JPS5818392A - 銅または銀の弗素化ジケトナ−トおよび不飽和炭化水素との錯体 - Google Patents
銅または銀の弗素化ジケトナ−トおよび不飽和炭化水素との錯体Info
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- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
- C07F1/005—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
- C07F1/08—Copper compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は弗素化ジケトナート(fluorinated
di−ketonate ) および不飽和炭化水素
を配位子として含む新規の銅または銀錯体の製造に関す
る。特に、十/の正式な酸化状態の銅または鋼は弗素化
β−ノケトナートおよび少なくとも7個の非芳香族不飽
和を含む不飽和配位子と錯体を生成し。
di−ketonate ) および不飽和炭化水素
を配位子として含む新規の銅または銀錯体の製造に関す
る。特に、十/の正式な酸化状態の銅または鋼は弗素化
β−ノケトナートおよび少なくとも7個の非芳香族不飽
和を含む不飽和配位子と錯体を生成し。
この錯体生成反応を用いて供給物流から不飽和炭化水素
を除去することができる。
を除去することができる。
ある種の銀(1)塩および銅(I)塩がオレフィンおよ
びアセチレンと錯体を生成することは公知である。
びアセチレンと錯体を生成することは公知である。
例えば、塩化第一銅はエチレンおよびアセチレンの両方
と錯体を生成することが知られている。米国特許第3.
4LO/ 、112号は、不飽和度の異なる炭化水素の
混合物を、式CuXA (上記式中、XAはアニオンで
あり、Xけ酸紫または弗素であり、Aはアニオンの残り
である)の銅(1)場を用いて分離する方法を記載して
いる。弗累化了ニオンの例には、フルオロ置換カル7に
ン酸塩、フルオロスルホン酸塩、ペルフルオロ硼酸塩、
ヘキブフルオロ燐酸塩、ヘキサフルオロアンチ七ン酸塩
が含マレる。Cu XAは該不飽和炭化水素と第一銅錯
体を生成する。同様に、米国特許第3.!;/7.θ7
り号は、フルオロ硼酸第一銅塩またはフルオロ燐酸第一
銅塩を用いて錯体を生成することによる、アルキル芳香
族炭化水素からのビニル芳香族炭化水素の分離方法を記
載している。米国特許第3.7よ≠、O’l−7号およ
び第3.7!;!;、’lf7号は、CuNα4.Cu
BF4、Cu0OCCF3. CLIPF6などのよう
な第一銅塩を用いる、供給’f/lI fN、 カラの
オレフィン、アセチレン、芳香族炭化水素、COのよう
な 化可能な配位子の分離ナートと有機相とを用いる。
と錯体を生成することが知られている。米国特許第3.
4LO/ 、112号は、不飽和度の異なる炭化水素の
混合物を、式CuXA (上記式中、XAはアニオンで
あり、Xけ酸紫または弗素であり、Aはアニオンの残り
である)の銅(1)場を用いて分離する方法を記載して
いる。弗累化了ニオンの例には、フルオロ置換カル7に
ン酸塩、フルオロスルホン酸塩、ペルフルオロ硼酸塩、
ヘキブフルオロ燐酸塩、ヘキサフルオロアンチ七ン酸塩
が含マレる。Cu XAは該不飽和炭化水素と第一銅錯
体を生成する。同様に、米国特許第3.!;/7.θ7
り号は、フルオロ硼酸第一銅塩またはフルオロ燐酸第一
銅塩を用いて錯体を生成することによる、アルキル芳香
族炭化水素からのビニル芳香族炭化水素の分離方法を記
載している。米国特許第3.7よ≠、O’l−7号およ
び第3.7!;!;、’lf7号は、CuNα4.Cu
BF4、Cu0OCCF3. CLIPF6などのよう
な第一銅塩を用いる、供給’f/lI fN、 カラの
オレフィン、アセチレン、芳香族炭化水素、COのよう
な 化可能な配位子の分離ナートと有機相とを用いる。
酸性水溶液からの金属価値物の抽出方法を記載している
。実施例コおよび10は、有機相の存在下に於ける。p
8.2の酸溶液からの第二銅状態での銅の回収を示して
いチルアセトナートとの反応生成物を含む吸収剤溶液を
用いる。気体流からのCOの選択的除去を記載している
。COが除去される気体流は、N2.02などのような
他の気体に加えてアルケンおよびアルキンを含んでいて
もよい。Cu (1)含有反応生成物はCOと反応して
CO含有錯体を生成する。
。実施例コおよび10は、有機相の存在下に於ける。p
8.2の酸溶液からの第二銅状態での銅の回収を示して
いチルアセトナートとの反応生成物を含む吸収剤溶液を
用いる。気体流からのCOの選択的除去を記載している
。COが除去される気体流は、N2.02などのような
他の気体に加えてアルケンおよびアルキンを含んでいて
もよい。Cu (1)含有反応生成物はCOと反応して
CO含有錯体を生成する。
J、C,S、 ダルトy (D、alton ) 2
20 +!I’ (15?7.2)は、(h f a
c )2Cu (N20 )とN(CH2CH2)3N
との反応による錯体(hfac)2Cu(N(CH2C
H2)3N)の生成を記載している。銅は+2状態であ
る。J、C,S、ダルトン(Dalton ) ’l
I ’l (15#0 )は、Cu(β−ジケトナー
ト)′(β−ジケトナート)’ (L ) (ここで、
β−ジケトナートは弗素化されていてもよく。
20 +!I’ (15?7.2)は、(h f a
c )2Cu (N20 )とN(CH2CH2)3N
との反応による錯体(hfac)2Cu(N(CH2C
H2)3N)の生成を記載している。銅は+2状態であ
る。J、C,S、ダルトン(Dalton ) ’l
I ’l (15#0 )は、Cu(β−ジケトナー
ト)′(β−ジケトナート)’ (L ) (ここで、
β−ジケトナートは弗素化されていてもよく。
LdO−フェナントロリンまたは、2.2’−ビピリジ
ン′またはN、N、N’、N ’−デトラメチルエタン
ー/、2−ノアミンである)の型のCu (n) 錯体
を記載している。
ン′またはN、N、N’、N ’−デトラメチルエタン
ー/、2−ノアミンである)の型のCu (n) 錯体
を記載している。
本発明者らは、銅(1)および銀(1)が、配位子とし
ての弗素化アセチルアセトナートアニオノおよび不飽和
炭化水素と新しい群の錯体を生成することを発見した。
ての弗素化アセチルアセトナートアニオノおよび不飽和
炭化水素と新しい群の錯体を生成することを発見した。
本発明の錯体は式
る。上記式中、MはCu(1)またはAg(1)であり
。
。
R11dC工〜C6フルオロアルキル、あるいはC工〜
C8アルキル、あるいはOまたはSまたはNを含むC4
〜C6複素環、あるいは06〜C工。アリールであり、
RはHあるいはCエルC6アルキルであり、但しR1と
R2とはそれらが結合している炭素と共に一緒に結合し
てC6i’l形成することができることを条件とし、L
はCu−L結合を生成することができる少なくとも7個
の非芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素、好ましくは少
なくとも7個のエチレン系またはアセチレン系またはイ
ノニトリル系の不飽和を含む不飽和炭化水素であり、X
およびyは/または2であり、nは/〜K の整数であ
る。
C8アルキル、あるいはOまたはSまたはNを含むC4
〜C6複素環、あるいは06〜C工。アリールであり、
RはHあるいはCエルC6アルキルであり、但しR1と
R2とはそれらが結合している炭素と共に一緒に結合し
てC6i’l形成することができることを条件とし、L
はCu−L結合を生成することができる少なくとも7個
の非芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素、好ましくは少
なくとも7個のエチレン系またはアセチレン系またはイ
ノニトリル系の不飽和を含む不飽和炭化水素であり、X
およびyは/または2であり、nは/〜K の整数であ
る。
本発明は、供給物流を、不活性有機溶媒中で。
Cu2OまたはAg2Oおよび式
(上記式中、R1けCエルC6フルオロアルキル、ある
いは01〜C8アルキル、あるいはOまたはSまたけN
を含むC4〜C6複素環、あるいは06〜C工。
いは01〜C8アルキル、あるいはOまたはSまたけN
を含むC4〜C6複素環、あるいは06〜C工。
了リールであり、RはHあるいはCエルC6アルキルで
あり、世しR1とR2とはそれらが結合している炭素と
共に一緒に結合してC6県を形成することができること
を条件とし、nは7〜gの整数である) の弗1化了→ζチルアセトナートと接触させることを含
む方法によって、供給物流から少なくとも7個の非芳香
族不飽和を含む不飽和炭化水素を除去することができる
という発見にも関する。
あり、世しR1とR2とはそれらが結合している炭素と
共に一緒に結合してC6県を形成することができること
を条件とし、nは7〜gの整数である) の弗1化了→ζチルアセトナートと接触させることを含
む方法によって、供給物流から少なくとも7個の非芳香
族不飽和を含む不飽和炭化水素を除去することができる
という発見にも関する。
本発明のもう7つの実施態様に於ては、供給物流を、不
活性有機溶媒中で、金MCuおよび式(上記式中、Rは
C工・〜C6フルオロアルキル、するいは01〜C8ア
ルキル、あるいはOまたはSまたはNを含むC4〜C6
vJ素環、あるいはC6〜C1゜アリールであり、R2
はHあるいはCエルC6アルキルであり、但しR1とR
2とはそれらが結合している炭素と共に一緒に結合して
C6fiJ ’に形成することができることを条件とし
、nは/〜どの整数である)ノcu (If)弗素化ア
セチルアセトナートと接触させることを含む方法によっ
て、供給物流から少なくとも7個の非芳香族不飽和を含
む不飽和炭化水素を除去することができる。別法では、
供給物流を、不活性有機溶媒中で、式 (上記式中 R1、R2、nは上で定義した通りでアル
)のAg (In素化アセチルアセトナートと接触させ
ることにより、供給物流から不飽和炭化水素を除去する
ことができる。
活性有機溶媒中で、金MCuおよび式(上記式中、Rは
C工・〜C6フルオロアルキル、するいは01〜C8ア
ルキル、あるいはOまたはSまたはNを含むC4〜C6
vJ素環、あるいはC6〜C1゜アリールであり、R2
はHあるいはCエルC6アルキルであり、但しR1とR
2とはそれらが結合している炭素と共に一緒に結合して
C6fiJ ’に形成することができることを条件とし
、nは/〜どの整数である)ノcu (If)弗素化ア
セチルアセトナートと接触させることを含む方法によっ
て、供給物流から少なくとも7個の非芳香族不飽和を含
む不飽和炭化水素を除去することができる。別法では、
供給物流を、不活性有機溶媒中で、式 (上記式中 R1、R2、nは上で定義した通りでアル
)のAg (In素化アセチルアセトナートと接触させ
ることにより、供給物流から不飽和炭化水素を除去する
ことができる。
体は、不活性有機溶媒中で、金属酸化物と弗素化アセチ
ルアセトナートと不飽和炭化水素とを反応させることに
よって製造され、この反応が気体流からの不飽和炭化水
素の除去の基礎を形成する。
ルアセトナートと不飽和炭化水素とを反応させることに
よって製造され、この反応が気体流からの不飽和炭化水
素の除去の基礎を形成する。
このかけ下記のように示される。
Ag mfa体も同様に製造される。反応体は、好壕し
くはほぼ化学練論計で結合される。しかし、反応体の゛
(旨は臨界的ではなく、化学量論量から変化させること
が可能である。反応は、好ましくは不活性有機溶媒中で
行われる。好ましい溶媒け、エーテル、ケトン、エステ
ル、アルコール、飽和脂肪族炭化水素、芳香族層化水素
などである。
くはほぼ化学練論計で結合される。しかし、反応体の゛
(旨は臨界的ではなく、化学量論量から変化させること
が可能である。反応は、好ましくは不活性有機溶媒中で
行われる。好ましい溶媒け、エーテル、ケトン、エステ
ル、アルコール、飽和脂肪族炭化水素、芳香族層化水素
などである。
するとき、それぞれの金属Mについて下記の平衡が生じ
る。
る。
これらの平衡に基づき、金属Cu 十Cu (II)弗
素化アセチルアセトナートあるいはAg’(1) 弗素
化了セチルアセトナートを用いることにより、供給物流
から不飽和炭化水素を除去することも可能であるはずで
あり、このことは実験的に実証することができる。また
、これらの平衡反応を用いて1本発明のCu (Il錯
体およびAg (1)錯体を製造することもできる。
素化アセチルアセトナートあるいはAg’(1) 弗素
化了セチルアセトナートを用いることにより、供給物流
から不飽和炭化水素を除去することも可能であるはずで
あり、このことは実験的に実証することができる。また
、これらの平衡反応を用いて1本発明のCu (Il錯
体およびAg (1)錯体を製造することもできる。
好ましい弗素化アセチルアセトナートアニオン中、RI
Uc工〜C3フルオロアルキル、特にCF3、アルいハ
C工〜C6アルキル、あるいは06〜C工。
Uc工〜C3フルオロアルキル、特にCF3、アルいハ
C工〜C6アルキル、あるいは06〜C工。
了リール、あるいは0またはSまたはNを含むC4〜C
5複素環であり、R2はHであり、但しR1とR2とは
一緒に結合して06環を形成することができることを条
件とし、nは/〜≠、特に/である。弗素化アセチルア
セトナートアニオンの好マしい実施態様の例としては、 O0 CF3−C−CH2−C−CF3 が特に好ましい。
5複素環であり、R2はHであり、但しR1とR2とは
一緒に結合して06環を形成することができることを条
件とし、nは/〜≠、特に/である。弗素化アセチルア
セトナートアニオンの好マしい実施態様の例としては、 O0 CF3−C−CH2−C−CF3 が特に好ましい。
好ましい不飽和炭化水素は、(a)式
〔上記式中、R−Rは、独立にH:C,〜C3o、より
好ましくけC工〜C15、特にC工〜C8の脂肪族基(
aliphatic )であり(但し、R3、R4、R
5゜R6のいずれかの組合わせは一緒に結合して少なく
とも7個のC4〜C14、より好ましくは05〜C12
、最も好オしくけC6〜C8のシクロ脂肪族環を形成す
ることができることを条件とする)ニーC三N;C6〜
C1o 丁リール;C7〜C14芳香脂肪族基(ar
allphatlc ) : (R7) −g−(o)−R” (ここで、mおよ
びpは0ま+n p たは/であり、R7はC工〜C20’好1しくは0、〜
C工。脂肪族基であり、RはHまたはC工〜C工。脂肪
族基またはC6〜C工。アリールであり、但し相隣る(
R7)m−CI−(0)、 −R8は一緒に結合して0
4〜Cよ。無水物を形成することができることを条件と
する)である〕 のアルケン:あるいは、(b)式 %式% (上記式中、RおよびRは、独立にHlあるいはC1〜
C30’ より好ましくけC工〜C工、、特にC工〜C
8脂肪族基、あるいはC6〜C工。アリール。
好ましくけC工〜C15、特にC工〜C8の脂肪族基(
aliphatic )であり(但し、R3、R4、R
5゜R6のいずれかの組合わせは一緒に結合して少なく
とも7個のC4〜C14、より好ましくは05〜C12
、最も好オしくけC6〜C8のシクロ脂肪族環を形成す
ることができることを条件とする)ニーC三N;C6〜
C1o 丁リール;C7〜C14芳香脂肪族基(ar
allphatlc ) : (R7) −g−(o)−R” (ここで、mおよ
びpは0ま+n p たは/であり、R7はC工〜C20’好1しくは0、〜
C工。脂肪族基であり、RはHまたはC工〜C工。脂肪
族基またはC6〜C工。アリールであり、但し相隣る(
R7)m−CI−(0)、 −R8は一緒に結合して0
4〜Cよ。無水物を形成することができることを条件と
する)である〕 のアルケン:あるいは、(b)式 %式% (上記式中、RおよびRは、独立にHlあるいはC1〜
C30’ より好ましくけC工〜C工、、特にC工〜C
8脂肪族基、あるいはC6〜C工。アリール。
あるいはCヮ〜C工、芳香・脂肪族基である)のアルキ
ン;あるいは、(c)式 R11−NEC (上記式中、R11けC工〜C2o脂肪族基、あるいけ
03〜C□。シクロ脂肪族基、あるいは07〜C2゜芳
香脂肪族基、あるいは06〜C1o 丁リールである
) のイソニトリルであるう不飽和炭化水素は、・・ロrン
、シ了ノ、アルコキシ、ニトロなどのような不反応性置
換基で置換されていてもよいつ適当な不飽和配位子の例
としては、エチレン、アセチ1/ンJ−オクテン、イン
ブチレン、/、!;−7クロオクタジエン、スチルベン
、ノフェニルアセチレン、ス千しン、シクロオクテン、
/Jβ−シクロドデカトリエン、へ3−ヘキサ・ジエン
、イソノロビルアセチレン、/−デセン、/、!;−ビ
シクロペンタジェン、/−オクタデセン、シクロインテ
ン、オクタリン、メチレンシクロヘキ→rン。
ン;あるいは、(c)式 R11−NEC (上記式中、R11けC工〜C2o脂肪族基、あるいけ
03〜C□。シクロ脂肪族基、あるいは07〜C2゜芳
香脂肪族基、あるいは06〜C1o 丁リールである
) のイソニトリルであるう不飽和炭化水素は、・・ロrン
、シ了ノ、アルコキシ、ニトロなどのような不反応性置
換基で置換されていてもよいつ適当な不飽和配位子の例
としては、エチレン、アセチ1/ンJ−オクテン、イン
ブチレン、/、!;−7クロオクタジエン、スチルベン
、ノフェニルアセチレン、ス千しン、シクロオクテン、
/Jβ−シクロドデカトリエン、へ3−ヘキサ・ジエン
、イソノロビルアセチレン、/−デセン、/、!;−ビ
シクロペンタジェン、/−オクタデセン、シクロインテ
ン、オクタリン、メチレンシクロヘキ→rン。
ジフェニルフルペン、/−オフタテシン、桂皮酸ベンジ
ル、ベンザルアセトフェノン、丁クロレイン、アクリロ
ニトリル、無水マレイン酸、オレイン酸、リルン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸メチル、マレイン酸ジエチルが
含1れる。適当なイノニトリルは1例えばイソシアン化
メチル、イソシアン化メチル、イソシアン化シクロヘキ
シル。
ル、ベンザルアセトフェノン、丁クロレイン、アクリロ
ニトリル、無水マレイン酸、オレイン酸、リルン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸メチル、マレイン酸ジエチルが
含1れる。適当なイノニトリルは1例えばイソシアン化
メチル、イソシアン化メチル、イソシアン化シクロヘキ
シル。
インシアン化フェニルエチル、イソシアン化フェニルで
ある。
ある。
気体流から不飽和炭化水素除去によって生成される銅(
、I)錯体および銀(1)錯体の例は下記の通りである
。
、I)錯体および銀(1)錯体の例は下記の通りである
。
供給物からの不飽和炭化水素の除去方法訃よび本発明の
A<4fl)錯体またはcuft)錯体の製造方法は。
A<4fl)錯体またはcuft)錯体の製造方法は。
不活性+Ir伝/6妓中で行われるっ好捷しい溶媒附5
、エーテル、ケトン、エステル、アルコール+fU 和
k 肪に炭化水素、芳香族炭化水素などである。反応混
合物中のCOのiiXは約70芥量%をルートえてはな
らないっCOは、第一銅錯体の生成で小胞、」1」炭化
水素と競合し、熱力学的考慮に基づくと、競合−凧のC
0が存在する限り、CO錯体が不飽和炭化水素錯体に優
先して生成する。酸素のような気体はCufl)のCu
(n)への酸化を起こさせる可能性があるので、不活
性雰囲気中で反応を行うことも望才しい。
、エーテル、ケトン、エステル、アルコール+fU 和
k 肪に炭化水素、芳香族炭化水素などである。反応混
合物中のCOのiiXは約70芥量%をルートえてはな
らないっCOは、第一銅錯体の生成で小胞、」1」炭化
水素と競合し、熱力学的考慮に基づくと、競合−凧のC
0が存在する限り、CO錯体が不飽和炭化水素錯体に優
先して生成する。酸素のような気体はCufl)のCu
(n)への酸化を起こさせる可能性があるので、不活
性雰囲気中で反応を行うことも望才しい。
反応時間は臨界的ではない。一般に、透明な溶液が得ら
れる壕で、反応混合物全攪拌する3次に、溶媒を蒸発さ
せることKよって固体生成物全学離する。適当な篇度は
約−700〜+/、0.0℃であり、室温が好ましい。
れる壕で、反応混合物全攪拌する3次に、溶媒を蒸発さ
せることKよって固体生成物全学離する。適当な篇度は
約−700〜+/、0.0℃であり、室温が好ましい。
反応混合物を過度に加熱すると、M暗反応が起こる可能
性がある。かくして、銅(1)エチレン錯体は解離圧が
高いためにむしろ不安定であり、加熱は望捷しくない。
性がある。かくして、銅(1)エチレン錯体は解離圧が
高いためにむしろ不安定であり、加熱は望捷しくない。
一方、高分子量オレフィンは安定な化合物を生成し、反
応混合物は、不飽和炭化水素の除去に関して肩書な結果
を与えずに加熱することができる。
応混合物は、不飽和炭化水素の除去に関して肩書な結果
を与えずに加熱することができる。
Cu2Oおよび(または) Ag2Oおよび弗素化アセ
デルアセトナートは1通常、はぼ化学量論緻で反応混合
物中に存在する。しかし、広節囲に変化させることがで
きる〜金属酸化物および弗素化アセチルアセトナートの
濃度は、約0.00/〜tM、好ましくは0,7〜3M
の範囲であることができる。
デルアセトナートは1通常、はぼ化学量論緻で反応混合
物中に存在する。しかし、広節囲に変化させることがで
きる〜金属酸化物および弗素化アセチルアセトナートの
濃度は、約0.00/〜tM、好ましくは0,7〜3M
の範囲であることができる。
不飽和炭化水素を含む供給物流は1回分方式か連続方式
かのいずれかで反応混合物と接触させる。
かのいずれかで反応混合物と接触させる。
気体供給物流の場合には、気体分散装置を通して気体を
反応混合物中へ導入することができる。液体供給物流は
、攪拌系れている反応器へ碑いてもよく、あるいは向流
抽出装置中で分離操作を行ってもよい。
反応混合物中へ導入することができる。液体供給物流は
、攪拌系れている反応器へ碑いてもよく、あるいは向流
抽出装置中で分離操作を行ってもよい。
連続式操作が好−ましい。前述したいずれかの分離反応
を用いることにより、錯体 R,R,L、X、y、nは上で定義した通りである)を
含む浴液が生成する。この溶液を、錯体全分解させるの
VC十分な温度で熱処理し、かつ不飽和炭化水素を溶液
から、例えば蒸留によって分離する。分解のだめの所要
温度は錯体の安定度Vこよって異なり、0〜200℃の
範囲である。溶媒の選択により、不活性有機溶媒を液体
として維持するため昇圧が必要な場合があり得る。分解
生成物は、上記のMがCu であるかAg であるか
によって、金属CuとCu (II)弗素化アセチルア
セトナートであるか、あるいはAg (IJ弗素化アセ
チルアセトナートである。得られた混合物寸たは溶液は
、再循環はせてさらに供給物流と接触させ、かくして金
属錯体を再び生成させた後、(11び分解温度に加熱す
る。この循環グロセスは1記の平衡で示される。
を用いることにより、錯体 R,R,L、X、y、nは上で定義した通りである)を
含む浴液が生成する。この溶液を、錯体全分解させるの
VC十分な温度で熱処理し、かつ不飽和炭化水素を溶液
から、例えば蒸留によって分離する。分解のだめの所要
温度は錯体の安定度Vこよって異なり、0〜200℃の
範囲である。溶媒の選択により、不活性有機溶媒を液体
として維持するため昇圧が必要な場合があり得る。分解
生成物は、上記のMがCu であるかAg であるか
によって、金属CuとCu (II)弗素化アセチルア
セトナートであるか、あるいはAg (IJ弗素化アセ
チルアセトナートである。得られた混合物寸たは溶液は
、再循環はせてさらに供給物流と接触させ、かくして金
属錯体を再び生成させた後、(11び分解温度に加熱す
る。この循環グロセスは1記の平衡で示される。
気体供給物流は、 N2 、 H2、Co2、アルカン
、H20,SO2、SO3、NH3のような他の気体を
含んでいてもよい。しかし、供給物流は、約70答景チ
を越える量のH2Sまたはco を含んでいてはなら
ず、また02量は約70答量%を越えてはならない。液
体供給物流は有機溶媒の混合物を含むことができる。
、H20,SO2、SO3、NH3のような他の気体を
含んでいてもよい。しかし、供給物流は、約70答景チ
を越える量のH2Sまたはco を含んでいてはなら
ず、また02量は約70答量%を越えてはならない。液
体供給物流は有機溶媒の混合物を含むことができる。
本発明の方法は、気体および液体供給物流(芳香族炭化
水素を含有するものを含む)から、少なくとも7個の非
芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素を分離するために用
いることができる。本発明k ・□。
水素を含有するものを含む)から、少なくとも7個の非
芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素を分離するために用
いることができる。本発明k ・□。
の方法は、光学異性体の分離にも用いることができる、
光学活性弗素化アセチルアセトナート、例えば3−トリ
フルオロアセチル−d−カンフアラ。
光学活性弗素化アセチルアセトナート、例えば3−トリ
フルオロアセチル−d−カンフアラ。
ラーIニミ混合゛吻である不飽和配位トと反応をせると
。
。
ノアステレオアイソマーの群団物が生成する。ノ了ステ
l/7rfイノマーの分離のための公知の分割法を用い
ることにより、光′?と的に純粋な不飽和配位子金単齢
することができ;I:)っ以丁、実1%例によってさら
し′こ本発明を音、明する1つ実加例/ 乙41−3g(0,07モル)の酸化第−銅を73 m
l。
l/7rfイノマーの分離のための公知の分割法を用い
ることにより、光′?と的に純粋な不飽和配位子金単齢
することができ;I:)っ以丁、実1%例によってさら
し′こ本発明を音、明する1つ実加例/ 乙41−3g(0,07モル)の酸化第−銅を73 m
l。
の子トラヒドロフラン中に分散させた懸濁液を1.23
; Or、7tフラスコ中、窒累下で、!、/乙g(0
,02モル)のへj−シクロオクタノエンと共に攪拌シ
た。、!; Omlのテトラヒドロフラン中にlA/
g 、9(0,02モル〕の/ 、/ 、/ 、3;、
!;、S−ヘキサフルオロアセチルアセトン(hfac
ac )k含む浴液を、30分間にわたって制別した。
; Or、7tフラスコ中、窒累下で、!、/乙g(0
,02モル)のへj−シクロオクタノエンと共に攪拌シ
た。、!; Omlのテトラヒドロフラン中にlA/
g 、9(0,02モル〕の/ 、/ 、/ 、3;、
!;、S−ヘキサフルオロアセチルアセトン(hfac
ac )k含む浴液を、30分間にわたって制別した。
赤色のCu2o が徐々に浴解し、透明な黄色溶液とな
った。この溶液を1過し一〇残留固体を除去した後、溶
媒を回転蒸発器で除去し、Cu ’(i、s、 −c
o o ) (hfacac ) k光沢ある黄色結
晶として得、これをヘキサンから再結晶により精製する
ことができた。生成物は、1RおよびNMR分光法なら
びに元素分析で確認された。
った。この溶液を1過し一〇残留固体を除去した後、溶
媒を回転蒸発器で除去し、Cu ’(i、s、 −c
o o ) (hfacac ) k光沢ある黄色結
晶として得、これをヘキサンから再結晶により精製する
ことができた。生成物は、1RおよびNMR分光法なら
びに元素分析で確認された。
実施例!
/ ’00 miのテトラヒドロフラン中に70ミリモ
ルのCu20を含む懸濁液を調製し、この混合物に、2
0ミリモルのヘキサフルオロ了セチルアセトンを添加し
た。攪拌後、H2≠01 、C2H4乙0qbのおよそ
の組成をもつ気体混合物を、室温で溶液中にバブリング
し、エチレン:cu(1)塩比が/:/の錯体を生成さ
せた。溶液上の気体混合物を分析したところ1本質的に
完全にエチレンが除去されていた。
ルのCu20を含む懸濁液を調製し、この混合物に、2
0ミリモルのヘキサフルオロ了セチルアセトンを添加し
た。攪拌後、H2≠01 、C2H4乙0qbのおよそ
の組成をもつ気体混合物を、室温で溶液中にバブリング
し、エチレン:cu(1)塩比が/:/の錯体を生成さ
せた。溶液上の気体混合物を分析したところ1本質的に
完全にエチレンが除去されていた。
エチレンを回収するため、溶液中にN2ヲ通じた。別法
では、溶液を、エチレンの発生が止むまで50℃に加熱
した。
では、溶液を、エチレンの発生が止むまで50℃に加熱
した。
実施例3
実施例/の操作管繰返した。但し、テトラヒドロフラン
の代わりにテトラヒドロフランクOmi 、!:水10
m1との混合溶媒を用いた。実施例/と同じ結果が得ら
れ、比較的多量の水によってエチレンの吸収があ才り影
+7;i)されないことがわかった。
の代わりにテトラヒドロフランクOmi 、!:水10
m1との混合溶媒を用いた。実施例/と同じ結果が得ら
れ、比較的多量の水によってエチレンの吸収があ才り影
+7;i)されないことがわかった。
実施例1A
実施例/の操作全繰返した。但し、およそjOチのデr
+ylンおよび50%のfL+ピレン全含む混合気体を
Cu (1)塩溶液中にバブリングした。溶液および溶
液上の混合気体を分析した所、/:/のプロピレン:
Cu (1)錯体が/4;成し、気体から(dはとんど
プロピレンが完全に除去されていた、っこのことは、比
較的多液のアルカンが存在[7ていてもオレフィンの吸
収が起こることを示しているっ実施例j 100mtの塩化メチレン中に70ミリモルのCU 2
0を含む懸濁溶をつくり、この混合物に、20ミリモル
のヘキサフルオロアセチルアセトンを添加シタ。およそ
50%のエチレ/と50%の窒素とを含む気体流をこの
溶液中に通じて/:/エチレン:Cutl)塩を生成さ
せた。この混合物を、加熱還流きせてエチレンを遊離は
せかつ金属鋼とCu (II)ヘキサフルオロアセチ
ルアセトンと全生成芒せた。この混合物を室温に冷却し
、再びエチレン−窒素気体混合物に暴露して/:/エチ
レン: Cu (1)塩を生成させた。この混合物を
、再び加熱還流してエチレンを遊離させた。この循環プ
ロセスは、無限に繰返すことができる。
+ylンおよび50%のfL+ピレン全含む混合気体を
Cu (1)塩溶液中にバブリングした。溶液および溶
液上の混合気体を分析した所、/:/のプロピレン:
Cu (1)錯体が/4;成し、気体から(dはとんど
プロピレンが完全に除去されていた、っこのことは、比
較的多液のアルカンが存在[7ていてもオレフィンの吸
収が起こることを示しているっ実施例j 100mtの塩化メチレン中に70ミリモルのCU 2
0を含む懸濁溶をつくり、この混合物に、20ミリモル
のヘキサフルオロアセチルアセトンを添加シタ。およそ
50%のエチレ/と50%の窒素とを含む気体流をこの
溶液中に通じて/:/エチレン:Cutl)塩を生成さ
せた。この混合物を、加熱還流きせてエチレンを遊離は
せかつ金属鋼とCu (II)ヘキサフルオロアセチ
ルアセトンと全生成芒せた。この混合物を室温に冷却し
、再びエチレン−窒素気体混合物に暴露して/:/エチ
レン: Cu (1)塩を生成させた。この混合物を
、再び加熱還流してエチレンを遊離させた。この循環プ
ロセスは、無限に繰返すことができる。
実施例乙〜II−j
下記の表中に示されるこれらの実施例は、供給物流から
除去することができる不飽和配位子の型およびそれによ
って生成した特別な錯体を示す。
除去することができる不飽和配位子の型およびそれによ
って生成した特別な錯体を示す。
/
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔上記式中1MはCu (I’l またはAg(1)で
あシ、R1はC1′−CフルオロアルキルあるいFiC
1〜C8アルキシあるいはO′=!たはSまたはNを含
むC4〜C6複素環あるいは06〜C1o了リールであ
り、R2はHまたはCエルC6アルキルであり、但しR
1およびR2は、それらが結合している炭素と共に一緒
に結合してC6ff1を形成することができることを条
件とし、Lは少なくとも7個の非芳香族不飽和を含む不
飽和炭化水素配位子であり、Xおよびyは/または!で
あり、nは7〜gである〕の錯体を含むことを特徴とす
る物質組成物。 (2)Lが少なくとも7個のエチレン系不飽和またはア
セチレン系不飽和またはイソニ、トリル系不飽和を含む
不飽和炭化水素であることをさらに特徴とする特許請求
の範囲第(1)項記載の組成物。 (3)Lが(a)式 〔上記式中、R3〜R6は独立にH: C,〜C3゜脂
肪族基(但し、R3、R4,R5、R6のいずれかの組
合わせが一緒に結合して少なくとも7個の04〜C工、
シクロ脂肪族環を形成することができることを条件とす
る)ニーC=l:N;c6〜Cよ。アリ−” ” ”7
〜C14芳香脂肪族基(、arallphatlc)
:(R7)m−C−(0)、−R8 (ここでmおよびpは0−または/であり、R7ばC工
〜C2o脂肪族基÷あり、R8ばHまたはC工〜C工。 脂肪族基または06〜Cよ。アリールであり、但し相隣
る(R7)m−d−(O)、−R8は一緒に結合してC
4〜C工。無水物を形成することができることを条件と
する)である〕 のアルケン;あるいは(b)式 RCミCR (上記式中、R9およびR10は独立にH’JたはC工
〜C3″。脂肪族基または06〜C工。アリールまたは
Cヮ〜C18芳香脂肪族基である)のアルキン;あるい
は(C)式 %式% (上記式中、R1,1けC1〜C2o脂肪族基または0
3〜C工。シクロ脂肪族基または07〜C2o芳香脂肪
族基または06〜C工。アリールである)のイソニ ト
リ ル であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の組成物。 (4)RカC工〜C3フルオロアルキル、あるいハC工
〜・C6アルキル、あるいは06〜C1oアリール、あ
るいはOまたはSまたはNを含むC4またけC5複素環
であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の組成物。 (5) R”がCF3であり、R2がHであり、nが
7であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第(1
)項記載の組成物。 (6) R3−R6が独立にHあるいはC□〜C□5
脂肪族基あるいはC5〜C工、シクロ脂肪族基あるいけ
“06〜C工。アリールあるいはCヮ〜C工。芳香脂肪
族基であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第(
3)項記載の組成物。 R2がHであり、nが/であり、Xおよびyがであるこ
とをさらに特徴とする特許請求の範囲第(3)項記載の
組成物。 (8)特許請求の範囲第(1)項〜第(7)項記載の組
成物のいずれかを製造するためのかつ供給物流から少な
くとも7個の非芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素を除
去するための方法であって、供給物流を、不活性有機溶
媒中のCu OまたはAg2Oの少なくとも1つおよび
式 〔上記式中、R1はCエルC6フルオロアルキル、ある
いはCよ〜C8アルキル、あるいはOまたはSまたはN
を含むC4〜C6複素環、あるいはC6〜C工。ア11
−ルであり、R2はHあるいはC工〜C6アルキルであ
り、但し、RおよびR2は、それらが結合している炭素
原子と共に一緒に結合してC6申に形成することができ
ることを条件とし、nは7〜gの整数である〕 の弗素化アセチルアセトナートと接触させることを特徴
とする方法。 (9)特許請求の範囲第(1)項〜第(7)項記載のm
l成物のいずれかを製造するだめのかつ供給物流から少
なくとも7個の非芳香族不飽和を含む不飽和炭化水素を
除去するための方法であって、供給物流を、不活性有機
溶媒中の金属銅および式セチルアセトナート、または式 ノAg(I)弗素化アセチルアセトナート(上記各式中
、R1はCエルC6フルオロアルキル、アルいは00〜
C8アルキル、あるいはOまたけSまたはNを含むC4
〜C6複素環、あるいはC6〜C工。アリールであり、
R8はHあるいはCエルC6アルキルであり、但し、R
]、およびR2は、それらが結合している炭素と共に一
緒に結合してC6B1 k形成することができることを
条件とし、nは7〜gの整数である) と接触させることを特徴とする方法。 C1不飽和炭化水素が少なくとも7個のエチレン系不飽
和またはアセチレン糸不飽和丑たはイソニトリル系不飽
和を含むことを窟らに特徴とする特許請求の範囲第(8
)項または第(9)項記載の方法。 α]) Cu2O(!: ’Ag2Oと弗素化アセチ
ルナセトナートとの量あるいけ金属Cυと(::u f
ll)弗素化アセチルアセトナートまた”はAg (1
)弗素化アセチルアセトナートとの量が約0,00/〜
jM−であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第
(8)項または第α1項記載の方法。 0埠 温度が約−700〜十70゛0℃であることをさ
らに特徴とする特許請求の範囲第(8)項〜第←め項記
載の方法。 03 Cutl)またはAg (+)の弗素化アセチ
ルアセトナートおよび少なくとも7個の非芳香族不飽和
を有する不飽和炭化水素との錯体を含む溶液を、錯体を
分解させるのに十分な温度に加熱し、かつ溶液を再循環
させて、さらに供@物流と接触させることをさらに特徴
とする特許請求の範囲第(8)項〜第θ諺項記載の方法
。 負→ 不飽和炭化水素が(a)式 〔上記式中、R−Rは独立にH;C□〜C3゜脂肪族基
(但しR3、R4、R5、R6のいずれかの組合わせが
一緒に結合して少なくとも7個の04〜C工、シクロ脂
肪族環を形成することができることを条件とする);−
C=N;C6〜C工。アリール;C7〜Cよ、芳香脂肪
族基; (R7)m−C−(0)、−R8(ここでmおよびpは
θまた(d/であり、R7はC工〜”20脂肪族基であ
り。 R8はHまたはC工〜C工。脂肪族基または06〜C工
。了リールであり、但し相隣る (R7)m−6御(0)、−R8は一緒に結合してC4
〜C工。 無水物を形成することができることを条件とする)であ
る〕 のアルケン、あるいけ(b)式 %式% (上記式中 R9およびR10は独立にHあるいはC工
〜C3o 脂肪族基あるいはC6〜C工。アリールあ
るいは07〜Cよ、芳香脂肪族基である)のアルキン、
あるいは(C)式 %式% (上記式中、R11はC工〜C2o脂肪族基またはC3
〜C工。シクロ脂肪族基または07〜C2o芳香脂肪族
基または06〜Cよ。アリールである)のイソニトリル であることをさらに特徴とする特許請求の範囲第(8)
項〜第α1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/282,652 US4425281A (en) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | Copper or silver complexes with fluorinated diketones and unsaturated ligands |
US282652 | 1981-07-13 | ||
US282653 | 1981-07-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5818392A true JPS5818392A (ja) | 1983-02-02 |
Family
ID=23082507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57121962A Pending JPS5818392A (ja) | 1981-07-13 | 1982-07-13 | 銅または銀の弗素化ジケトナ−トおよび不飽和炭化水素との錯体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4425281A (ja) |
JP (1) | JPS5818392A (ja) |
ZA (1) | ZA824966B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06501287A (ja) * | 1990-10-24 | 1994-02-10 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 配位子で安定化された一価金属β−ジケトン配位錯体および金属薄膜の化学蒸着へのその利用 |
JP2011126861A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 金属薄膜形成用有機金属錯体、これを含むインク及びこれを利用した金属薄膜の形成方法 |
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US5098516A (en) * | 1990-12-31 | 1992-03-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Processes for the chemical vapor deposition of copper and etching of copper |
US5187300A (en) * | 1991-02-04 | 1993-02-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volatile precursors for copper CVD |
JP2622671B2 (ja) * | 1995-03-07 | 1997-06-18 | 株式会社トリケミカル研究所 | 銅のβ−ジケトネート錯体の製造方法 |
US5764778A (en) * | 1995-06-07 | 1998-06-09 | Sensimetrics Corporation | Hearing aid headset having an array of microphones |
US6204176B1 (en) | 1998-11-10 | 2001-03-20 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Substituted phenylethylene precursor deposition method |
US6015918A (en) * | 1998-11-10 | 2000-01-18 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Allyl-derived precursor and synthesis method |
US6090963A (en) * | 1998-11-10 | 2000-07-18 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Alkene ligand precursor and synthesis method |
US6245261B1 (en) * | 1998-12-11 | 2001-06-12 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Substituted phenylethylene precursor and synthesis method |
US5994571A (en) * | 1998-11-10 | 1999-11-30 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Substituted ethylene precursor and synthesis method |
US6096913A (en) * | 1999-06-10 | 2000-08-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Production of metal-ligand complexes |
US6281377B1 (en) | 2000-02-11 | 2001-08-28 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films |
US6642401B2 (en) * | 2000-03-14 | 2003-11-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | β-diketonatocopper(I) complex containing allene compounds as ligand and process for producing the same |
US6579793B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-06-17 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Method of achieving high adhesion of CVD copper thin films on TaN Substrates |
US6596344B2 (en) * | 2001-03-27 | 2003-07-22 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Method of depositing a high-adhesive copper thin film on a metal nitride substrate |
US6537361B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-03-25 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Method of the synthesis and control of PGO spin-coating precursor solutions |
JP3998138B2 (ja) * | 2001-04-16 | 2007-10-24 | シャープ株式会社 | 銅金属薄膜の化学蒸着のための置換型シクロアルケン新規銅前駆物質 |
WO2009039216A1 (en) * | 2007-09-17 | 2009-03-26 | L'air Liquide - Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Neutral ligand containing precursors and methods for deposition of a metal containing film |
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US3014939A (en) | 1960-07-01 | 1961-12-26 | Union Carbide Corp | Halogenated metal chelates |
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FR1486277A (ja) | 1965-07-09 | 1967-10-05 | ||
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- 1981-07-13 US US06/282,652 patent/US4425281A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-07-13 ZA ZA824966A patent/ZA824966B/xx unknown
- 1982-07-13 JP JP57121962A patent/JPS5818392A/ja active Pending
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JP2011126861A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 金属薄膜形成用有機金属錯体、これを含むインク及びこれを利用した金属薄膜の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4425281A (en) | 1984-01-10 |
ZA824966B (en) | 1984-02-29 |
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