JPS5817821A - 排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法 - Google Patents
排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法Info
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- JPS5817821A JPS5817821A JP57095841A JP9584182A JPS5817821A JP S5817821 A JPS5817821 A JP S5817821A JP 57095841 A JP57095841 A JP 57095841A JP 9584182 A JP9584182 A JP 9584182A JP S5817821 A JPS5817821 A JP S5817821A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発1ji祉イオク酸化物及び窒素酸化物を含有する排
ガスの処理方法に関するものであって。
ガスの処理方法に関するものであって。
さらに詳しくは前記の排ガスにアンモニアガスを混合後
、活性炭の如き炭素質触媒が充填され九直交流式移動層
反応器に導いてイオウ酸化物と窒素酸化物を除去する方
法の改喪に係る。
、活性炭の如き炭素質触媒が充填され九直交流式移動層
反応器に導いてイオウ酸化物と窒素酸化物を除去する方
法の改喪に係る。
イオウ酸化物及び窒素酸化物を含有する排ガスにアンそ
ニアガスを混合し、活性炭あるいは活[tK五酸化)々
ナジウムなどの金属駿化物を担持させた炭素質触媒の充
填床に、排ガスとアンモニアガスの混合物を通過させる
排ガスの処理方法は、イオウ酸化物と窒素酸化物を同時
に除去できるばかシでなく、触媒の再生使用が可能であ
るなどの利点を備えている。しかしながら、この方法で
排ガス中の窒素酸化物を効率よく除去するためには、少
なくとも200℃以上の、好ましくは220〜280℃
程度の反応温度が必要であって、これよシ低温度では窒
素酸化物を充分に除去することができない。
ニアガスを混合し、活性炭あるいは活[tK五酸化)々
ナジウムなどの金属駿化物を担持させた炭素質触媒の充
填床に、排ガスとアンモニアガスの混合物を通過させる
排ガスの処理方法は、イオウ酸化物と窒素酸化物を同時
に除去できるばかシでなく、触媒の再生使用が可能であ
るなどの利点を備えている。しかしながら、この方法で
排ガス中の窒素酸化物を効率よく除去するためには、少
なくとも200℃以上の、好ましくは220〜280℃
程度の反応温度が必要であって、これよシ低温度では窒
素酸化物を充分に除去することができない。
ちなみに第1図及び第2図は780 ppmの80.。
200 ppmのN016−00.及び10%のH,0
を含む窒素ガスK 50 G ppmのアンモニアガス
を注入し、この混合ガスを活性炭触媒の固定層反応器に
io時間流速0.8 Nm”/hr (空間速度800
hr″″jK相轟)で通過させ、その際の固定層温度
とNO#六率(第1図ン及び80.除去率(第2図)と
の関係を示すグラフである。第1図及び纂2図から明ら
かな通シ、80.除去率について言えば1通ガス30時
間程度まで固定層温度120〜220℃の範囲で90−
以上の除去率を維持するが、 No除去率については固
定層温度の低下に連れて激減し、固定層温度200℃で
は通ガス20時間程度でNo除去率が80チを割る。
を含む窒素ガスK 50 G ppmのアンモニアガス
を注入し、この混合ガスを活性炭触媒の固定層反応器に
io時間流速0.8 Nm”/hr (空間速度800
hr″″jK相轟)で通過させ、その際の固定層温度
とNO#六率(第1図ン及び80.除去率(第2図)と
の関係を示すグラフである。第1図及び纂2図から明ら
かな通シ、80.除去率について言えば1通ガス30時
間程度まで固定層温度120〜220℃の範囲で90−
以上の除去率を維持するが、 No除去率については固
定層温度の低下に連れて激減し、固定層温度200℃で
は通ガス20時間程度でNo除去率が80チを割る。
従って、炭素質触媒を使用して排ガスからイオウ酸化物
と窒素酸化物を同時に除去するためには、少なくとも2
00℃の反応器ft保持しなければならないが、200
”Cの反応温度では排ガス中の酸素によって炭素質触媒
の一部がC+0.→CO1の如く消費されてしまう問題
がある0しかのみならず、−イラーなどからの通常の燃
焼排ガスはエアヒータ等の出口では埋150℃前後であ
るので、この種の排ガスを上記の如き方法で処理せんと
する場合には、排ガスを200℃以上の温度に予熱しな
ければならない点でも不利を免れない。
と窒素酸化物を同時に除去するためには、少なくとも2
00℃の反応器ft保持しなければならないが、200
”Cの反応温度では排ガス中の酸素によって炭素質触媒
の一部がC+0.→CO1の如く消費されてしまう問題
がある0しかのみならず、−イラーなどからの通常の燃
焼排ガスはエアヒータ等の出口では埋150℃前後であ
るので、この種の排ガスを上記の如き方法で処理せんと
する場合には、排ガスを200℃以上の温度に予熱しな
ければならない点でも不利を免れない。
而して本発明練炭素質触媒t1!質的に消耗させること
なく、シかもイオウ酸化物にっiでは勿i、特に窒素酸
化物についてその除去率を高水準に維持できる排ガス処
理方法を提供するものであって、その特徴とするところ
は窒素酸化物およびイオウ酸化物を含有する排ガスにア
ンモニアガスを混合し、この混合ガスを活性炭等の炭素
質触媒が降下する移動床反応器に導入して触媒の移動床
と直交流で接触させ、窒素酸化物およびイオウ酸化物を
同時に除去する方法において、前記の混合ガスを壕ず第
1の移動床反応器に導いて処現し、引続!#反応器から
の流出ガスに改めてアンモニアガスを混入し、その混合
ガスを第2の直交流移動床反応aに通じて再処理するこ
とKある。
なく、シかもイオウ酸化物にっiでは勿i、特に窒素酸
化物についてその除去率を高水準に維持できる排ガス処
理方法を提供するものであって、その特徴とするところ
は窒素酸化物およびイオウ酸化物を含有する排ガスにア
ンモニアガスを混合し、この混合ガスを活性炭等の炭素
質触媒が降下する移動床反応器に導入して触媒の移動床
と直交流で接触させ、窒素酸化物およびイオウ酸化物を
同時に除去する方法において、前記の混合ガスを壕ず第
1の移動床反応器に導いて処現し、引続!#反応器から
の流出ガスに改めてアンモニアガスを混入し、その混合
ガスを第2の直交流移動床反応aに通じて再処理するこ
とKある。
特許8!!2473号は本発明と同様の方向を指向する
ように思われるが、この特許発明線イオウ酸化物浸度が
2000 ppm程度の比較的高濃度の排ガスに適用し
て顕著な効果のある方法であシ、しか一イオウ酸化吻の
み処理できる方法である点で1本発明とは異なるもので
ある。
ように思われるが、この特許発明線イオウ酸化物浸度が
2000 ppm程度の比較的高濃度の排ガスに適用し
て顕著な効果のある方法であシ、しか一イオウ酸化吻の
み処理できる方法である点で1本発明とは異なるもので
ある。
本発明のms及び#I2の直交流式移動層反応gsKは
、活性炭1石炭粒、コークス粒などの炭素質触媒が一般
に使用されるが、この触媒には必l!に応じて五酸化/
セナジウムなどの金属酸化物を担持させることもで自る
。本発明によれば排ガスとアンモニアガスとの混合ガス
は、tず第1の直交流式移動層反応器に導入され、該反
応器内の炭素質触媒と接触せしめられる。
、活性炭1石炭粒、コークス粒などの炭素質触媒が一般
に使用されるが、この触媒には必l!に応じて五酸化/
セナジウムなどの金属酸化物を担持させることもで自る
。本発明によれば排ガスとアンモニアガスとの混合ガス
は、tず第1の直交流式移動層反応器に導入され、該反
応器内の炭素質触媒と接触せしめられる。
こむで言う直交流移動床とは反応器内で1反応器の頂部
から底部へ移動する触媒床に、該移動床の移動方向く対
して直交流的(tた社十字流的)にガスを流通させる方
法を意味する。直交流移動床では、そのガス入口側は常
に未処理のガスに接触しているから、 1ull的にそ
O層厚を層高とする固定床の集合体と見なすことがで龜
る。そして、移動床における触媒の滞留時間は固定床の
通ガス時間と対応する。を大逆Kll定床における除去
率の時間的変化は移動床における頂部から底部の各部分
における除去率の連続分布として現われる。
から底部へ移動する触媒床に、該移動床の移動方向く対
して直交流的(tた社十字流的)にガスを流通させる方
法を意味する。直交流移動床では、そのガス入口側は常
に未処理のガスに接触しているから、 1ull的にそ
O層厚を層高とする固定床の集合体と見なすことがで龜
る。そして、移動床における触媒の滞留時間は固定床の
通ガス時間と対応する。を大逆Kll定床における除去
率の時間的変化は移動床における頂部から底部の各部分
における除去率の連続分布として現われる。
従って第1図から類推できるように、反応温度が低い場
合に社、直交流移動床においてはその上部域では比較的
高い脱硝率が得られるが。
合に社、直交流移動床においてはその上部域では比較的
高い脱硝率が得られるが。
その下部域では低い脱硝率しか得られない。
この現象に注目すれば、直交流移動床反応器においてそ
の上部域を通過し九ガスは、窒素酸化物がよく除去され
るものの、該反応器の下部域を通過したガスtC社窒素
酸化物が残存するので、全体としては充分満足できるほ
どの脱硝率を得ることができない。
の上部域を通過し九ガスは、窒素酸化物がよく除去され
るものの、該反応器の下部域を通過したガスtC社窒素
酸化物が残存するので、全体としては充分満足できるほ
どの脱硝率を得ることができない。
従って本発明で社第1の直交流式移動層反応器から排出
されるガスに改めてアンモニアガスを混合後、これを第
2の直交流式移動層反応器に導入し、再度炭素質触媒と
接触せしめている。
されるガスに改めてアンモニアガスを混合後、これを第
2の直交流式移動層反応器に導入し、再度炭素質触媒と
接触せしめている。
第1の直交流式移動床反応器からの流出ガス社。
一般にその全量が第2の直交流式移動層反応器に導入さ
れるが、上記した通シ反応器の上部域を通過したガスは
かなシ脱硝されているので。
れるが、上記した通シ反応器の上部域を通過したガスは
かなシ脱硝されているので。
これを第2の反応器に、導入することなく、その11煙
道に導くこともできる。
道に導くこともできる。
次に第3図にそって本発明をさらに具体的に説明すると
、排ガスはライン1を介して直交流移動床反応器3へ導
入する。この際ツイン2を介してアンモニアガスを排ガ
スに混入するが。
、排ガスはライン1を介して直交流移動床反応器3へ導
入する。この際ツイン2を介してアンモニアガスを排ガ
スに混入するが。
その濃度は窒素酸化物の化学尚量に反応重管考慮し九も
のに加えて、イオウ酸化物の化学尚量に反応率を考慮し
たものの10911乃至100%。
のに加えて、イオウ酸化物の化学尚量に反応率を考慮し
たものの10911乃至100%。
好ましくti3G%乃至60%とする。つtb。
注入アンモニア機lI社一般に
注入濃度→素酸化物濃度×脱硝率
+イオク酸化物濃度×脱硫率×0.1〜1.0の関係に
ある。
ある。
該導入ガスは反応器3内を下降する活性炭などの炭素質
触媒床4と接触して反応器3から排気され、511イン
7を介して第2の直交流移動床反応器9へ導入される。
触媒床4と接触して反応器3から排気され、511イン
7を介して第2の直交流移動床反応器9へ導入される。
この際2イン8からアンモニアガスt−再混入するが、
その濃度は1反応器3の場合と同様に窒素酸化物とイオ
ウ酸化物の濃度によって決めることかで自る。該排ガス
は反応器9内で下降する活性炭などの触媒床10と接触
した後、ライン11経由で2イン6に排出せられる。な
お、第1の反応器3の上部域から排出されるガスは、必
要に応じてこれを第2の反応器9に導入することなく1
図示の通り、直接2イン6に導くこともできるが、そう
する場合には反応器3の出口フードを隔壁Sで仕切るこ
とを可とする。一方1反応器3および9より連続的に排
出される触媒は再生器12に導かれ、高温不活性ガス雰
囲気で再生され反応器3および9のそれぞれ頂部にもど
されて再使用される。上記例は2段階の処理の場合であ
るが、3個以上の直交流移動床を組合せればさらに高い
窒素酸化物の除去率が得られる。
その濃度は1反応器3の場合と同様に窒素酸化物とイオ
ウ酸化物の濃度によって決めることかで自る。該排ガス
は反応器9内で下降する活性炭などの触媒床10と接触
した後、ライン11経由で2イン6に排出せられる。な
お、第1の反応器3の上部域から排出されるガスは、必
要に応じてこれを第2の反応器9に導入することなく1
図示の通り、直接2イン6に導くこともできるが、そう
する場合には反応器3の出口フードを隔壁Sで仕切るこ
とを可とする。一方1反応器3および9より連続的に排
出される触媒は再生器12に導かれ、高温不活性ガス雰
囲気で再生され反応器3および9のそれぞれ頂部にもど
されて再使用される。上記例は2段階の処理の場合であ
るが、3個以上の直交流移動床を組合せればさらに高い
窒素酸化物の除去率が得られる。
次に進んで実施例を示す。
実施例
8QOppmOイオウ酸化物とs o o ppmの窒
素酸化物を含有する石炭だきIイツー排ガスを流量10
.0OONm”/hrで取出し、400ppmのアンモ
ニアガスを混合後、150℃の温度で粒状活性炭を10
が充填した直交流移動床反応器に導入した。この場合活
性炭の反応器内の滞留時間は45時間に設定されている
。前記反応器から流出したガスの脱硫率及び脱硝率はそ
れぞれ8591及び18−であった0 前記流出ガスに再lj 2901)IP(Imのアンモ
ニアガスを混入し、上記とは別の1粒状活性炭115f
nsを充填した直交流移動床反応器に導い良。この場合
活性炭の反応器内の滞留時間は48時間に設定されてお
り1wI反応器から取出したガスの脱硝率および脱硫率
は該反応器の導入ガスに対して、それぞれ68%、99
9−であった◎従って、原排ガスに対する脱硝率73.
89g、脱硫率99.99!が得られた。比較のため、
800ppmのイオウ酸化物とs o o pptnの
窒素酸化物を含有する同一流量の排ガスを、890Pp
mアンモニアガスを混合して1210℃の温度で1粒状
活性炭22.51を充填した直交流移動床反応器に導入
した。この場合活性炭の反応器内の滞留時間は46.5
時間に設定されている。前記反応器よシ取出した排ガス
の脱硝率は43−、脱硫率は97チでめった。
素酸化物を含有する石炭だきIイツー排ガスを流量10
.0OONm”/hrで取出し、400ppmのアンモ
ニアガスを混合後、150℃の温度で粒状活性炭を10
が充填した直交流移動床反応器に導入した。この場合活
性炭の反応器内の滞留時間は45時間に設定されている
。前記反応器から流出したガスの脱硫率及び脱硝率はそ
れぞれ8591及び18−であった0 前記流出ガスに再lj 2901)IP(Imのアンモ
ニアガスを混入し、上記とは別の1粒状活性炭115f
nsを充填した直交流移動床反応器に導い良。この場合
活性炭の反応器内の滞留時間は48時間に設定されてお
り1wI反応器から取出したガスの脱硝率および脱硫率
は該反応器の導入ガスに対して、それぞれ68%、99
9−であった◎従って、原排ガスに対する脱硝率73.
89g、脱硫率99.99!が得られた。比較のため、
800ppmのイオウ酸化物とs o o pptnの
窒素酸化物を含有する同一流量の排ガスを、890Pp
mアンモニアガスを混合して1210℃の温度で1粒状
活性炭22.51を充填した直交流移動床反応器に導入
した。この場合活性炭の反応器内の滞留時間は46.5
時間に設定されている。前記反応器よシ取出した排ガス
の脱硝率は43−、脱硫率は97チでめった。
第1図および第2図はそれぞれNO除去率およびSO3
除去率と反応温度と通ガス時間の関係を示すグツ7であ
る。第3図は2つの反応器を利用する場合の本発明の一
実施形態を示す7一−図である。 1.6,7.11・・・排ガスライン 2.8・・・アンモニア導入ツイン 3.9・・・直交流移動床反応器 4.10・・・触媒床 5・・・隔壁 12・・・再生器 特許出願人 住友重機械工業株式会社飛2図 j4力゛スq間 (hr)
除去率と反応温度と通ガス時間の関係を示すグツ7であ
る。第3図は2つの反応器を利用する場合の本発明の一
実施形態を示す7一−図である。 1.6,7.11・・・排ガスライン 2.8・・・アンモニア導入ツイン 3.9・・・直交流移動床反応器 4.10・・・触媒床 5・・・隔壁 12・・・再生器 特許出願人 住友重機械工業株式会社飛2図 j4力゛スq間 (hr)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、窒素酸化物およびイオウ酸化物を含・有する排ガス
にアンモニアガスを混入し、この混合ガスを、活性炭等
の炭素質触媒が降下する移動床反応器に導入して触媒の
移動床と直交流で接触させ、窒素酸化物およびイオウ酸
化物を同時に除去する方法において、前記の混合ガスを
まず第1の移動床反応器に導いて処通し、引続き該反応
器からの流出ガスに改めてアンモニアガスを混入し、そ
の混合ガスを第2の移動床反応器に通じ再処理すること
を特徴とする窒素酸化物およびイオウ酸化物の除去方法
。 2、特許請求の範囲第1項記載の方法において。 それぞれの反応器でのアンモニア注入濃度を次の式によ
って定めることt−特徴とする方法〇注入濃度回窒素酸
化物濃度X脱硝率 +イオウ酸化物濃度×脱硫率×0.1〜1.0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57095841A JPS5817821A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | 排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57095841A JPS5817821A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | 排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54013736A Division JPS5911329B2 (ja) | 1979-02-08 | 1979-02-08 | 排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5817821A true JPS5817821A (ja) | 1983-02-02 |
JPS6350052B2 JPS6350052B2 (ja) | 1988-10-06 |
Family
ID=14148597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57095841A Granted JPS5817821A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | 排ガスから窒素酸化物およびイオウ酸化物を除去する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5817821A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59209630A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-28 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 排ガスの脱硫・脱硝方法 |
CN109865414A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-06-11 | 河北航天环境工程有限公司 | 一种新型活性炭脱硫脱硝装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252245A (ja) * | 1988-08-15 | 1990-02-21 | Tokyo Electron Ltd | X線検査装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4964507A (ja) * | 1973-07-19 | 1974-06-22 | ||
JPS51140870A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-04 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | An exhaust gas treatment process |
-
1982
- 1982-06-04 JP JP57095841A patent/JPS5817821A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4964507A (ja) * | 1973-07-19 | 1974-06-22 | ||
JPS51140870A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-04 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | An exhaust gas treatment process |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59209630A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-28 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 排ガスの脱硫・脱硝方法 |
CN109865414A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-06-11 | 河北航天环境工程有限公司 | 一种新型活性炭脱硫脱硝装置 |
CN109865414B (zh) * | 2019-03-18 | 2021-09-10 | 河北航天环境工程有限公司 | 一种活性炭脱硫脱硝装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6350052B2 (ja) | 1988-10-06 |
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