JPS58172344A - フエニルアルカン酸の製造法 - Google Patents

フエニルアルカン酸の製造法

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JPS58172344A
JPS58172344A JP58047004A JP4700483A JPS58172344A JP S58172344 A JPS58172344 A JP S58172344A JP 58047004 A JP58047004 A JP 58047004A JP 4700483 A JP4700483 A JP 4700483A JP S58172344 A JPS58172344 A JP S58172344A
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solvent
acid
hydroxy
product
reaction
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JP58047004A
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ジエイムズ・エム・グリ−ン
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Eli Lilly and Co
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Eli Lilly and Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/08Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides from nitriles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/52Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D263/54Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles
    • C07D263/56Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
    • C07D263/57Aryl or substituted aryl radicals

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 フェニルアルカン酸をその対応するペンズアルテヒド類
またはフェニルケトン類から製造するのに特に有用な方
法を提供する。本方法は中間体を単離せずに所望の酸を
高収率.且つ,許容される純度で提供する。
本発明方法の個々の段階は.これまでに行なわれてきた
工程と類似している。例えば、児eganolのアメリ
カ合衆国特許m 3,ItQl & 乙には.ジメチル
アミノメチル化合物のアセトニトリルへの変換が記載さ
れている。Rylandarの「白金金属による接触還
元J ( Academic Press New Y
ork, / 9 67 )には。
□ アルデヒド類とケトン類の還元が詳細に.特にコグ乙〜
グ9.2711〜♂ゲおよび292〜302頁に論じら
れている。Short等によりTeLrahedron
ユ9./93/−39(/973’)には、置換ペンズ
アルデヒドから対応するアルキルアミノメチル化合物へ
の還元的アミノ化さらに引き続いてアミノ化化、合物か
ら対応するアセトニトリルへの変換が記載されている。
本発明は,下式 [式中,Rは水素または(C,−CJ)アルキルを表わ
し.R/およびビのどちらか一方は水素を他方Gよヒド
ロキシを表わす。但し RJがヒドロキシの場合はRは
水素またはメチルを表わす。]で表オ)される化合物を
不活性有機溶媒の存在下1こ接触還元し.式 [式中.R′はヒドロキンを表わし,R,R’およびビ
は前記と同意義である] で表わされる化合物を製造し,適当な溶媒中でこれにシ
アン化アルカリ金属を作用させ,式[式中,R,R’2
よび一は前記と同意義である]で表わされる化合物が生
成するまで混合液を約/θθ0から約/jθ)こ保ち,
溶媒を除き.水酸化アルカリ金属の水溶液を加え.混合
液を目的物質が生じるまでおよそ75〜/2j0に保ち
.液を酸性にして冷却し.不活性有機溶媒で抽出して,
目的の酸を有機溶媒から単離することにより,下肥式(
1) [式中, R 、 R’およびdは前記と同意義である
〕で表わされる化合物を得ろことを特徴とするフェニル
アルカン酸の製造方法を提供する。
本明細書において,温度は全てセ氏温度で記載する。濃
度,割合,比率などの表現は全て特に明記しないかぎり
重量測定に基くものである。
本発明における上述の記載において[C,−C3’)ア
ルキル」は、メチル.エチル.プロビルおよびイノプロ
ビル基を表オ)す。
本発明方法で製造される化合物は全て有機化学者にはよ
く知られている化合物であると考えられる。しかし、本
発明を充分に理解できるよう(こ。
以下に代表的生成物を列挙する。
q−ヒドロキシフェニル酢酸 ψーヒドロキシーaーイソプロビルフエニル酢酸 t−ヒドロキシ−α−エチルフェニル酢酸2−ヒドロキ
シ−ミーメチルフェニル酢酸t−ヒドロキシーLXーメ
チルフエニル酢酸q−ヒドロキシーa−プロビルフエニ
ル酢酸λ−ヒドロキシフェニル酢酸 本発明の好ましい化合物にはR′がヒドロキシである化
合物が包含される。別の好ましい化合物としてRが水素
である化合物およびRがメチルである化合物が包含され
、特に好ましい化合物は、グーヒドロキシ−α−メチル
フェニル酢酸である。
本発明方法に用いる全ての出発物質および試薬は有機化
学者にはよく知られており、容易に購入できるしまたは
当技術分野において公知の方法で製造し得る。
一般に0本発明方法に用いろ種々の化合物は化学量論量
だけ必要である。以下に更に説明するように、この唯一
の重要な例外は、加水分解工程において過剰量の塩基を
用いる方が望ましいことである。しかし、他の工程にお
いては、ちょうど化学量論量だけを用いれば充分である
。有機合成過程で通常なされることであるが、安価な試
薬や出発物質は普通は少過剰量用いてより高価な物質が
確実に完全に消費されるようにするのがよい。このため
に、化学量論量の少過剰量9例えば、およそ102〜1
23倍を経済面からみてしばしば利用する。
次に0本発明方法を詳細に説明する。ここで。
本方法の最終生産物である酸は勿論単離するが。
その他の各工程においては単離あるいは精製過程を要し
ないことは注目に価することである。本方法は大規模な
閉鎖系装置に利用するのに非常に適しており、中間体、
試薬または溶媒のいづれによっても燃焼あるいは毒性な
どの異常な被害が発生しないことが明らかである。本方
法を実施するのに要する装置は有機化学工程のプラント
で汎用されるタイプのものであり、異常な腐食の問題は
全く起こらない。
反応液の濃度は重要ではない。以下に記す各工程におい
て望ましい濃度範囲を示すが、これにより本方法を実施
し得る濃度範囲がいかなる意味においても制限されるゝ
わけではない。
各工程における厳密な時間は示さない。化学において通
常そうであるように1反応速度は反応温度に密接に依存
しており、製造すべき化合物そのもののような他の考慮
すべき点にも部分的に依存している。各工程で要する時
間を参考のために以下に示すが、記載した時間は単に好
適な条件を示したにすぎず、微妙な反応条件の違いによ
り非常に大きく変動し得る。有機化学者ならば1反応経
過を薄層クロマトグラフィーにより容易に追跡でき1反
応がいつ所望の程度まで完了す仝がを知ることができろ
。ある場合には、それぞれの工程において反応時間を最
長にすることにより反応収率を最大にさせ、またある場
合は、それぞれの工程を経済的に成り立ち得る時点で終
了させて処理紙(throughput )を最大にさ
せてもよい。
還元工程 本工程で、出発物質であるヒドロキシベンズアルデヒド
(Rは水素)またはフェニルアルキルケトン(Rはアル
キル基)を接触還元して対応するアルコールにする。
還元工程の好適な溶媒はジメチルホルムアミドである。
ジメチルホルムアミドは沸点が高く安定性が高い点て還
元工程および次のシアン化工程に共に特に有利であるの
で好ましい。しかし、他の溶媒、特にジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホルアミドおよびジ、/チルス
ルホキシドを特定の条件下で用いてもよい。低級アルカ
ノール類も還元工程には好ましい溶媒である。メタノー
ルが特に好ましいが、エタノール、プロパツールなども
所望に応じて用いられる。
しかし1次のシアン化過程では高温が要求されるので、
アルカノール類はシアン化過程には不適である。従って
、アルカノールを還元工程に用いた場合は、シアン化工
程が始まる前に大部分のアルカノールを蒸留して除き他
の好適な溶媒のうちの7つと置き替えるのが望ましい。
理解し得るように乙の種の溶媒交換は反応容器内を真空
にするtごはで容易に行なえ1反応液の不揮発生残渣に
は影響を与えない。
還元には普通の水素化触媒を用いる。好適な触媒は炭素
を担体としたパラジウムであるが、白金および酸化白金
などの他の触媒を所望に応じて用いてもよい。水素圧は
当技術分野で通常用いられる約λ気圧から約/jθ気圧
までが用いられる。
好適な本工程温度は常温であるが、約lθθ0程度の高
温を利用してもよい。本工程の適当な濃度範囲は/l当
り/〜2グラムモルであるが、各条件下において反応上
の都合に応じてそれ以上または以下の濃度も容易に用い
られる。
還元が完了したら、または、所望の程度まで完了したら
1反応液を水素化容器から取出す。触媒は6反応液を濾
過または遠心分離して普通に除去してもよいし、後に濾
過するまで反応液中に残しておいてもよい。溶媒交換が
必要な場合−は1通常濾過工程の後に行なう。
シアン化工程 シアン化アルカリ金属を第1工程で得た反応液に加える
。好ましいシアン化物はシアン化ナトリウムであるが、
所望であればシアン化カリウムまたはシアン化リチウム
も用0得る。混合液をおよそ/θθ0〜およそ/jθ0
の範囲の上昇温度まで加熱し、その温度下で所望のアセ
トニトリルが生成するまで攪拌する。
好適な温度範囲は約/2θ0〜約ljθ0であり。
この温度範囲の場合の反応至適時間はおよそt〜g時間
である。
シアン化工程が所望の程度まで完了したら、容器を暖め
ながら真空にして反応液から溶媒を留去する。溶媒が反
応液中に分析上全く無くなってしまうまで蒸留を続ける
必要は無い。特に溶媒がジメチルホルムアミドの場合は
6次の加水分解工程で残留溶媒も加水分解されて除かれ
るので最終生成物の単離が妨げられることはない。
溶媒を留去して得られるシアン化工程の生成物は濃厚な
油状またはグリース状の残渣である。
加水分解工程 本工程で、フェニルアセトニトリル化合物を水酸化アル
カリ金属の水溶液の存在下に塩基性加水分解により所望
のカルボン酸に変換する。好適な塩基は水酸化ナトリー
ウムであるが、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムも
用い得る。本反応液はシアン化工程で得tコ反応液から
溶媒を留去して得た残渣に水性塩基を加えるだけで非常
に簡単に調製できる。
加水分解には過剰の塩基を用いるのが好ましい。
出発物質1モルに対して少なくとも約15モルの塩基を
使用しなければならない。もし残渣が残留溶媒を含むと
きは、特に溶媒がジメチルホルムアミドである場合はそ
れ自体が加水分解されるので。
大量の塩基が必要となる。塩基は大過剰量用いても有害
ではないので、所望ならば10倍またはそれ以上いくら
でも用いてもよい。
塩基の水溶液の濃度は重要ではない。約70%から約1
10%もの比較的高い濃度もこの反応の経済性と便宜性
からみて充分に好ましい。これよりも低い濃度も用い得
るが好ましくない。
塩基性反応液を加水分解が終了するまで約75’から約
/2j0の温度に加熱する。沸点以上の温度を利用する
場合は勿論加圧下で反応させる必要がある。反応は反応
液の還流温度である約lθ0°で実施するのが好ましい
。還流温度ではおよそq〜g時間の反応時間で実質上反
応が完了する。これ以上の温度で反応させると当然に加
水分解工程の時間を短縮させることができる。
加水分解が所望の程度までほぼ完了したら0反応液を次
のように処理する。まず最初に1反応液を好ましくは塩
酸などの高価でない鉱酸で酸性にする。加水分解工程で
用いた酸と塩基の中和生成物が水可溶性塩である限り、
他の強酸も勿論用いでよい。従って、硫酸、トリフルオ
ロ酢酸、リン酸などを反応条件に適するように用いると
よい。
反応液はpH2まで酸性にしな(すればならない。
ある場合には、生成物を単離する前に脱色した方が有益
なこともある。このためには活性炭が有効であることが
知られており、その特に有効な適用時期は加水分解工程
が終了して生成物がまだ水液 溶βにあるときである。脱色剤は反応液を酸性にする前
後どちらで加えてもよく、その後通常どおりン戸去する
強塩基性の加水分解条件下ではカラスまたはグラスライ
ニングの装置を腐食することが考えられる。従って、こ
のような容器を使用するのはまくない。ステンレスが好
都合である。ガラスを使用すると、おそらく反応液中に
いくらかケイ酸塩が溶出して、また別の問題が生じる。
即ち、液を酸性にすると、ケイ酸塩が沈澱し目的生成物
の単離が非常に妨害される。ガラスを使用しなければな
らないときは、酸性の液をおよそ73〜/230の高温
で濾過し目的生成物の溶液からケイ酸塩を除去するのが
最も良い方法である。
ケイ酸塩を処理するもう1つの好適で便利な方法は、適
量の抽出溶媒を酸性用溶液に加え、得られる2相の液を
ン濾過する方法である。この溶媒は目的生成物を溶解す
るのでケイ酸塩の沈澱を容易にP去できる。目的生成物
は、この溶液を冷却すると結晶化する。
次に水溶液を常温とほぼ同じ温度まで冷却し。
不活性有機溶媒で抽出する。好ましい溶媒は、エステル
類、特に酢酸エチルであるが8例えば、テトラヒドロフ
ランやジエチルエーテルなどのエーテル類など、他の溶
媒も用い得る。自明のことであるが、抽出溶媒は水に非
混和性でなければならず、フェニル酢酸に対して充分な
溶解性を有していなければならない。溶媒量は、出発物
質/グラムモル当り約jθOtglから約、2.!;l
までの範囲が好ましい。溶媒の正確な量は重要ではなく
、それぞれの場合に応じ、溶媒の価格と目的生成物の完
全な抽出の経済価値とを考慮して適当に調整し得る。゛
勿論、溶媒を何回かに分けて加えることにより6反応液
を2回以上抽出するのは有益である。
最後に、生成物であるフェニル酢酸を有機溶媒から単離
する。単離は溶媒を蒸発させるだけでよく、生成物が残
渣として得られる。しかし、大規模な操作ではこの方法
は実施し難いので、数有る便法のいずれかを用いればよ
い。例えば、溶媒を蒸発させ生成物をヘキサンなどの非
溶媒中に懸濁して取出し、濾過または遠心分離により回
収することができる。または、残留生成物を、生成物に
対して比較的弱溶媒である1例えば、暖めたトルエンま
たはキシレンな、どに溶解し得る。ヘキサンまたは他の
アルカンなどの非溶媒(anti−solvent )
を加えて溶液を冷却すると微細結晶として生成物が沈澱
するので、濾過または遠心分離により回収する。加熱ド
ラム乾燥器上で溶媒を蒸発させ生成物をドラムからかき
出すなどのような生成物単離のための更に別の便法があ
ることは工程化学に熟練した者な1らば考え得る。
下記の実施例で示すように1本発明方法により全収率ざ
5〜95%、且つ、高純度で容易にフェニル酢酸が製造
される。
本方法の生産物は医薬を製造する際の中間体として用い
ることができる。アメリカ合衆国再発行特許、2z6θ
gには、鎮痛消炎剤であり、フェニル環の5位または6
位に本発明で製造するり一ヒドロキシ酸と同じようなカ
ルボン酸基を有するベンゾオキサゾール群を提示してい
る。酸は以下の工程によりこのベンゾオキサゾール類に
変換できる。
A)本発明生成物を硝酸と硫酸の混液でニトロ化して対
応スるt−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル酢酸を製造
する。
B)ニトロ基を接触還元または鉄−塩酸などの化学的還
元剤により還元して3−アミノ−t−ヒドロキンフェニ
ル酢酸を得る。
C)アミノ基をアシル化して、アミド基が目的のベンゾ
オキサゾールの2位の置換基を形成する基を有する。対
応する3−カルホキサミドーq−ヒドロキシフェニル酢
酸を得る。
D)得られろ化合物を高温でまたは酸性試薬の存在下に
閉環させると所望の医薬であるベンゾオキサゾールを得
る。
ベンゾオキサゾールを形成するための上記の段階的工程
については、前述の再発行特許に全体的に説明されてい
る。
Rが水素である本発明方法のj−ヒドロキシ生成物もあ
る特定のβ−ラクタム系抗生物質、特にアメリカ合衆国
特許’/−,/35’1−16および値、ZO17♂ユ
(両特許とも塩野義製薬の出願)に教示された抗生物質
を製造する際の中間体として利用される。
上記特許に記載された化合物は、カルボキシ(q−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミド側鎖を有するオキサ−β
−ラクタム化合物である。本発明で製造するl−ヒドロ
キシフェニル酢酸はこの側鎖基を製造するための有用な
出発物質である。本フェニル酢酸をハロゲン化ベンジル
でエステル(tして対応するq−ヒドロキシフェニル酢
酸ベンジルを得ろことができ、その後ヒドロキシ基を保
護する。次に、酢酸エステルのa−炭素を非常に強い塩
基の存在下、非常に低温で、二酸化炭素ガスによりカル
ボキシル化し、得られるカルボキシ(q−保護−オキシ
フェニル)酢酸エステルを所望の抗生物質の骨格をアシ
ル化するのに利用する。上記抗生物質のアシル化と必要
な脱保護については。
上記のアメリカ合衆国特許1A2017F2に教示され
ている。
Rが水素で炉がヒドロキシである本方法の生成物は、ノ
カルジシンA (nocardicin A)  [単
環β−ラクタム系抗生物質であり、 Bouchero
t and Pilgrim。
TeL Let、 3θ63−66(/979) で教
示さレテいル1ト ]を合成する際の中間体である。この化合物はまた。さ
し木やさし芽の根付きを促進するのにも有用である[V
azquez eL al、 、 AI′L]1lda
foL Agrobiol、 37(7979月。
RがメチルでR2がヒドロキシである本生成物はある特
定の医薬用ジベンゾオキセピン類の合成に際して中間体
となる[Ueno eL al、−、Ge’rmanO
LS2、←ハ乙/3.C,A、ざ2. /70711c
 (/973; )] 。この生成物を2−力ルボキシ
トルエンでエーテルに変換し、このエーテルをポリリン
酸で閉環して、得られた生成物を還元する。
以下に限定を意図しない実施例を示して1本発明を更に
例示する。
実施例/ グーヒドロキシ−U−メチルフェニル酢酸l−ヒドロキ
シフェニルアセトフェノン(/ig)および5%パラジ
ウム−アルミナ水素化触媒(Q!;(/ )にメタノー
ル(tOyl’)を加えた混液をq気圧の水素圧下に置
き、tto”cで2.5時間振盪すると、NMR分析に
より水素化が完了していることが分った。この反応液を
?濾過して触媒を除去し、実質上全てのメタノールを真
空録去した。ジメチルホルムアミド(73;tal)お
よびシアン化ナトリウム(j弘f)を加え、1時間/3
0′Cで攪拌したのち、−晩装置し、溶媒を真空除去し
た。
得られた残渣に、30%水酸化ナトリウム溶液(20t
sl )および水(20ysl’)を加えた。この水溶
液を45時間加熱還流し、冷却したのち塩酸でpHユO
まで酸性にした。ここに酢酸エチル(7!;txl)を
加えて得られろ2相の混液をS分間攪拌した。
これを濾過補助パッドに通じて濾過し、パッドを水(j
θ鹸)ですすいだ。炉液の有機層を分取し。
硫酸ナトリウムで乾燥して、真空下に蒸発乾固した。得
られた残渣をトルエン(!;0tsl’)およびヘキサ
ン(3;Ops/)で処理し、水浴中で攪拌して濾過す
ると、所望の生成物(/3.1.l19’)を得た。
融点:129〜732°、収量は理論的収量の6評%で
あった。
実施例コ l−ヒドロキシ−a−メチルフェニル酢酸グーヒドロキ
シアセトフェノン(736g)をジメチルホルムアミド
(!;Otgl)に溶解し、水素化ナトリウム(θ/f
)および5%パラジウム−炭素水素化触媒(2,39)
を加えた。この混合液をパール(Parr)水素化容器
内で’t30.3.3時間振侶したの時間振温で765
時間振盪した。これを濾過して触媒を除き、得られる溶
液をパイレックス(Pyre x )・フラスコに入れ
たシアン化ナトリウム(1llf/ )に加えた。この
混合液を6時間。
/3θ0で攪拌したのち真空蒸発させて油状残渣を得た
。この残渣を5θ%水酸化ナトリウム水溶液(3♂#!
l)と水(3!ml )に溶解し、ざ時間還流しながら
攪拌した。pHを濃塩酸でユOに調整し。
水(!;0tsl)を加え、加熱還流した。これを還流
温度で濾過補助パッドにて濾過し、ろ液を冷却しテ酢酸
エチル(/23;ml)で2回抽出した。有機層を合し
、油状になるまで真空蒸発させた。ここにトルエン(!
;0ytl)、続いてヘキサン(jO肩l)を加えると
、生成物が数分以内に結晶化するので、Cの懸濁液を7
時間攪拌したのち濾過した。
固体をグθ0で真空乾燥すると、実施例1と同じ所望生
成物(/弘sy)を得た。融点/27−/29゜で、収
量は理論的収量のざif%であった。
実施例3 q−ヒドロキシ−a−メチルフェニル酢酸水素化工程の
のちに、生成物を試験するためにジメチルホルムアミド
を真空除去し0分析したのちに、同量のジメチルホルム
アミドを再び加えることを除いては、水素化工程とシア
ン化工程を実施例スと同じ方法で行なった。
シアン化工程ののちに、溶媒を真空除去し、得られる残
渣を50%水酸化ナトリウム水溶液(,1,0献)およ
び水(2θml ’)に溶解した。この混合液を還流温
度でざ時間攪拌し、濃塩酸でDHQθまで酸性にし、酢
酸エチル(7!;tal)を加えた。得られろ2相の液
を濾過補助パッドで沖過、このパッドを更に酢酸エチル
(’i’!;tal)で洗浄して、炉液の水層を酢酸エ
チル(33ysl)で洗浄した。有機層を合し、水(3
0tsl)で洗浄し、溶媒を真空除去して油状物質を得
た。ここ・に□トルエン(60ml)をゆっくり加え、
結晶化するまで放置した。これにヘキサン(乙θ献)を
加えた混合液を水浴中で7時間放置し完全に結晶化させ
た。そののち沖過して固体をヘキサン(3θml )で
洗浄し、ケ0°Cで真空乾燥すると、水(θ3乙%)お
よび塩化ナトリウム(032%)を含有する生成物<i
tt。
g)を得た。収量は理的量のざ440%であった。
本生成物は実施例/の生成物と実質的に同一であつtこ
特許用M人   イーライ・リリー・アンド・カンパニ
ー化 理 人  弁理士 岩崎 光tf、Hi−かン名
1、。
し−一一一。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下式 [式中、Rは水素または(C,−CJ)アルキルを表わ
    し H/および−のどちらか一方は水素を他方はヒドロ
    キシを表わす。但し、妃がヒドロキシの場合はRは水素
    またはメチルを表わす。]で表わされる化合物を不活性
    有機溶媒の存在下に接触還元し1式 [式中、R′はヒドロキシを表わし、 R、R’および
    −は前記と同意義である] で表わされる化合物を製造し、適当な溶媒中でこれにシ
    アン化アルカリ金属を作用させ1式[式中、 R、R’
    およびFは前記と同意義である]で表わされる化合物が
    生成するまで混合液を約/θO′Cから約/jθ°Cに
    保ち、溶媒を除き、水酸化アルカリ金属の水溶液を加え
    、混合液を目的物質が生じるまでおよそ7!;°C−/
    2.!;’Cに保ち。 液を酸性にして冷却し、不活性有機溶媒で抽出して、目
    的の酸を有機溶媒から単離することにより。 下記式(1) [式中、 R、R’およびR−2は前記と同意義である
    ]で表わされる化合物を得ることを特徴とするフェニル
    アルカン酸の製造方法。
  2. (2)Rがメチル R/がヒドロキシ RJが水素であ
    る特許請求の範囲(1)記載の製造方法。
JP58047004A 1982-03-24 1983-03-17 フエニルアルカン酸の製造法 Pending JPS58172344A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US361293 1982-03-24
US06/361,293 US4415751A (en) 1981-03-27 1982-03-24 Process for preparing phenylalkanoic acids

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JPS58172344A true JPS58172344A (ja) 1983-10-11

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