記
    メモリセルのデータを検出する手段とを具備したことを
    特徴とする半導体メモリ。
  2. (2)前記節点は、各々前記列線と容量結合をもつ第1
    及び第2の節点からなり、前記列線電位が充電方向か放
    電方向かを、前記第1及び第2の節点の電位差を検出す
    ることによシ検出し前記メモリセルのデータを検出する
    手段を具備したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    に記載の半導体メモリ。
JP58056096A 1982-07-26 1983-03-31 半導体メモリ Pending JPS59180893A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58056096A JPS59180893A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 半導体メモリ
DE8383106729T DE3381955D1 (de) 1982-07-26 1983-07-08 Halbleiterspeicheranlage mit datenuebertragungs- und erkennungsmitteln.
EP83106729A EP0100011B1 (en) 1982-07-26 1983-07-08 Semiconductor memory device having data transmission and detection means
US06/514,350 US4613957A (en) 1982-07-26 1983-07-15 Semiconductor memory device having a sense amplifier circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58056096A JPS59180893A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 半導体メモリ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59180893A true JPS59180893A (ja) 1984-10-15

Family

ID=13017572

Family Applications (1)

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JP58056096A Pending JPS59180893A (ja) 1982-07-26 1983-03-31 半導体メモリ

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JP (1) JPS59180893A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0420646A2 (en) * 1989-09-29 1991-04-03 Fujitsu Limited Semiconductor memory device having capacitor through which data read/write is carried out
JPH08321190A (ja) * 1995-04-28 1996-12-03 Sgs Thomson Microelectron Srl センス増幅回路
JP2007141399A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Renesas Technology Corp 半導体装置

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JP2007141399A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Renesas Technology Corp 半導体装置

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