JPS58171815A - 溝付ヒ−タプレ−ト - Google Patents
溝付ヒ−タプレ−トInfo
- Publication number
- JPS58171815A JPS58171815A JP5448682A JP5448682A JPS58171815A JP S58171815 A JPS58171815 A JP S58171815A JP 5448682 A JP5448682 A JP 5448682A JP 5448682 A JP5448682 A JP 5448682A JP S58171815 A JPS58171815 A JP S58171815A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- plate
- heater
- proper
- groove
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02532—Silicon, silicon germanium, germanium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
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- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、溝付ヒータグレートに関する。
半導体装置の製造工程では、気相成長装置(通常C,V
、D、装置と称せられる。)内にウェー・を設けて、ウ
ェハの表面に810□膜岬の薄@C)形成が行われてい
る。この薄膜の形成処理は、ウェハを所定温度に設定さ
れ九ヒータグレート上に載置し、とのヒータグレートを
所定の反応ガスがノズルから層流状態で供給されている
炉内を、一定速度で通過させることによシ行われている
。
、D、装置と称せられる。)内にウェー・を設けて、ウ
ェハの表面に810□膜岬の薄@C)形成が行われてい
る。この薄膜の形成処理は、ウェハを所定温度に設定さ
れ九ヒータグレート上に載置し、とのヒータグレートを
所定の反応ガスがノズルから層流状態で供給されている
炉内を、一定速度で通過させることによシ行われている
。
前述のヒータグレート上にウェハを載置する際、或は、
ウェハが載置されたヒータグレートを移動する際に、ウ
ェハとヒータグレートのつ押し上げて外部に逃げるが、
その際にウェハの位置がずれる。その結果、薄膜の形成
処m後には、ウェハの位置ずれのためにウェハの取上げ
操作を速やかKできない欠点があった。
ウェハが載置されたヒータグレートを移動する際に、ウ
ェハとヒータグレートのつ押し上げて外部に逃げるが、
その際にウェハの位置がずれる。その結果、薄膜の形成
処m後には、ウェハの位置ずれのためにウェハの取上げ
操作を速やかKできない欠点があった。
本発明は、薄膜形成処理後のウェー・のヒータグレート
からの除去操作を容易にした溝付ヒータグレートを提供
することをその目的とする奄のである。
からの除去操作を容易にした溝付ヒータグレートを提供
することをその目的とする奄のである。
本発明は、ヒータグレートにガス逃げ穴を穿設して、薄
膜形成処理後のつ翼ハのヒータグレートからの除去操作
を容易にした溝付ヒータグレートである。
膜形成処理後のつ翼ハのヒータグレートからの除去操作
を容易にした溝付ヒータグレートである。
以下、本発明の実施例について図面を参照してiI2明
する。
する。
菖1図は、本発明の一爽施偽の平面図、嬉2図は、#I
1図に示す実施例01−1m1K沿う噺面図である0図
中1がヒータグレートでTo夛・ヒータグレート本体1
のウェハ載置面2には、fxi14げ壽3が十文字形に
穿設されている。このガス逃げ溝IFi、ヒータグレー
ト本体1上に載置されるクエ−4とヒータグレート本体
1との間に侵入した空気を外部に逃す九めのものである
。従りて、ウェハ4の裏面の全域に対してガス逃げ溝3
が均等に!!触するように十文字形等に形成するのが望
ましい、また、ガス逃げ溝1の断面形状は、その加工が
容易でしかも保守が容易であるように、告えば長方形の
断面に形成するOが望ましい。ガス逃は溝Sの溝巾及び
壽深さは、ウェハ4の大きさ、及びヒータグレート本体
1が挿入される炉内の温度等に応じて適宜設定するのが
望ましい、を九、ヒータグレート本体1のウェハ載置面
2/fi、ウェハ4との密着度を高めるために1研磨処
理されていることが望ましい。
1図に示す実施例01−1m1K沿う噺面図である0図
中1がヒータグレートでTo夛・ヒータグレート本体1
のウェハ載置面2には、fxi14げ壽3が十文字形に
穿設されている。このガス逃げ溝IFi、ヒータグレー
ト本体1上に載置されるクエ−4とヒータグレート本体
1との間に侵入した空気を外部に逃す九めのものである
。従りて、ウェハ4の裏面の全域に対してガス逃げ溝3
が均等に!!触するように十文字形等に形成するのが望
ましい、また、ガス逃げ溝1の断面形状は、その加工が
容易でしかも保守が容易であるように、告えば長方形の
断面に形成するOが望ましい。ガス逃は溝Sの溝巾及び
壽深さは、ウェハ4の大きさ、及びヒータグレート本体
1が挿入される炉内の温度等に応じて適宜設定するのが
望ましい、を九、ヒータグレート本体1のウェハ載置面
2/fi、ウェハ4との密着度を高めるために1研磨処
理されていることが望ましい。
而して、このような構成された溝付ヒータグレー)IO
によれば、ウェー載置面2にウェハ4を載置し、これを
気相成長装置等の炉内に挿入すると、ウェハ4の載置の
際戚は、ヒータプレート本体1の移動の際に、ウェハ4
とと一タ!レート本体l関に空気等のガスが侵入し、炉
内温度によってこれが膨張して賜、膨張し九ガスを速や
かにガス逃ぜ溝3からヒータグレート本体IO外部に逃
がすことができる。
によれば、ウェー載置面2にウェハ4を載置し、これを
気相成長装置等の炉内に挿入すると、ウェハ4の載置の
際戚は、ヒータプレート本体1の移動の際に、ウェハ4
とと一タ!レート本体l関に空気等のガスが侵入し、炉
内温度によってこれが膨張して賜、膨張し九ガスを速や
かにガス逃ぜ溝3からヒータグレート本体IO外部に逃
がすことができる。
その結果、ウェハ4の載置位置を、気相成長装置等での
処理の前後で所定位置に保つことができる。このため、
薄膜の形成等の処理の施されたウェハ4を、ヒータグレ
ート本体Iから速やかに且つ容易に採取することができ
、作業性を向上させることができる。
処理の前後で所定位置に保つことができる。このため、
薄膜の形成等の処理の施されたウェハ4を、ヒータグレ
ート本体Iから速やかに且つ容易に採取することができ
、作業性を向上させることができる。
以上説明した如く、本発viK係る溝付と一タ!レート
によれば、薄膜形成部Il後のウェハのヒータグレート
上からの除去操作を容易にすることができるものである
・
によれば、薄膜形成部Il後のウェハのヒータグレート
上からの除去操作を容易にすることができるものである
・
第1図は、本発明の一実施例の平面図、第2図は、同実
m告のll−111に沿う断面図である・1・・・ヒー
タグレート本体、!−・・ウエノ・載置面、S・・・ガ
ス逃げ溝、4・・・ウェ^、LL・・・溝付ヒータグレ
ート。 出厭人代理人 弁理土鈴江武 彦 第1図 現 第2図
m告のll−111に沿う断面図である・1・・・ヒー
タグレート本体、!−・・ウエノ・載置面、S・・・ガ
ス逃げ溝、4・・・ウェ^、LL・・・溝付ヒータグレ
ート。 出厭人代理人 弁理土鈴江武 彦 第1図 現 第2図
Claims (1)
- ウェハが載置されるヒータグレート本体のウェー・載置
面にガス逃げ溝を穿設してなる溝付ヒータグレート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5448682A JPS58171815A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 溝付ヒ−タプレ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5448682A JPS58171815A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 溝付ヒ−タプレ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58171815A true JPS58171815A (ja) | 1983-10-08 |
Family
ID=12971969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5448682A Pending JPS58171815A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 溝付ヒ−タプレ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58171815A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07169824A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-04 | Anelva Corp | 基板加熱・冷却機構 |
SG99975A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-11-27 | Tokyo Electron Ltd | Reflection plate for semiconductor heat treatment and manufacturing method thereof |
WO2021179672A1 (zh) * | 2020-03-13 | 2021-09-16 | 长鑫存储技术有限公司 | 封装结构及其形成方法 |
-
1982
- 1982-04-01 JP JP5448682A patent/JPS58171815A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07169824A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-04 | Anelva Corp | 基板加熱・冷却機構 |
SG99975A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-11-27 | Tokyo Electron Ltd | Reflection plate for semiconductor heat treatment and manufacturing method thereof |
US7336892B2 (en) | 2002-03-29 | 2008-02-26 | Covalent Materials Corporation | Reflection plate for semiconductor heat treatment and manufacturing method thereof |
WO2021179672A1 (zh) * | 2020-03-13 | 2021-09-16 | 长鑫存储技术有限公司 | 封装结构及其形成方法 |
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