JPS58210844A - 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 - Google Patents
低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置Info
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- JPS58210844A JPS58210844A JP57093710A JP9371082A JPS58210844A JP S58210844 A JPS58210844 A JP S58210844A JP 57093710 A JP57093710 A JP 57093710A JP 9371082 A JP9371082 A JP 9371082A JP S58210844 A JPS58210844 A JP S58210844A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、編物、織物、不織布等の繊維製品あるいはフ
ィルムを連続的に低温プラズマ処理するための低温づラ
ズマ処琲装置における低温づラズマ雰囲気中の被処理物
の温度を制御することができるようにした方法及び装置
に関するものである。
ィルムを連続的に低温プラズマ処理するための低温づラ
ズマ処琲装置における低温づラズマ雰囲気中の被処理物
の温度を制御することができるようにした方法及び装置
に関するものである。
従来、工業的に織物、編物、不織布などの布帛あるいに
紐、カーペットなどの繊維製品あるいはフィルムを連続
的に処理する例えば染色前の工程では、繊維に付着して
いる撥水性夾雑物を除去、あるいは親水化し布帛に染料
液が容易に浸透せしめるための精練工程および染色後柔
軟、撥水、静電防止、防汚、吸水などの特性を付与する
仕上工程があるが、いずれの工程も水系で処理を行って
いた。
紐、カーペットなどの繊維製品あるいはフィルムを連続
的に処理する例えば染色前の工程では、繊維に付着して
いる撥水性夾雑物を除去、あるいは親水化し布帛に染料
液が容易に浸透せしめるための精練工程および染色後柔
軟、撥水、静電防止、防汚、吸水などの特性を付与する
仕上工程があるが、いずれの工程も水系で処理を行って
いた。
たとえば精練工程では、木綿を含む布帛の場合カセイソ
ーダ、ソータ灰などのアルカリ精練助剤を伺与し、１０
０℃前後で２０分以上スチー！、７タあるいはア′ルカ
リ、精練助剤を含む水溶液で煮沸して、撥水性夾雑物を
水溶化せしめ次いで処理布帛に付着している薬剤および
可溶化された夾雑物等の付着物を除去するための手段と
して水洗を繰り返し行い更には、水洗後乾燥する工程が
必要であった。
ーダ、ソータ灰などのアルカリ精練助剤を伺与し、１０
０℃前後で２０分以上スチー！、７タあるいはア′ルカ
リ、精練助剤を含む水溶液で煮沸して、撥水性夾雑物を
水溶化せしめ次いで処理布帛に付着している薬剤および
可溶化された夾雑物等の付着物を除去するための手段と
して水洗を繰り返し行い更には、水洗後乾燥する工程が
必要であった。
また仕上工程においては、水に溶解あるいは分散させた
仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除去
させる工程が必要であり加工目的によってはさらに高温
熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要であ
った。
仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除去
させる工程が必要であり加工目的によってはさらに高温
熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要であ
った。
ところがかかる処理手段では処理用の薬剤がコスト高に
なること、薬剤を布帛に反゛応せしめるために多量の熱
慰を必要とすること、さらには、精練工程の場合処理さ
れた布帛に含まれる残液、あるいは夾雑物及び又は付着
物を除去せしめるための多数の水洗機、及びξれらの各
水洗機内に供給すべき多量の水資源が必要であること、
更に水洗された排液を廃棄処騨するための装置が必要で
ある等のことから、布帛を処理するには多量の水資源、
熱エネル甲一般備賛等かかさんでいるのが現状である。
なること、薬剤を布帛に反゛応せしめるために多量の熱
慰を必要とすること、さらには、精練工程の場合処理さ
れた布帛に含まれる残液、あるいは夾雑物及び又は付着
物を除去せしめるための多数の水洗機、及びξれらの各
水洗機内に供給すべき多量の水資源が必要であること、
更に水洗された排液を廃棄処騨するための装置が必要で
ある等のことから、布帛を処理するには多量の水資源、
熱エネル甲一般備賛等かかさんでいるのが現状である。
更には水洗機より排出される廃液中には必然的にも薬剤
が含まれることから、排液公害等の問題も生じ該廃液の
処理にも多大なる設備費、人件費等が嵩んでいるもので
、特に繊維加工業界においては、経済的に欠けるもので
あった。
が含まれることから、排液公害等の問題も生じ該廃液の
処理にも多大なる設備費、人件費等が嵩んでいるもので
、特に繊維加工業界においては、経済的に欠けるもので
あった。
このようなことから、最近では、布帛等の繊維製品に低
温づうズマ雰囲気で処理して、例えば布帛の糊抜、精練
効果あるいは仕上加工効果を得ることが提案されている
が、この布帛の低温プラズマ（以下これを単Ｉ／Ｉｃづ
ラズマと称す）処理時における布帛の温度を変化させ、
ることにより、その反応器内の真空度及び茜周波エネル
ｆ−が一定であっても、繊維製品へのプラズマ処理効果
を変化させることができることに着目して本発明がなさ
れたものである。即ちプラズマ反応器内の真空度及び高
周波エネルｆ−が一定であっても、その反応器内のプラ
ズマ雰囲気中の繊維製品温度を上昇はせることにより、
繊維製品へのプラズマ反すれ、速度が早くなりそのプラ
ズマ反応処理時間を短縮することができる。
温づうズマ雰囲気で処理して、例えば布帛の糊抜、精練
効果あるいは仕上加工効果を得ることが提案されている
が、この布帛の低温プラズマ（以下これを単Ｉ／Ｉｃづ
ラズマと称す）処理時における布帛の温度を変化させ、
ることにより、その反応器内の真空度及び茜周波エネル
ｆ−が一定であっても、繊維製品へのプラズマ処理効果
を変化させることができることに着目して本発明がなさ
れたものである。即ちプラズマ反応器内の真空度及び高
周波エネルｆ−が一定であっても、その反応器内のプラ
ズマ雰囲気中の繊維製品温度を上昇はせることにより、
繊維製品へのプラズマ反すれ、速度が早くなりそのプラ
ズマ反応処理時間を短縮することができる。
また１熱性の弱い繊維製品のづラズマ処理時においでは
そのプラズマ雰囲気中の繊維製品温度を低）させること
が望ましい。すなわち、プラズマ雰囲気中の繊維製品湿
度を低下させることによりその処理時間Ｆ′ｉ延びるが
、側熱性の弱い繊維製品の焦げや痩化を防止することが
できる１従って、このようなことからづラスマ処理すべ
き繊維製品の品質に応じてつラズマ雰囲気中の繊維製品
温度を加減することかできれはＩａ紐製品の質に応じて
効率よく、しかもその品質低下を招くことなくプラズマ
処理を行なうことができる。
そのプラズマ雰囲気中の繊維製品温度を低）させること
が望ましい。すなわち、プラズマ雰囲気中の繊維製品湿
度を低下させることによりその処理時間Ｆ′ｉ延びるが
、側熱性の弱い繊維製品の焦げや痩化を防止することが
できる１従って、このようなことからづラスマ処理すべ
き繊維製品の品質に応じてつラズマ雰囲気中の繊維製品
温度を加減することかできれはＩａ紐製品の質に応じて
効率よく、しかもその品質低下を招くことなくプラズマ
処理を行なうことができる。
本発明はかかることから鑑みてなされたもので、構造簡
単にしてプラズマ雰囲気中の被処理物（繊維製品あるい
Ｕフィルム角）の温度を加減することができるようにし
た低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びそ
の装置を提供することを目的とするものである。。
単にしてプラズマ雰囲気中の被処理物（繊維製品あるい
Ｕフィルム角）の温度を加減することができるようにし
た低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びそ
の装置を提供することを目的とするものである。。
以下に本発明を図面に示す実施例に基いで詳細に説明す
る。
る。
ＩＩ／′ｉ連続処理が回前な反応器であって、との反応
器ＩＫけ似湛プラズマ処理すべき布帛２をこの反応器ｌ
内に連続的に導入するための導入口３と、反応器１内の
布帛を連続的に導出させるための導出口４が設けられて
いる。またこの導入口３及び導出［１４の夫々には、布
帛を連続的に挿通することはできるが、反応器１内を真
空（０，１〜１０ Ｔｏｒｒ、望ましく Ｉｄ Ｏ，５
〜２ Ｔｏｒｒ）に保つことができるシール柵構５及び
６が設けられているが、か、かるシール機ＪｆＩＩＬ５
．６は、本発明者らが開発している公知のシール櫂構を
利用することによって反応器ｌの導入口及び導出口をシ
ールすることができる。Ｗにこの反応器ｌの内部には、
低温プラズマ処理機構が設けられているが、この低温づ
ラシマ処理轡構は移行１゛る布帛２の移送路を境として
上方に設置された高周波発生電極７と、その下方に設置
されたアース電極８とを有し、この一方の高周波発生電
極７には反応器１外に設置された発振器（図示せず）か
らの高周波が供給されているものであり、他方のアース
電極８はアースされている。
器ＩＫけ似湛プラズマ処理すべき布帛２をこの反応器ｌ
内に連続的に導入するための導入口３と、反応器１内の
布帛を連続的に導出させるための導出口４が設けられて
いる。またこの導入口３及び導出［１４の夫々には、布
帛を連続的に挿通することはできるが、反応器１内を真
空（０，１〜１０ Ｔｏｒｒ、望ましく Ｉｄ Ｏ，５
〜２ Ｔｏｒｒ）に保つことができるシール柵構５及び
６が設けられているが、か、かるシール機ＪｆＩＩＬ５
．６は、本発明者らが開発している公知のシール櫂構を
利用することによって反応器ｌの導入口及び導出口をシ
ールすることができる。Ｗにこの反応器ｌの内部には、
低温プラズマ処理機構が設けられているが、この低温づ
ラシマ処理轡構は移行１゛る布帛２の移送路を境として
上方に設置された高周波発生電極７と、その下方に設置
されたアース電極８とを有し、この一方の高周波発生電
極７には反応器１外に設置された発振器（図示せず）か
らの高周波が供給されているものであり、他方のアース
電極８はアースされている。
上記の高周波発生電極７＃ｉ金網あるいは多孔性の金属
板等で平面的に形成されており、またアース電極８は第
２図に示す如く金属管を密間隔で蛇行状かつ平面状に折
曲げ形成したものである。ＱＦｉ高周波発生電極７の全
面に向けてガスを吹き出すための絶縁材料からなるガス
ノズル、ｉｏｕアース電＆８′ｆ：囲むようにして形成
されている絶縁性材料からなる吸気タクトであって、こ
の吸気タクトｌＯは図示しない真空ボシプに接続さねて
いる。ＩＩＦｉ反応器１内に配設された布帛のガイド０
−ルであって、このガイド０−ルにより上下対の電極７
と８との間に形成される布帛通路１２内に布帛を移送す
ることができる。また前記のアースＮ１極８を形成して
いる金続管内には反応器１の外部より湯又は水、油、気
体等流通することができ、この金属管内を通った流体は
反応器１外に設けた温度計１３によってその流体温を測
定することもてきるようになっている。
板等で平面的に形成されており、またアース電極８は第
２図に示す如く金属管を密間隔で蛇行状かつ平面状に折
曲げ形成したものである。ＱＦｉ高周波発生電極７の全
面に向けてガスを吹き出すための絶縁材料からなるガス
ノズル、ｉｏｕアース電＆８′ｆ：囲むようにして形成
されている絶縁性材料からなる吸気タクトであって、こ
の吸気タクトｌＯは図示しない真空ボシプに接続さねて
いる。ＩＩＦｉ反応器１内に配設された布帛のガイド０
−ルであって、このガイド０−ルにより上下対の電極７
と８との間に形成される布帛通路１２内に布帛を移送す
ることができる。また前記のアースＮ１極８を形成して
いる金続管内には反応器１の外部より湯又は水、油、気
体等流通することができ、この金属管内を通った流体は
反応器１外に設けた温度計１３によってその流体温を測
定することもてきるようになっている。
以上が本実施例の構成であるが、次にその作用について
述べると、先ず真空ボ、７づ（図示せず）を駆動して反
応器１内の真空度が０．５〜５Ｔｏｒｒとなるように減
圧した後、ガスノズル９より空気又は酸素あるいはその
他のガスを反応器１内に供給して、この反応器１内の真
空度が約ｌ Ｔｏｒｒとなるように調整する。そこで高
周波電源（図示せず）より高周波、例えば１３．５６
ＭＨｚを高周波発生電極に給電してプラズマを発生させ
る。かくして発生するプラズマ及びこのプラズマにより
励起されたガスの雰囲気中、即ち両電極７．８間の布帛
通路１２内に布帛２を移行せしめることにより、骸布帛
２の繊維に低温プラズマが作用し、布帛の親水化が達成
されるものであるが、上記プラズマの発生を持続するこ
とによってそのプラズマ雰囲気中が加熱されるが、この
加熱温度が上昇されると、上記被処理布帛２）（、例え
ば耐熱性に弱い化繊である場合に社、該布帛が痩化した
シ、焦げを生じることがあるので、そのプラズマ雰囲気
中を走行呟る被処理物の温度を低下させる必要がある。
述べると、先ず真空ボ、７づ（図示せず）を駆動して反
応器１内の真空度が０．５〜５Ｔｏｒｒとなるように減
圧した後、ガスノズル９より空気又は酸素あるいはその
他のガスを反応器１内に供給して、この反応器１内の真
空度が約ｌ Ｔｏｒｒとなるように調整する。そこで高
周波電源（図示せず）より高周波、例えば１３．５６
ＭＨｚを高周波発生電極に給電してプラズマを発生させ
る。かくして発生するプラズマ及びこのプラズマにより
励起されたガスの雰囲気中、即ち両電極７．８間の布帛
通路１２内に布帛２を移行せしめることにより、骸布帛
２の繊維に低温プラズマが作用し、布帛の親水化が達成
されるものであるが、上記プラズマの発生を持続するこ
とによってそのプラズマ雰囲気中が加熱されるが、この
加熱温度が上昇されると、上記被処理布帛２）（、例え
ば耐熱性に弱い化繊である場合に社、該布帛が痩化した
シ、焦げを生じることがあるので、そのプラズマ雰囲気
中を走行呟る被処理物の温度を低下させる必要がある。
そこで、上記のアースＩＩｅｊを兼ねている金緘管８内
へ例えば冷水を通水することにより、該電極全冷却し、
更に上記プラズマ雰囲気中を走行する被処理物２を、そ
の冷却電極８に近接又は接触させて移行させることによ
りプラズマ雰囲気中の被処理物の湿度を低下させること
ができるので、その被処理物の品質低下全防止すること
ができる。
へ例えば冷水を通水することにより、該電極全冷却し、
更に上記プラズマ雰囲気中を走行する被処理物２を、そ
の冷却電極８に近接又は接触させて移行させることによ
りプラズマ雰囲気中の被処理物の湿度を低下させること
ができるので、その被処理物の品質低下全防止すること
ができる。
またそれとは逆に耐熱性が閥い被処理布帛の場合は、〜
そのプラズマ雰囲気中の被処理物の濡Ｗを高くすること
によりプラズマ反応時ｒＩｌを早めることができるので
、この場合には金践實゛８内へ加熱流体を流通させ金鵬
４ｕ８ヶ加熱し、更に上記プラズマ雰囲気中を走行する
被処理物２をその金属管８に近接又は接触させて進行さ
せることにより、プラズマ雰囲気中の被処理物の温度を
効果的に可熱することができるものである。
そのプラズマ雰囲気中の被処理物の濡Ｗを高くすること
によりプラズマ反応時ｒＩｌを早めることができるので
、この場合には金践實゛８内へ加熱流体を流通させ金鵬
４ｕ８ヶ加熱し、更に上記プラズマ雰囲気中を走行する
被処理物２をその金属管８に近接又は接触させて進行さ
せることにより、プラズマ雰囲気中の被処理物の温度を
効果的に可熱することができるものである。
以上のように本発明は繊違製品あるいは゛フィルム等を
低温プラズマ処理するための低温プラズマ反応器内に流
通でなる金属管を用いて電極を形成し、この電極によっ
て発生される低温プラズマ雰囲気中を通過する被処理物
の温へを、この電極内に流通させる流体で制御するよう
にしたものであるから、そのプラズマ雰囲気中の被処理
物の濡ｒＩＩ金処理すべき被処理物に応じて、制御する
ことによりイｙｒ温ツラズマ処理の処理時間を早めるこ
と、あるいは高湿による被処理物の損傷を未然に防止す
ることかできる等の効果がある。
低温プラズマ処理するための低温プラズマ反応器内に流
通でなる金属管を用いて電極を形成し、この電極によっ
て発生される低温プラズマ雰囲気中を通過する被処理物
の温へを、この電極内に流通させる流体で制御するよう
にしたものであるから、そのプラズマ雰囲気中の被処理
物の濡ｒＩＩ金処理すべき被処理物に応じて、制御する
ことによりイｙｒ温ツラズマ処理の処理時間を早めるこ
と、あるいは高湿による被処理物の損傷を未然に防止す
ることかできる等の効果がある。
図面はいずれも本発明を実施する有効な装置の実施例を
示し、第１図１その断面図、第２図はアース電極のみの
平面図である。
示し、第１図１その断面図、第２図はアース電極のみの
平面図である。
Claims (1)
- １ 繊維製品あるいけフィルム等を低温づラズ７処理す
るための低温づラズマ反応器内に流通できる金属管を用
いて電極を形Ｊ＆ Ｌ 、この電極によって発生される
低ｆｊＡプラズマ雰囲気中を通過する被処理物の温度を
、この電極内２ 繊維製品あるいはフィルム等を低温プ
ラズマ処理する反応器を有する低温プラズマ処理装置に
おいて、その反応器内に、温度制御流体を流通し得る低
温プラズマ発生極板を配置したことを特徴とする低温プ
ラズマ雰囲気中の被処理物湿度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57093710A JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57093710A JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210844A true JPS58210844A (ja) | 1983-12-08 |
| JPH0321213B2 JPH0321213B2 (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=14089968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57093710A Granted JPS58210844A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 低温プラズマ雰囲気中の被処理物温度制御方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210844A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6119343A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タイヤコ−ド平織状物の低温プラズマ処理方法 |
| JPS6328967A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-06 | ユニチカ株式会社 | 繊維製品の低温プラズマ処理方法及びその装置 |
| JP2006525627A (ja) * | 2003-05-05 | 2006-11-09 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼーション | プラズマ処理装置および方法 |
| JP2011222404A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Akitoshi Okino | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5730521B2 (ja) * | 2010-09-08 | 2015-06-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 熱処理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5480373A (en) * | 1977-12-08 | 1979-06-27 | Toray Ind Inc | Method of treating high-polymer resin with electrical discharge |
| JPS5718737A (en) * | 1980-06-21 | 1982-01-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous plasma treatment |
-
1982
- 1982-06-01 JP JP57093710A patent/JPS58210844A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5480373A (en) * | 1977-12-08 | 1979-06-27 | Toray Ind Inc | Method of treating high-polymer resin with electrical discharge |
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|---|---|---|---|---|
| JPS6119343A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タイヤコ−ド平織状物の低温プラズマ処理方法 |
| JPH0376661B2 (ja) * | 1984-07-05 | 1991-12-06 | Shinetsu Kagaku Kogyo Kk | |
| JPS6328967A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-06 | ユニチカ株式会社 | 繊維製品の低温プラズマ処理方法及びその装置 |
| JP2006525627A (ja) * | 2003-05-05 | 2006-11-09 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼーション | プラズマ処理装置および方法 |
| JP4914713B2 (ja) * | 2003-05-05 | 2012-04-11 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼイション | プラズマ処理装置および方法 |
| JP2011222404A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Akitoshi Okino | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0321213B2 (ja) | 1991-03-22 |
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