JPS58194163A - 回転ヘツド装置 - Google Patents
回転ヘツド装置Info
- Publication number
- JPS58194163A JPS58194163A JP57076247A JP7624782A JPS58194163A JP S58194163 A JPS58194163 A JP S58194163A JP 57076247 A JP57076247 A JP 57076247A JP 7624782 A JP7624782 A JP 7624782A JP S58194163 A JPS58194163 A JP S58194163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tape
- layer
- sic
- solid lubricant
- fixed cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B15/00—Driving, starting or stopping record carriers of filamentary or web form; Driving both such record carriers and heads; Guiding such record carriers or containers therefor; Control thereof; Control of operating function
- G11B15/60—Guiding record carrier
- G11B15/61—Guiding record carrier on drum, e.g. drum containing rotating heads
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、回転ヘッド型磁気記録再生装置（ＶＴＲ）の
回転ヘッド装置に関するものである。
回転ヘッド装置に関するものである。
従来のＶＴＲの回転ヘッド装置は、第１図および第２図
にその概要を示すような構成よりなっている。
にその概要を示すような構成よりなっている。
すなわち、固定シリンダ２上に同軸的に回転シリンダ１
を設け、この固定シリンダ２と回転シリンダ１０両者に
またがるよう磁気テープ４をらせん状に巻回して走行せ
しめ、その磁気テープ４に回転シリンダ１に取り付けた
磁気ヘッド６により斜め方向に信号トラックが記録され
る。この時回転シリンダ１の回転に伴い、回転シリンダ
１０表面付近の空気はシリンダ１の表面に沿って流れ、
テープ４と回転シリンダ１との間に空気層を形成する。
を設け、この固定シリンダ２と回転シリンダ１０両者に
またがるよう磁気テープ４をらせん状に巻回して走行せ
しめ、その磁気テープ４に回転シリンダ１に取り付けた
磁気ヘッド６により斜め方向に信号トラックが記録され
る。この時回転シリンダ１の回転に伴い、回転シリンダ
１０表面付近の空気はシリンダ１の表面に沿って流れ、
テープ４と回転シリンダ１との間に空気層を形成する。
この空気層によりテープ４は回転シリンダ１の表面に対
し非接触走行が可能となり、摩擦抵抗力が軽減されるだ
けでなく、回転シリンダ１の外周面の摩耗、テープ４の
損傷を防ぐことが出来る。しかし回転シリンダ１の下方
に設けられている固定シリンダ２は装置に固定されてい
るためテープ４と固定シリンダ２との相対速度はテープ
４０走行速度と同じで非常に小さい。このためテープ４
と固定シリンダ２間に巻き込まれる空気量は少なくテー
プ４と固定シリンダ２のテープ走行面３の間には空気層
はほとんど発生しない（第２図参照）。このため固定シ
リンダ２のテープ走行面３に対しテープ４は接触走行と
なり両者間の摩擦抵抗力は回転シリンダ１とテープ４間
の摩擦抵抗力に比べ非常に大きくなる。特に磁性層とし
てＣｏ−Ｎｉ等が直接蒸着されてテープ表面が硬質であ
るテープ（例えば蒸着テープ）を走行させる場合、テー
プ４と固定シリンダのテープ走行面３間の摩擦抵抗力が
大きくなるだけでなく、接触部分において付着とすべり
が交互に連続的に発生し、この変換運動がしだいに高め
られテープの縦振動−を励起する。以下この縦振動をス
ティック−スリ −フッと呼ぶ。このスティック−スリ
ップはテープ鳴きの主な原因でありワウ・フラッタ−ジ
ッタ性能にも悪影響をおよぼす。またテープ４と固定シ
リンダのテープ走行面３とが接触するため、テープ走行
面３に摩耗が生じる。
し非接触走行が可能となり、摩擦抵抗力が軽減されるだ
けでなく、回転シリンダ１の外周面の摩耗、テープ４の
損傷を防ぐことが出来る。しかし回転シリンダ１の下方
に設けられている固定シリンダ２は装置に固定されてい
るためテープ４と固定シリンダ２との相対速度はテープ
４０走行速度と同じで非常に小さい。このためテープ４
と固定シリンダ２間に巻き込まれる空気量は少なくテー
プ４と固定シリンダ２のテープ走行面３の間には空気層
はほとんど発生しない（第２図参照）。このため固定シ
リンダ２のテープ走行面３に対しテープ４は接触走行と
なり両者間の摩擦抵抗力は回転シリンダ１とテープ４間
の摩擦抵抗力に比べ非常に大きくなる。特に磁性層とし
てＣｏ−Ｎｉ等が直接蒸着されてテープ表面が硬質であ
るテープ（例えば蒸着テープ）を走行させる場合、テー
プ４と固定シリンダのテープ走行面３間の摩擦抵抗力が
大きくなるだけでなく、接触部分において付着とすべり
が交互に連続的に発生し、この変換運動がしだいに高め
られテープの縦振動−を励起する。以下この縦振動をス
ティック−スリ −フッと呼ぶ。このスティック−スリ
ップはテープ鳴きの主な原因でありワウ・フラッタ−ジ
ッタ性能にも悪影響をおよぼす。またテープ４と固定シ
リンダのテープ走行面３とが接触するため、テープ走行
面３に摩耗が生じる。
本発明は前記問題点解消を目的とし、固定シリンダのテ
ープ走行部表面に固体潤滑剤（例えばＭＯ８２）の層を
設けると共に、その固体潤滑剤の層の表面に磁気テープ
の蒸着物質（例えばＣｏ ）より硬い材料（例えばＳｉ
Ｃ）を点在させることにより、耐摩耗性を向上せしめ、
テープと固定シリンダのテープ走行部表面間とのスティ
ック−スリップを防止せんとするものである。
ープ走行部表面に固体潤滑剤（例えばＭＯ８２）の層を
設けると共に、その固体潤滑剤の層の表面に磁気テープ
の蒸着物質（例えばＣｏ ）より硬い材料（例えばＳｉ
Ｃ）を点在させることにより、耐摩耗性を向上せしめ、
テープと固定シリンダのテープ走行部表面間とのスティ
ック−スリップを防止せんとするものである。
第３図に本発明の第１の実施例を示す。Ａｌで構成され
た固定シリンダ２のテープ走行部表面に磁気テープの蒸
着物質より硬いＳｉＣの膜６をスパッタリング法により
生成する場合１、スパッタリング条件（最終ガス圧、有
効電力、スパッタリング時間等）によりＳｉＣ突起６′
を発生させることができる。前記ＳｉＣ膜６の上にすべ
てのＳｉＣ突起６′の先端を趙えることなく、固体潤滑
剤（例えばＭＯ８２） の層７を設けることにより、
固体潤滑剤の層７（例えばＭＯ８２）の表面に蒸着材料
（例えばＧｏ ）より硬いＳｉＣｅ’が点在する構成
が可能となる。この構成によると、固定シリンダ２にＧ
ｏ −Ｎｉ等の蒸着材料が蒸着されて表面が硬質かつス
ティック−スリップが発生しやすい蒸着テープを走行さ
せる時、テープ走行部表面の耐摩耗性はＧｏ−Ｎｉより
硬質なＳｉＣ突起６′により向上し、スティック−スリ
ップの発生は固体潤滑剤の層７により防止できることに
ある。
た固定シリンダ２のテープ走行部表面に磁気テープの蒸
着物質より硬いＳｉＣの膜６をスパッタリング法により
生成する場合１、スパッタリング条件（最終ガス圧、有
効電力、スパッタリング時間等）によりＳｉＣ突起６′
を発生させることができる。前記ＳｉＣ膜６の上にすべ
てのＳｉＣ突起６′の先端を趙えることなく、固体潤滑
剤（例えばＭＯ８２） の層７を設けることにより、
固体潤滑剤の層７（例えばＭＯ８２）の表面に蒸着材料
（例えばＧｏ ）より硬いＳｉＣｅ’が点在する構成
が可能となる。この構成によると、固定シリンダ２にＧ
ｏ −Ｎｉ等の蒸着材料が蒸着されて表面が硬質かつス
ティック−スリップが発生しやすい蒸着テープを走行さ
せる時、テープ走行部表面の耐摩耗性はＧｏ−Ｎｉより
硬質なＳｉＣ突起６′により向上し、スティック−スリ
ップの発生は固体潤滑剤の層７により防止できることに
ある。
第４図に本発明の第２の実施例を示す。ＡＩ で構成さ
れた固定シリンダ２のテープ走行部表面をバイト取付一
度、送り量、切込量等を設定することで凹凸状に加工し
、その上に蒸着材料（例えばＣｏ ）より硬い材料（
例えばＳｉＣ、ＷＣ等）の層８をほぼ均一に設ける。凹
部にすべての凸部先端を越えることなく固体潤滑剤（例
えばＭＯ８２）７を設けることで、固体潤滑剤７（例え
ばＭＯ８２）の層の表面に蒸着材料（例えばＧｏ ）よ
り硬い材料（例えばｓｉｃ、ｗｅ）ｓが点在する構成が
可能となる。この構成による効果は、テープ走行部表面
加工時のバイト取付等の設定により簡単に凹凸を構成す
ることが可能であり、表面が硬質かつスティック−スリ
ップが発生しやすい蒸着テープを走行させる場合に、テ
ープ走行部表面の耐摩耗性は蒸着材料より硬い材料の層
８の凸部先端により向上し、スティック−スリップの発
生は固体潤滑剤の層７により防止できることにある。
れた固定シリンダ２のテープ走行部表面をバイト取付一
度、送り量、切込量等を設定することで凹凸状に加工し
、その上に蒸着材料（例えばＣｏ ）より硬い材料（
例えばＳｉＣ、ＷＣ等）の層８をほぼ均一に設ける。凹
部にすべての凸部先端を越えることなく固体潤滑剤（例
えばＭＯ８２）７を設けることで、固体潤滑剤７（例え
ばＭＯ８２）の層の表面に蒸着材料（例えばＧｏ ）よ
り硬い材料（例えばｓｉｃ、ｗｅ）ｓが点在する構成が
可能となる。この構成による効果は、テープ走行部表面
加工時のバイト取付等の設定により簡単に凹凸を構成す
ることが可能であり、表面が硬質かつスティック−スリ
ップが発生しやすい蒸着テープを走行させる場合に、テ
ープ走行部表面の耐摩耗性は蒸着材料より硬い材料の層
８の凸部先端により向上し、スティック−スリップの発
生は固体潤滑剤の層７により防止できることにある。
第６図に本発明の第３の実施例を示す。ムｅで構成され
た固定シリンダ２のテープ走行部表面に蒸着材料（例え
ばＧｏ ）より硬い材料から々る凸部９を点在させる。
た固定シリンダ２のテープ走行部表面に蒸着材料（例え
ばＧｏ ）より硬い材料から々る凸部９を点在させる。
例えばＳｉＣからなる凸部を作成する場合は、凹部とな
る部分をマスキングしてＳｉＣスパッタリング処理を行
なえばよい。Ａ７Ｊ表面にすべての前記凸部９先端を越
えることなく固体潤滑剤の層例えばＭＯ８２７を設ける
ことで、固体潤滑剤の層７（例えばＭＯ８２）の表面に
蒸着材料（例えばＧｏ ）より硬い材料（例えばＳｉＣ
、ＷＣ）９が点在する構成が可能となる。この構成によ
る効果は、固体潤滑剤の層７の表面に蒸着材料より硬い
材料を点在させる時、点在位置１点在割合を自由に選定
できることにより、テープ走行部表面の耐摩耗性を調整
することが可能となシ、かつ、固定シリンダ２に表面が
硬質で、スティック−スリップが発生しやすい蒸着テー
プを走行させる時、テープ走行部表面の耐摩耗性は蒸着
材料（例えばＧｏ ）より硬い材料（例えばＳｉＣ，
ＷＣ）からなる凸部９の先端面により向上し、スティッ
ク−スリップは固体潤滑剤の層（例えばＭＯ８２）７に
より防止できることにある。
る部分をマスキングしてＳｉＣスパッタリング処理を行
なえばよい。Ａ７Ｊ表面にすべての前記凸部９先端を越
えることなく固体潤滑剤の層例えばＭＯ８２７を設ける
ことで、固体潤滑剤の層７（例えばＭＯ８２）の表面に
蒸着材料（例えばＧｏ ）より硬い材料（例えばＳｉＣ
、ＷＣ）９が点在する構成が可能となる。この構成によ
る効果は、固体潤滑剤の層７の表面に蒸着材料より硬い
材料を点在させる時、点在位置１点在割合を自由に選定
できることにより、テープ走行部表面の耐摩耗性を調整
することが可能となシ、かつ、固定シリンダ２に表面が
硬質で、スティック−スリップが発生しやすい蒸着テー
プを走行させる時、テープ走行部表面の耐摩耗性は蒸着
材料（例えばＧｏ ）より硬い材料（例えばＳｉＣ，
ＷＣ）からなる凸部９の先端面により向上し、スティッ
ク−スリップは固体潤滑剤の層（例えばＭＯ８２）７に
より防止できることにある。
以上のように、本発明によれば磁気テープと固定シリン
ダ間の摩擦抵抗は小さくなり、かつ、固定シリンダのテ
ープ走行面の耐摩耗性も向上するものである。
ダ間の摩擦抵抗は小さくなり、かつ、固定シリンダのテ
ープ走行面の耐摩耗性も向上するものである。
第１図は従来の回転ヘッド装置の斜視図、第２図は同断
面図、第３図は本発明の一実施例における回転ヘッド装
置の断面図、第４図は本発明の他の実施例の断面図、第
６図は本発明の更に他の実施例の断面図である。 １・・・・・・回転シリンダ、２・・・・・・固定シリ
ンダ、４・・・・・・磁気テープ、５・・・・・・磁気
ヘッド、６，８・川・・ＳｉＣ膜、７・・・・・・固体
潤滑剤層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図 ブ 第３図 ５ ＼ 第４図
面図、第３図は本発明の一実施例における回転ヘッド装
置の断面図、第４図は本発明の他の実施例の断面図、第
６図は本発明の更に他の実施例の断面図である。 １・・・・・・回転シリンダ、２・・・・・・固定シリ
ンダ、４・・・・・・磁気テープ、５・・・・・・磁気
ヘッド、６，８・川・・ＳｉＣ膜、７・・・・・・固体
潤滑剤層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが１名第１
図 第２図 ブ 第３図 ５ ＼ 第４図
Claims (3)
- （１）磁気テープと接触するシリンダの外周面の少なく
とも一部に固体潤滑剤層を設けるとともに、その固体潤
滑剤層の表面に前記磁気テープの磁性材より硬質の材料
を点在せしめたことを特徴とする回転ヘッド装置。 - （２）磁気テープと接触するシリンダの外周面の少なく
とも一部に、前記磁気テープの磁性材より硬質な材料に
より複数の突起部を有する層を形成し、その層の上に前
記複数の突起部の先端を露出せしめて固体潤滑剤層を設
けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の回転
ヘッド装置。 - （３）磁気テープと接触する７リンダの外周面の少なく
とも一部に凹凸を設け、その凹凸面に沿って前記磁気テ
ープの磁性材より硬質な材料層を設け、その硬質な材料
層上に、硬質な材料層の凸状部が露出するよう固体潤滑
剤層を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載の回転ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57076247A JPS58194163A (ja) | 1982-05-06 | 1982-05-06 | 回転ヘツド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57076247A JPS58194163A (ja) | 1982-05-06 | 1982-05-06 | 回転ヘツド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194163A true JPS58194163A (ja) | 1983-11-12 |
Family
ID=13599851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57076247A Pending JPS58194163A (ja) | 1982-05-06 | 1982-05-06 | 回転ヘツド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194163A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170057A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Toshiba Corp | Ｖｔｒ用シリンダ− |
-
1982
- 1982-05-06 JP JP57076247A patent/JPS58194163A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170057A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Toshiba Corp | Ｖｔｒ用シリンダ− |
| JPS6155181B2 (ja) * | 1984-02-13 | 1986-11-26 | Tokyo Shibaura Electric Co |
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