JPS58159447A - アミノジフエニルエ−テル類の製造方法 - Google Patents

アミノジフエニルエ−テル類の製造方法

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JPS58159447A
JPS58159447A JP57040855A JP4085582A JPS58159447A JP S58159447 A JPS58159447 A JP S58159447A JP 57040855 A JP57040855 A JP 57040855A JP 4085582 A JP4085582 A JP 4085582A JP S58159447 A JPS58159447 A JP S58159447A
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JP
Japan
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reaction
solvent
ether
halogen
cyanamide
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JP57040855A
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English (en)
Inventor
Shigeru Ishii
繁 石井
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はニトロジフェニルエーテル類の接触還元による
アミノジフェニルエーテル類の製造法に関するものであ
る。
さらに詳しくは水素加圧下、ラネーニッケル触媒の存在
下で、式 (式中Aは水素又はニトロ基を示し、 Xl、X2゜Y
l、Y2はそれぞれ独立して水素、アルキル、アミン又
はハロゲンを示し、n、 mは1又は2を示す。)で表
わされるニトロジフェニールエーテル類を、ハロゲン置
換ベンゼン類を溶媒とし、シアナミド又はジシアンジア
ミドの存在下に接触還元することを特徴とする特許 (式中)C+ + X2 r Yl r Y2 r n
 r ”は前記に同じBは水素又はアミノを示す。)で
表わされるアミノジフェニルエーテル類の製造方法に関
する。
本発明によって得られる弐lの化合物は一染料、医薬、
農薬1合成樹脂の原料として、有用である。
一般にアミノジフェニルエーテル類は、相当スルニトロ
ジフェニルエーテル類のベシャン還元によって製造され
ているが、この場合収率が低いうえ、多量の鉄スラツジ
を副生ずるという欠点を有している。また製品中に鉄イ
オンが混入し易い欠点を有している。このベシャン還元
に替る方法として一液相の接触還元があることはよく知
られているところである。しかしながら芳香族二)o化
合物の接触還元においては、一般に溶媒として使用され
るーメタノールなどの低級脂肪族アルコールに対して、
ニトロジフ工= /l/ x −チル類やアミノジフェ
ニルエーテル類/類の溶解度は非常に低い。これら脂肪
族アルコール類を反応溶媒とした場合1反応をスムーズ
に進行させ、且つ反応後反応生成物を溶液として触媒と
分離して取り出すためには多量の溶媒が必要となり、反
応器が過大となり、工業的に有利な方法とはいえない、
同じ製法で反応液と触媒との分離をスムーズに進行させ
るためには高い溶解度を有している別の溶媒を使用する
必要がある。
一般によく知られている高い溶解度を示す溶媒としては
ジメチルボルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プ
ロトン極性溶媒があるがこれらは還元反応で生成する水
と自由に混和して稀釈されしかも沸点が高いため、溶媒
として再使用するためには蒸留によって水を分離除去し
てやる必要があり、多量のエネルギーを必要とするため
還元反応の溶媒として使用することは好1しくない。
このようにアミノジフェニルエーテル類の製造に関して
は、すぐれた溶媒がなく壕だその製法は充分に確立され
たとは言えない。
そこで本発明者等は、接触還元によりアミノジフェニル
エーテル類を製造するためのより有利な溶媒について鋭
意研究を行い工業的に有利な本発明の方法に到った。
ニトロジフェニルエーテル類やアミノジフェニルエーテ
ル類は前述のように低級脂肪族アルコールはもちろんの
こと、脂肪族炭化水素や芳香族炭化水素にも極めて小さ
い溶解度しか示さない。ところが本発明のハロゲン置換
ベンゼン類にだけには、実用範囲の溶解度を示すことを
見い出した。そこで本発明者らは、水添溶媒としてハロ
ゲン置換ベンゼン類を用いることを考え種々検討を行っ
た。しかしその結果ハロゲン置換ベンゼン類を溶媒とし
て用いた場合1反応が完結しないうちに水素吸収が停止
して目的物を得ることができなかった。これは、検討の
結果−水添反応中、溶媒であるハロゲン置換ベンゼンの
脱ハロゲン化が副反応として起り発生したハロゲン化水
素が触媒を劣化させるためと判った。そこでその解決の
ため種々検討した結果。
ジシアンジアミド又はシアナミドを添加して反5一 応を行ったところ、溶媒の脱ハロゲンは完全に防止する
ことができアミノジフェニルエーテル類を高い純度と収
率で得ることが出来た。
このようにシアナミド又はジシアンジアミドを反応系に
存在させることによって一ハロゲン置換ベンゼン類を水
添溶媒として可能ならしめ工業的にすぐれたアミノジフ
ェニルエーテル類の製造方法を確立するに到ったハロゲ
ン置換ベンゼン類は、水にほとんど溶解せず、液−液分
離によって容易に生成した水と分離が可能であり。
壕だ蒸留による回収も低いエネルギーで回収出来すぐれ
た溶媒である。
本発明の方法で使用することのできるハロゲン置換ベン
ゼン類としては、特に限定されるものではないが fil 、t ハクロルベンゼン、O−ジクロルベンゼ
ン−1,,2,3−)リクロルベンゼン、1,2.4−
)リクロルベンゼン、ブロムベンゼン、0−ジブロムベ
ンゼン、0−、 m−t p−クロルトルエンなどがあ
る。
6− 溶媒の使用量は還元するニトロジフェニルエーテル類の
溶解度によって異なるが通常ニトロジフェニルエーテル
類に対し2〜20倍使用する。捷だ場合によっては任意
の比率の水を加えた状態で使用してもよくその場合少量
の界面活性剤(例えばアルキルベンゼンスルホン酸等)
を使ってもよい。
丑だ反応中に添加するシアナミド又はジシアンジアミド
は反応条件によって異なるが溶媒の脱ハロゲンを防止す
るための最少の量でよく、通常溶媒として使用するノ・
ロダン置換ベンゼン類の使用量のO,]〜10重量%使
用する。捷だシアナミド又はジシアンジアミドそのもの
でなく、それ等を生成させる物質1例えばカルシウムシ
アナミド等を相当する量化りに用いてもよい。
ラネーニッケル触媒の使用量は、任意であるが通常ニト
ロジフェニルエーテル類に対し0.5〜20重量%使用
するのが一般的である。
本発明の方法が適用されるニトロジフェニルエーテル類
は1例えば2−二トロジフェニルエーテル、3−ニトロ
ジフェニルエーテル、4−−チル−4−アミノ−4’−
二l−ロシフェニルエーテル−3−アミノ−4’−二ト
ロジフェニルエーテル、4.− クロル−4′−二トロ
ジフェニルエーテル、 2−クロル−41−二トロジフ
ェニルエーテル+ 4−1’ロルー31−二トロジフェ
ニルエーテル、4−ブロム−2′−ニトロジフェニルエ
ーテル+  4−メチル−4′−ニトロジフェニルエー
テル+ 2−クロル−5−メチル−4′−二トロジフェ
ニルエーテル等を挙けることができる。
本発明の方法による反応は通常水素加圧下で行い−その
水素圧は0.1〜50 kg/cm2(好1しく Id
、 2〜30 kg/cm2) テある。反応温度は5
0〜2Of)tll”(好1しくけ70〜150C)で
反応される。反応時間は反応の条件や還元するニトロジ
フェニルエーテル類の種類−量によって異なるが通常1
〜10時間である。反応の方式はバッチ式反応セミバッ
チ式−及び連続式反応のいずれの方法も採ることができ
る。
以下に実施例を挙けて本発明をさらに詳しく説明する。
実施例]。
攪拌装置伺き500 ccオートクレーブに4.4’−
ジニトロジフェニルエーテル52y−ラネーニッケル触
媒21、ジシアンジアミド1.01 0−ジクロルベン
ゼン30Ofを加え、水素置換後水素圧12 K 7c
m2にし攪拌しながら100Cに昇温し同温度で反応し
た。反応中水素は連続的に供給し12 K 7cm2を
維持した。3時間で水素吸収が完全に停止した。その後
30分間同温度で同水素圧力下で攪拌を続けた後−90
′Cに冷却した後、内容物を瀘過して反応液を得た。反
応で生成した水を分液ロートで除去した後、減圧蒸留で
O−ジクロルベンゼンを留去して4.4′−ジアミノジ
フェニルエーテル396Jを得た。これは理論の99%
の収率であった。1だガスクロマトグラフによる分析値
は−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル9− 99、90%高沸不明分0.LO%であった。
実施例2゜ 実施例1で使用したオートクレーブに、3.4’−ジニ
トロジフェニルエーテル52f−ラネーニッケル触媒2
.0g−、ジシアンジアミド]、、 09−、クロルベ
ンゼン300j%を加え、他は実施例1と同様にして]
 OOtrで反応した。反応時間は3時間30分であっ
た。水素吸収が停止してから20分攪拌を続けた後、9
0〜95Cに冷却した後濾過によって触媒を分離して、
反応液を得た。反応で生成した水を分離した後蒸留によ
りクロルベンゼンを留去して3.4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル394g−を得た。これは理論の985%
である。
捷だガスクロマトグラフによる分析値i/i 3.4’
−ジアミノジフェニル99.95%、3−ニトロ−4′
−アミノジフェニルエーテル0.02%、3−アミ74
′−二トロジフェニルエーテル0.01%、その他0.
02%であった。
実施例3 実施例1で使用したO−ジクロルベンゼン30〇10− 1の替りに1.2.4− )リクロルベンゼン300g
−を用いて他は実施例1と同様にして120Cで反応し
た。反応時間は2.5時間であった。反応後実施例1と
同様に処理して4,4′−ジアミノジフェニルエーテル
39.27−を得た。これは理論の98%テアリ、ガス
クロマトグラフによる分析結果は−4、4’−ジアミノ
ジフェニルエーテル99.98%−その他0.02%で
あった。
実施例4 実施例1で使用したジシアンジアミド1,01の替りに
シアナミド1.01を用い、壕だQ−ジクロルベンゼン
300 !7−の替りにクロルベンゼン3QO1を用い
他は実施例1と同様にして100trで反応した。反応
時間は3時間10分であった。反応後実施例1と同様の
処理をして4.4′−ジアミノジフェニルエーテル39
.89−を得た(収率995%)。
ガスクロマトグラフによる分析値は4.4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル99.99%、その他0,01%で
あった。
実施例5゜ 実施例1で使用したオートクレーブに4−二トロシフェ
ニルエーテル43p、ラネーニッケル触$2.07− 
ジシアンジアミド1o1−ブロムベンゼン2501を加
え、実施例1と同様にして90Cで反応した反応時間は
2時間30分であった。
反応後実施例1と同様に後処理をして4−アミノジフェ
ニルエーテル3651を得た(収率986%)。ガスク
ロマトグラフによる分析値は4−アミノジフェニルエー
テル99.9 :3%、その他007%であった。
実施例6 スラリー圧入装置の利いた5 00 ccオートクレー
ブにO−ジクロルベンゼン250g−とラネーニッケル
触媒2.01とジシアンジアミド1.01を加え、水素
置換後水素圧10 kg / cm2にして攪拌しなが
ら100Cに昇温した。次に4−クロル−4′−二トロ
ジフェニルエーテル4 ’L9 Pト水100ccドデ
シルベンゼンスルホン酸ソーダ(界面活性剤90.5F
!−とからなるスラリー液をスラリー圧入装置から3時
間を要して圧入した。反応はスラリー液の圧入が終了し
たと同時に終了した。その後90Cに冷却して内容物を
流過して触媒と分離した。
次に分液により水層を除去した後、減圧蒸留により0−
ジクロルベンゼン留去して4−クロル−4′−アミノジ
フェニルエーテル435g−を得た。これは理論の99
.1%の収率である。ガスクロマドによる分析値は−4
−クロル−4′−アミノジフェニルエーテル99.88
%、4−アミノ−ジフェニルエーテル0.06%(脱ク
ロルによる生成物)、その他0.06%であった。
特許出願人 日本化薬株式会社 13−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  水素加圧下−ラネーニッケル触媒の存在下で
    、式 (式中穴は水素又はニトロ基を示し、Xl。 X2 、Yl 、Y2はそれぞれ独立して水素−アルキ
    ルーアミノ又はハロゲンを示し−n、mは1又は2を示
    す。)で表わされるニトロジフェニールエーテル類を−
    ハロゲン置換ヘンゼン類ヲ溶媒とし、シアナミド又はジ
    シアンジアミドの存在下に接触還元することを特徴とす
    る、式(式中X+ + X2 + YIr Y21 n
     r mは前記に同じ丁3は水素又はアミノを示す。)
    で表わされるアミノジフェニルエーテル類の製造方法。
JP57040855A 1982-03-17 1982-03-17 アミノジフエニルエ−テル類の製造方法 Pending JPS58159447A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5068437A (en) * 1987-06-24 1991-11-26 American Cyanamid Company Process for producing 2-(p-chlorophenoxy) aniline

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JPS5050327A (ja) * 1973-09-06 1975-05-06
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