JPS58169332A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、磁気配置謀体の製造方法に係り、時化二層膜
構造の垂直磁化記録媒体の製造方法に関する。

〔従来技術とその間照点〕

磁気装置は、一般に記録媒体の面内長手方向の磁化を用
いる方式によりている。しかし、この園内長手方向の磁
化を用いる記録方式にあっては、記俺ＯＡ書度化を図ろ
うとすると、記録媒体内の減磁界か増加するため、記録
密度をそれ鴇向上させることはで会ない。

そこで、このような不具合を解消するために、近年、記
＊ｓｉ体の＊ｇと喬直な方向の磁化を用いる一直―化記
舞方式が提案されている。この垂直磁化装置方式では、
記録密度が高まる程配縁媒体中の磁界が減少するので、
本質的に高密度記録に適した記録方式と云える。

しかして、このような−直磁化記鋒方式を採用するには
、表面とは喬直な方向に磁化害鳥軸を有する一気記ａｍ
体を必要とする。このような要望−を満す記録媒体とし
て、従来、”配録膜をＣｏ−Ｃｒスパッタ薄膜で形成し
たものが知られている。このＣｏ−Ｃｒスパッタ薄膜を
備えた記録媒体は、一般に、１ｘｌＯ−！ｍｓ＋Ｈｇ以
上の不活性ガス′＃囲気中でグロー放電を行なわせ、こ
の放電によって生じた陽イオンをＣｏ−０ｒ金金または
Ｃｏ、Ｃｒで構成されたターゲットに衝１１！専せ、こ
の衝央によりてターゲットからたた會出された金属微粒
子を非磁性基材の表１１に付着専せるととｋよって製造
するようＫしている。

また、垂直磁化配置時の畏液長出カの増ｍｌびヘッド効
率の改善を閤るために、上記Ｃｏ−０ｒスパツタ薄膜の
下に下地層として軟磁性材料である例えばパーマロイ（
Ｎムチ８χ、Ｆ＊２ｉ！Ｎ）の蒸着膜ヲ配した構造のも
のも知られている。上記のよ５１（パーマロイ蒸着層か
らなる下地層を設けると、曽記善性の改善Ｏ他にパーマ
ロイ０材料コストがコバルト−クロムの１ｏ分の１であ
る事からして、実用土支障が起會ないｌｉｍに上層のコ
バルト−クロム層を薄くシ、これによって大幅なコスト
の低減化を図る事が可能となる。

しかしながら、２層膜構造とすることで、膜形成適度の
遍いスパッタ法ては、２層膜形成のため０時間がより増
大してしまう′こと。ｔた、善ｋ。

高分子フィルム支持基体とした場合、これら金属材料の
スパｔり膜ｉζ付随するフィルム・カールがさらに大き
くなってしまう等、２層膜構造にすることで生ずる問題
点も犬会い、４１に、フィルム・カールに閾しては高書
直記Ｉｍに右いて媒体、へ。

ド関の間隔を極力小導くすることが必要とされ、フィル
ム・カール等の変形は、媒体、ヘッド間のスペーシング
増加につながり易いことから、極力小さくすることか要
求される。また、記録媒体の走行の安定性確保の点から
も媒体のカール等の変形か極力小さいことが要求される
。

〔尭明の目的〕

本発明は、上記の点に鑑みなされたもので、高分子フィ
ルム支持基体を加熱することで、真空蒸着法により、フ
ラットな軟磁性金属薄膜を形成し、しかる後、この軟磁
性金属薄膜上に、０．３ｓ以下のＣｏ−Ｃｒ系強磁性金
属薄膜をスバ、タリング法により形成し、カールの少な
い２層膜構造の一直磁化記録織体をより効率的−こ生産
する方法を鴫供するものである。

〔殆明の概要〕

以下、図面を参照して本発明の詳細な説明１１１ する。

蒸着法は、軟磁４！に＃料としてＰｅ−Ｎｉ系（パーマ
ロイ）材料を用いたとき、特に有効であるが、支持基体
の温度制御をおこなわずに蒸着した場合には強いフィル
ム●カールが生じ、このカールは膜厚の増大とともに大
きくなり、ついにはクラ，りが生じてしまう。しかも、
強いフィルム・カールか存在する場合、軟磁性としての
特性が劣化し、最悪の場合、、　ＢＨｃ　−　１００ｃ
Ａｅにも達する。

本発明において、高分子フィルム基体を用いたときに生
ずる強いフィルム●カールが、高分子フィルムと金属層
の大きな熱膨張差によって生ずることを明らかにし、蒸
着時に、高分子フィルム基体の温度を制御することによ
り、フィルム●カール量を制御できることを見い出した
ものである。

ここで、フィルム●カール量とは、＃Ｉｌ図に示すごと
（５ｇｍｘｌ５ａｇの試料を切り出し、このフィルムの
曲率を＃１定し、この曲率をもって、フィルムのカール
量とした。１１２図には、ポリエステルフィルム（１）
及びポリイミドフィルム（２）の支持基体温度と、カー
ル量の相関を示したものである。すなわち、基体温度の
上昇とともに、カール量は減少し、支持基体固有の温ｌ
ｊ　Ｔｏでカールはなくなりフラットな軟磁性蒸着膜か
得られる。Ｔｏより低い基体温度で蒸着した場合貞こは
、フィルムは、金属層を内側としたカール画人（以後、
インナー−カールと呼ぶ）を示し、Ｔｏより高い温度で
蒸着した場合には，金ｓ面を外側どしたカール面Ｂ（以
後、アウター●カールと呼ぶ）となる。ざら番ζ，　　
Ｔｏという＠度で蒸着した場合には、膜厚を増大させて
も、カールやクラ，りはまったくみられず、常に、フラ
ットなフィルムを得ることが可能である。第３図に、基
体温度Ｔｏで蒸着した７ｇ　ｚｆ　−　−ｒ　ｏイ（　
Ｐｅｒｍａｌｌｏｙ　）　（　Ｎ１　７８Ｘ，Ｆｅ　２
２％から成る軟磁性材料）膜の磁気特性Ｂｆｌｃの膜厚
依存性を示した。すなわち、膜厚の増大とともにＢＨｃ
は低下し、軟磁性としてのより一層すぐれた特性を示す
膜を得ることができる。基体温度Ｔ。

は、例えば、ポリエステル−フィルム（１）では、１０
０℃〜１２０℃、ポリイミド−フィルム蓼）では、１８
０℃〜２３０℃　の範囲に存在する。ここで基体温度を
制御する手段については、例えば、蒸着源からの輻射熱
及びヒータ等を用いた加熱の総和で決められる。第４図
に、７８パーマロイを基体温度（基体は２５μのポリイ
ミド・フィルム）１４０℃で蒸着した膜のカールと磁気
特性の膜厚依存性を示す。この場合、膜厚の増加ととも
に、カール量Ｃ１ＢＨｃ　Ｄともに電機に増加し、Ｑ、
４−以上ではクラ。

りが発生し、磁気特性もｘｏｃｚｅ〜６０Ｃｊｅ　　と
劣化している。

２層膜構造垂直磁化記録媒体においては軟磁性層の厚さ
は、装置効率、長波長側再生出力等を増成した場合、０
．５ｓ〜１．０　ｓ　＠　［必要とされていることを考
えれば通常の蒸着法で、フラットな磁気的番こも健全な
軟磁性層膜を得ることは困離である。

次に、これらフラットな軟磁性膜上にＣｏ−Ｃｒ層を、
いわゆる通常のｖｆスパ、り法により形成するが、Ｃｏ
−Ｃｒ層を形成し、２層膜とした場合、軟磁性層の磁気
特性は劣化してしまう。すなわち、図に示すとと（、特
に、ＢＨｃがＣｏ−Ｃｒ層の厚さの１　　　増加ととも
に増大する。この原因は詳細にはわかっていないが、ス
パッタ中のＣｏ−Ｃｒ層から軟磁性層へのＣＯ原子の拡
散、また、Ｃｏ−Ｃｒ層を形成したことでカール、すな
わち内部応力が生じ、この内部応力により軟磁性層中に
磁歪異方性が誘起されるものと考えられる。また、カー
ルＳ＊は、Ｃｏ−Ｃｒ層を形成する際のｖｆ電力にも依
頼するがＣ軸の垂直配向、高分子基体の耐熱性を確保で
きる範囲内の電力では、Ｃｏ−Ｃｒ層の厚さはＱ、３４
ｍ以下の場合のみＢＨｃの劣化を最小限にとどめること
が可能である。また、この範囲においてのみ、２層膜の
カールが事夷上間趙ならない楊直におさまっている。（
第５１Ｑ） 〔発明の効果〕 このような磁気記録媒体によれば、記録媒体の製造コス
トに大きく係る記録層厚が薄くなるため安価に製造でき
る。その上、記録媒体のカールがきわめて少なくフルキ
シビリティも大きいので、磁気へ、ドとの密着性が嵐く
出力上昇等の効果も大きい。

〔発明の実施例〕□ ポリエステルフィルム６Ｉ）を１２０℃に加熱保持し、
これに真空蒸着法により約１．ｓｍのパーマロイ砿属輪
を蒸着して形成し、この上にα２ｐｍの厚さにＣｏ−Ｃ
ｒ系強磁性層輪をスバ、りすること−とよって磁気記録
媒体−を形成した。（膏＆ＩＱ）本実施例においては、
カール等の不所望な変形もなくすぐれた磁気記録媒体を
得ることが可能となった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明にお行る記録媒体のカールの定義を示
す。 第２図は、支持基体の温度とフィルム・カールの相関を
示す龜・線図、纂３図は、最適温度（Ｔｏ）で作製した
７８−パーマロイ膜の膜厚と磁気特性の関係を示す曲線
図、ｊｌＥＡ図は他の製造方法で作製した７８−パーマ
ロイ膜の膜厚と磁気特性、カールの関係を示す曲線図、
第５図は、Ｃｏ−Ｃｒ層厚と、パーマロイ層の磁気特性
の関係を示す曲線図、第６図は、本発明における磁気記
録媒体の断面図である。 代理人　弁理士　則　近　憲　佑 （ほか１名） 第１図　　　　第２図 ｆＪ３図　　　第４図 １望−７′ロイＩＱＧイＬ） 第５図 覧 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子フィルムを支持基体とし、この支持基体を加熱し
   ながら真空蒸着法により、軟磁性金属薄膜を形成する工
   程と、前記形成した軟磁性金属薄膜上にＱ、３＃以下の
   Ｃｏ−Ｃｒ系強磁性金属薄膜層をスバ、タリング法番ζ
   て形成する工程とを具備して成る仁とを特徴とする磁気
   記＃に＃＆体の製造方法。