JPS58204502A - 小型抵抗器の製造法 - Google Patents
小型抵抗器の製造法Info
- Publication number
- JPS58204502A JPS58204502A JP57087678A JP8767882A JPS58204502A JP S58204502 A JPS58204502 A JP S58204502A JP 57087678 A JP57087678 A JP 57087678A JP 8767882 A JP8767882 A JP 8767882A JP S58204502 A JPS58204502 A JP S58204502A
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- Japan
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- resistor
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- electrode
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- small resistor
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この開明は小型抵抗器の製造法に関する。
たとえば縦１’ｌＪ、横Ｌ５層程すの大きさの抵抗器を
製造−Ｆふのに、１枚の広い絶縁基板（たとえばセラミ
ック基板）の表面を、１個の抵抗器の太ささて相当する
領域を単位Ｗ域として、縦横に区画し、各単位領域に相
対する雪樺反び画を極にまたがる平抗体を厚膜などによ
って形成し、各単位領域毎に抵抗体をレザー光１ｉＩＩ
などを利用［−でトリミングし、そのあと各差位領域毎
にスフライブナふようにしていみ。
製造−Ｆふのに、１枚の広い絶縁基板（たとえばセラミ
ック基板）の表面を、１個の抵抗器の太ささて相当する
領域を単位Ｗ域として、縦横に区画し、各単位領域に相
対する雪樺反び画を極にまたがる平抗体を厚膜などによ
って形成し、各単位領域毎に抵抗体をレザー光１ｉＩＩ
などを利用［−でトリミングし、そのあと各差位領域毎
にスフライブナふようにしていみ。
菖１図は従来法によって＃作された小型抵抗器を示し、
絶縁基板１の表面に、互いに相対す石ように一対の電原
２．３を形成し、両電極２．３間にまたがって抵抗体４
を形成すふ。５はトリミング跡ｆＰ示寸。ｆｘ訃６．７
は基板１の両端面に形成さｆ′ＬだｔＦＭで、これはス
クライブのあと形成される。
絶縁基板１の表面に、互いに相対す石ように一対の電原
２．３を形成し、両電極２．３間にまたがって抵抗体４
を形成すふ。５はトリミング跡ｆＰ示寸。ｆｘ訃６．７
は基板１の両端面に形成さｆ′ＬだｔＦＭで、これはス
クライブのあと形成される。
真２図は従来のこの種小型抵抗器の製造法を説明すみた
めの平面図で、１枚の広Ａ絶縁基板１１の表面を１個の
小型抵抗器の縦及び横の寸法に対応する領域を単位（域
として、縦横に沿って複数の領域に区画す石。メ１中鎖
線は区画＠ｆｔ示寸０央Ｊｔｃはこの鎖＃Ｉを附した部
分には、スクライブライン（たとえば結い溝）が予め設
けである。そして膚に並ぶ各＃域νζつき、一方の端部
に連続する’Ｊｒ＠１２ｙ５−５７仙方の端部に冬項域
扉に独立する電極１３を形成する。ついで各領域のそれ
ぞれについて、′ＩＩｔ極１２と各電極１３とにまたが
って抵抗体４を形成する。各を礪、抵抗体はペーストの
印刷並びに七の暁成によって厚膜・に既成さ几る。
めの平面図で、１枚の広Ａ絶縁基板１１の表面を１個の
小型抵抗器の縦及び横の寸法に対応する領域を単位（域
として、縦横に沿って複数の領域に区画す石。メ１中鎖
線は区画＠ｆｔ示寸０央Ｊｔｃはこの鎖＃Ｉを附した部
分には、スクライブライン（たとえば結い溝）が予め設
けである。そして膚に並ぶ各＃域νζつき、一方の端部
に連続する’Ｊｒ＠１２ｙ５−５７仙方の端部に冬項域
扉に独立する電極１３を形成する。ついで各領域のそれ
ぞれについて、′ＩＩｔ極１２と各電極１３とにまたが
って抵抗体４を形成する。各を礪、抵抗体はペーストの
印刷並びに七の暁成によって厚膜・に既成さ几る。
つぎに各抵抗体４につきトリミングするのであるが、そ
のために抵抗値測定用のプローブピンの一方を′ＩＲ極
１２νこ、他方を個々の電極１３に立てて抵抗Ｍを測定
しなからレーザ光線などによって抵抗体４をその幅方向
に沿って切断子る。この切断によって抵抗！Ｆｆ′ｉ％
望の１直に定められるようになる。実際には賓に並ぶ各
＠域について電極１２は連続しているので共通のＩＥ％
として抵抗・直の測定が可能となるから一方の１０−ブ
ピン−＋１ｌｊｆｆｌ １２に立てるとともに他方のプ
ローブピンを複数用意し、そのそれぞれを個々に１１１
３に立てるようにすれば連続的に抵抗値を測定しτｌハ
〈ことかでさるようになるうそのあとスクライブライン
シて゛へって各領域を分割する。
のために抵抗値測定用のプローブピンの一方を′ＩＲ極
１２νこ、他方を個々の電極１３に立てて抵抗Ｍを測定
しなからレーザ光線などによって抵抗体４をその幅方向
に沿って切断子る。この切断によって抵抗！Ｆｆ′ｉ％
望の１直に定められるようになる。実際には賓に並ぶ各
＠域について電極１２は連続しているので共通のＩＥ％
として抵抗・直の測定が可能となるから一方の１０−ブ
ピン−＋１ｌｊｆｆｌ １２に立てるとともに他方のプ
ローブピンを複数用意し、そのそれぞれを個々に１１１
３に立てるようにすれば連続的に抵抗値を測定しτｌハ
〈ことかでさるようになるうそのあとスクライブライン
シて゛へって各領域を分割する。
ところで上記の税ａｑに２％で、禄喧填の１’；ｌ 定
、、ｒあたり、Ｎ甑１２は横方向に連続していても、電
極１３は個々に独立しているので河ら支障はないつ逆に
言え汀抵胱道の測定のためには、一方の電極１３は各領
域毎に独立していなければならないことになる。ところ
がひとつの領域が縦３，０Ｊｆｆ、槓Ｌ５ｆｆ稈彦の広
さとした場合、を極１３を独立して形Ｗとする七すれば
、その電ｒ＠１３は縦ｏ、５．−漏。
、、ｒあたり、Ｎ甑１２は横方向に連続していても、電
極１３は個々に独立しているので河ら支障はないつ逆に
言え汀抵胱道の測定のためには、一方の電極１３は各領
域毎に独立していなければならないことになる。ところ
がひとつの領域が縦３，０Ｊｆｆ、槓Ｌ５ｆｆ稈彦の広
さとした場合、を極１３を独立して形Ｗとする七すれば
、その電ｒ＠１３は縦ｏ、５．−漏。
ｉｔつ１１ｉＩ桿實となり、しかも抵抗体４の端部との
重なり、合う長さばα２ｆｆ程度を必要するので、抵抗
体との４縁から１ｌｌ（夕１３の端４＆までの長さは０
３Ｍ程すとなるうこのように！＠１３の広さは極めて小
さｂものとなる。このことはプローブピンとのフンタク
ト部分が狭まｂことを意味し、そのためプローブピンが
所定位置より可らかの原因で僅かでも移動してしまうよ
うなことがあると、電極１３に接触できなＡようになる
。このように非接触状倭のままで抵抗前が測定されてｊ
−まうと、その測定結果の抵抗値は無限大と判定さｎ、
七の抵抗器は不良品とみなされてしまう。
重なり、合う長さばα２ｆｆ程度を必要するので、抵抗
体との４縁から１ｌｌ（夕１３の端４＆までの長さは０
３Ｍ程すとなるうこのように！＠１３の広さは極めて小
さｂものとなる。このことはプローブピンとのフンタク
ト部分が狭まｂことを意味し、そのためプローブピンが
所定位置より可らかの原因で僅かでも移動してしまうよ
うなことがあると、電極１３に接触できなＡようになる
。このように非接触状倭のままで抵抗前が測定されてｊ
−まうと、その測定結果の抵抗値は無限大と判定さｎ、
七の抵抗器は不良品とみなされてしまう。
グｊｊ Ｆ：＠１３の形Ｗ領域が狭いので、Ｗｉベース
トの印刷に際して番項度が要求されるし、又値刀）でも
その印刷にズレが生じたりすると低抗体とのコンタクト
不良が発生する。
トの印刷に際して番項度が要求されるし、又値刀）でも
その印刷にズレが生じたりすると低抗体とのコンタクト
不良が発生する。
この発明は低抗体がまたがる両電極を充分広くするよう
にし、このように広くして本抵抗値の測定が可能となる
ようにすること金目四とする。
にし、このように広くして本抵抗値の測定が可能となる
ようにすること金目四とする。
＄３図はこの発明によって製造された抵抗器を承し、第
４１図はその製造方法を説明するための平面図である。
４１図はその製造方法を説明するための平面図である。
なお第１図、第２図と同じ符号を附した部分＃′ｉ１司
−又は対応する部分を示す。絶縁基板１１の表面を、１
個の小型抵抗器の縦及び項の寸法に対応するｍ囲をひと
つの領域として、縦横に沿って１数の領域に区画するこ
とは第２図の場合と同じであり、又槓に並ぶ各領域の一
方の端部に連続する［ｆｆｌ １２を形成することも同
じであるが、鷹４図の実施例では膚に並ぶ各領域の他方
の誦邪にも連続するｑＬｒｉ １５を燃成する。第４図
の例でに縦万回に謙り合う他の領域についてもｔｉ１５
は連続するように形成しである。
−又は対応する部分を示す。絶縁基板１１の表面を、１
個の小型抵抗器の縦及び項の寸法に対応するｍ囲をひと
つの領域として、縦横に沿って１数の領域に区画するこ
とは第２図の場合と同じであり、又槓に並ぶ各領域の一
方の端部に連続する［ｆｆｌ １２を形成することも同
じであるが、鷹４図の実施例では膚に並ぶ各領域の他方
の誦邪にも連続するｑＬｒｉ １５を燃成する。第４図
の例でに縦万回に謙り合う他の領域についてもｔｉ１５
は連続するように形成しである。
ａ１域には各１１１２．１５間にまたがって低抗体４が
形成される。な訃抵抗体４を形成してからａｉＩｒ極１
２．１５を形成するようにしてもよめ。このあとトリミ
ングするのであるが、この発明ではこれにさきだって電
極１５は横方向に連続しているので、これをレーザ光＃
１等によって縦方向に向うスクライブラインに沿って切
断する。１６はその切断跡を干す。図のように縦方向に
隣り合う領域にまたがってｍ１ｘｓが形成されであると
きは併せて横方向に向うスクライブラインに沿って電［
１５をレーザ光線等によって切断する。１７はその切断
跡を７ｉｌｉ′す。これらの切断による切１Ｇ１４は約
４０μｍ程度である。
形成される。な訃抵抗体４を形成してからａｉＩｒ極１
２．１５を形成するようにしてもよめ。このあとトリミ
ングするのであるが、この発明ではこれにさきだって電
極１５は横方向に連続しているので、これをレーザ光＃
１等によって縦方向に向うスクライブラインに沿って切
断する。１６はその切断跡を干す。図のように縦方向に
隣り合う領域にまたがってｍ１ｘｓが形成されであると
きは併せて横方向に向うスクライブラインに沿って電［
１５をレーザ光線等によって切断する。１７はその切断
跡を７ｉｌｉ′す。これらの切断による切１Ｇ１４は約
４０μｍ程度である。
以上のようにして電顕１５を切Ｖｒすれば、横方向に並
ぶ各領域の電極１５Ｆｉ互いに独立するようになる。あ
とは第２図の場合と同じように谷電極にプローブピンを
立゛てて抵抗値を測定しつつレーザ光線等によって抵抗
体をその幅方向に沿って切断しトリミング干ればよ−。
ぶ各領域の電極１５Ｆｉ互いに独立するようになる。あ
とは第２図の場合と同じように谷電極にプローブピンを
立゛てて抵抗値を測定しつつレーザ光線等によって抵抗
体をその幅方向に沿って切断しトリミング干ればよ−。
ついで各領域について横方向にスクライブし、このスク
ライブによって現われる端部に’ｊ’−５６，”を形１
ｉでるっ斗のあと縦方向にスクライブして個々の小型抵
８′ｉ、器を得る。
ライブによって現われる端部に’ｊ’−５６，”を形１
ｉでるっ斗のあと縦方向にスクライブして個々の小型抵
８′ｉ、器を得る。
以上詳述したよりにとの佑明によれば、絶縁基板の各領
域にシける画電極を互因に項方向に連授して形成するの
で、一方のｔ層の広さは従来のものより広くとることが
でき、したがってトリミングの際のプローブミンとのコ
ンタクト面積が広くなり、これによってコンタクト不良
等による判定ミスを充分防止中ることができるし、又各
電極に複方向に連続して形成するので、印刷の精度は大
幅に緩和されるとともに、抵抗体との接触不良も少なく
することができ、かつプ１１ント基板上への装填の際の
半田付けに対する信頼性も向上するといった泰効果が得
られる。
域にシける画電極を互因に項方向に連授して形成するの
で、一方のｔ層の広さは従来のものより広くとることが
でき、したがってトリミングの際のプローブミンとのコ
ンタクト面積が広くなり、これによってコンタクト不良
等による判定ミスを充分防止中ることができるし、又各
電極に複方向に連続して形成するので、印刷の精度は大
幅に緩和されるとともに、抵抗体との接触不良も少なく
することができ、かつプ１１ント基板上への装填の際の
半田付けに対する信頼性も向上するといった泰効果が得
られる。
第１図は従来の小型抵抗器の斜視図、冥２図は従来法の
説明のための平面図、ｍｉｓ図はこの殆明による小型抵
抗器の斜視１辺、第４図はこの開明方法の説明のための
平面図である。 ４・・・・・抵抗体、５．−・・ト４１ミング跡、１１
・・・・絶費基板、１２．１５・・・・・・１！唖、１
６・・・・・・切断跡特許出願人 ローム株式会社 代珊人中沢謹之助 第２図 ２ ５ ５ 一ゲ １３ 関 第１図 γ 第３図
説明のための平面図、ｍｉｓ図はこの殆明による小型抵
抗器の斜視１辺、第４図はこの開明方法の説明のための
平面図である。 ４・・・・・抵抗体、５．−・・ト４１ミング跡、１１
・・・・絶費基板、１２．１５・・・・・・１！唖、１
６・・・・・・切断跡特許出願人 ローム株式会社 代珊人中沢謹之助 第２図 ２ ５ ５ 一ゲ １３ 関 第１図 γ 第３図
Claims (1)
- 絶縁基板の表面を、１個の小型抵抗器の大きさに相当す
み領域を差位領域として縦横に複数の領域に区画し、横
方向に並ぶ各領域に連続して冬慴塘の画壇邪にそれぞれ
電極′ｆ／−形成干るとともに各領域毎に前記画電極に
またがふように抵抗体を形成し、ついで横方向に並ぶ茶
領域における一方の電ＩＩを各領域毎に切断して公達；
、冬分離された電極と、油力の′Ｗｌ極との間の抵抗Ｍ
を測定しながら前記抵抗体ヲトリミングし、そのあと各
領域毎にスクライブする小型抵抗器の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57087678A JPS58204502A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 小型抵抗器の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57087678A JPS58204502A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 小型抵抗器の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58204502A true JPS58204502A (ja) | 1983-11-29 |
Family
ID=13921590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57087678A Pending JPS58204502A (ja) | 1982-05-24 | 1982-05-24 | 小型抵抗器の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58204502A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014045104A (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-13 | Panasonic Corp | チップ抵抗器の製造方法 |
| JP2017034289A (ja) * | 2016-11-15 | 2017-02-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | チップ抵抗器の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5432746A (en) * | 1977-08-18 | 1979-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of making tip resistor parts |
| JPS56104407A (en) * | 1980-01-24 | 1981-08-20 | Mitsubishi Electric Corp | Method of manufacturing chip resistor |
-
1982
- 1982-05-24 JP JP57087678A patent/JPS58204502A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5432746A (en) * | 1977-08-18 | 1979-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of making tip resistor parts |
| JPS56104407A (en) * | 1980-01-24 | 1981-08-20 | Mitsubishi Electric Corp | Method of manufacturing chip resistor |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014045104A (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-13 | Panasonic Corp | チップ抵抗器の製造方法 |
| JP2017034289A (ja) * | 2016-11-15 | 2017-02-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | チップ抵抗器の製造方法 |
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