JPS58155297A - 高真空分子ポンプ - Google Patents

高真空分子ポンプ

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JPS58155297A
JPS58155297A JP57217134A JP21713482A JPS58155297A JP S58155297 A JPS58155297 A JP S58155297A JP 57217134 A JP57217134 A JP 57217134A JP 21713482 A JP21713482 A JP 21713482A JP S58155297 A JPS58155297 A JP S58155297A
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JP
Japan
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gas supply
supply chamber
elements
rotor
molecular pump
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Pending
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JP57217134A
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English (en)
Inventor
ヴアルテルス・ヨセフス・ト−マス・ヘルマヌス・ルアイテン
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Ultra Centrifuge Nederland NV
Original Assignee
Ultra Centrifuge Nederland NV
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Publication date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/044Holweck-type pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/05Shafts or bearings, or assemblies thereof, specially adapted for elastic fluid pumps
    • F04D29/056Bearings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2250/00Geometry
    • F05D2250/50Inlet or outlet
    • F05D2250/51Inlet

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも二つの素子が互いに他に関して回
転可能に、互いに他に関して僅かな距離だけ離隔して装
着されており、一方の素子の側部に対向して位置づけら
れた他方の素子の側部に少な(とも一つの螺旋溝が設け
られており、これら素子の側部間にポンプスペースが設
けられ、そのポンプスペースは気体供給部と気体排出部
とに連通している高真空分子ポンプに関する。
極めて島い真空を生ぜしめて維持するよう設計された此
の種のポンプは、例えば米国特許明細書オニ130.2
9’1 号、英国特許明細書才13gに3りt号、及び
日本国雑誌[アプライド・フィジックスj追補版x、1
qq44年/月印刷に発表されたルイス・モーリスによ
る論文「新しい分子ポンプ]から公知である。
これらのポンプは、所謂6分子搬用(mo 1ecu 
jardrag) 、”の原理を用いており、これにつ
いて以下に説明する。
上記素子の一方(以下ロータと略称)が他方の素子(以
下ステータと略称)に関して極めて速い速度で回転する
とき、気体分子を含むポンプスペースの寸法よりも気体
分子の自由行路が大となるような低い気体圧では、ロー
タとステータとの間のポンプスペースに於て次のような
作用が生ずる。
(3) 寓めて速い速度で回転しているロータと衝突する各気体
分子は、ロータ表面を離れるとき、その温度に関係する
速度に加えて、ロータの回転方向に於ける速度成分を受
ける。低い気体圧力の故に、ロータを離れる分子は、他
の分子との衝突を介してその方向を変えないが、ロータ
と対向するステータの側面に最終的に衝突し、ロータに
向って弾ね返える。この作用が反復、継続されて、ロー
タの回転方向への分子の移動が生ずる。ロータに而する
ステータの側面に少なくとも一つの螺旋溝が設けられて
いることにより、溝方向に於ける分子移動と、溝の方向
に対して直角の分子移動とが生ずる。この理由は、ロー
タの周速がこれら二つの方向に分散され得ることにある
溝方向に於ける分子の速度成分は、圧縮比とポンピング
速度とを決定する。このポンピング速度は、ポンプの低
圧側からポンプの高圧側へポンプによって単位時間当り
移送される気体の容積学位の数である。溝方向に対して
直角な分子の速度成分はリーク効果(生ずるが、しかし
それはポンピ(4) しいことは明らかである。これは、例えばロータの周速
度がコθO乃至’100m/S  の大きさのオーダの
値に達するような他めて高い速度でロータが回転するよ
うにポンプを設計することにより達成され得る。ロータ
が回転し得る速度には勿論限界がある。と云うのは極め
て高い速度は大きな機械的な問題を生ずるからである、 本件出願人は、上記の形式のポンプの改良された具体例
を用いることによって、簡単な態様でポンピング速度を
増大し・得ることを見出した。
この目的のために、本発明によって上述のポンプは下記
のcfj徴が与えられる。一対の素子の一端近くに、こ
れらの素子によって境界づけられる実質的に環状の気体
供給室が存在し、上記環状の気体供給室は一方では気体
供給部に、他方では二つの素子間のポンプスペースに連
通しており、上記螺旋溝は環状の気体供給室内に延長し
ており、環状の気体供給室が気体供給部近(で比較的広
く。
[流に向うに従って次オに狭くなっていること。
気体供給部近くで比較的広くなっている実質的に環状の
気体供給室を使用することにより、気体供給部に於いて
極めて速い速度で運動している気体分子は環状の気体供
給室によって極め゛て荷動に捕捉される。環状の気体供
給室の特別の形状のために、捕捉された分子は衝突の作
用と上述のインパルス移送によってポンプスペースに向
って次才に移動する。
本発明による高真空ポンプの若干の具体例について、添
附図面を参照して以下に説明するっ本発明によるポンプ
は本質的に同軸の二つの素子/及び−を含んでいる。素
子コは素子/内に回転可能に配置されて、ポンプのロー
タを形成している。
ロータコはベアリングによってケーシング又はステータ
/内に回転可能に装着されている。この目的のために、
ロータコにはその底部にシャフト/2が、その頂部にシ
ャフト/3が設けられている。底部シャフト/−は、カ
バーlS内に装着された適当なベアリング/lによって
支持されている。カバー/Sは支持部/6に喉付けられ
ている。
この支持部/6はケーシング又はステータlに覗付けら
れている。支持部/6内には、電動モータのステータ/
7が装着されており、そのステータは同じ電動モータの
ロータ/gと相互作用することが出来、そのロータはシ
ャフト/2に固定されている。
頂部シャフト/3、例えば磁気ベアリングの如き適当な
ベアリング/9によって支持されている。
このベアリング/qはカバーコθに例えばボルト(図示
せず)によって装着されており、カバーはケーシング又
は素子lの頂部に固定されている。
カバーノ0は同心のリング2/及び22を有し、それら
は多数の放射方向のスポーク23によって一体にされて
おり、スポーク、23間にチャンネル7が形成されてい
る。    ; ケーシング又は素子lは中空で、その内■1[3は実質
的に截頭円錐形をなしている。内11113には少なく
とも一つの螺旋溝Sが設けられている。素子λの外側q
は実質的に円筒状である。素子l及びコの隣接した側部
3及び4間に、ポンプスペース6が形成されている。
ポンプスペース6は、環状の気体供給室ヲを介して気体
供給部7と連通しており、その気体供給部7は、この具
体例ではカバー2O内の上述したチャンネル7から成っ
ている。気体排出部gもまた環状のスペース10を介し
てポンプスペース6と連通している。
環状の気体供給室9は素子/及びコの一端近くに位置し
ている。環状の気体供給室ヲはまた素子/及びコによっ
て境界づけられており、その素子/及びコは環状の気体
供給室γを境界づけて、環状の気体供給室ソが気体供給
部7近くで比較的広く、下流に向うに従って次オに狭く
なるように形成されている。こへで云う下流方向とは、
気体供給部7からポンプスペース乙に向かう方向である
4旋溝Sは、環状の気体供給室を内に延長している。
環状の気体供給室9を下流方向に狭くすることは、様々
な方法で達成し得る。矛コ及びj図による具体例では、
素子コが円筒状部分u5に結合された截頭円錐形部分)
ψを有することによって、これがもたらされている。1
・3図による具体例では、素子コは截頭円錐形部分、2
乙を有するのみである。J−j図による具体例では、素
子コは、その回転軸のまわりで曲線を回転することによ
り得られる回転面の形状を有する部分、27が設けられ
ている。矛6図による具体例では、部分コざは、(−5
図の部分27と同様な形状を持っているが、円筒状部分
2qがそれに結合されている。
−に連のポンプの常態的な使用の間、ポンプの吸引11
411 、即ち気体供給部7に匣めて低い圧力がある。
気体供給部7に於ける気体分子は非常に大きい速度で、
例先ば500m / sの大きさのオーダで運動してい
る。環状の気体供給室ヲは、気体供給部7近(が広いの
で(方射方向に)、多(の分子が環状の気体供給室ゾに
入る。
捕捉された分子は、ロータコの表面(2≠、、25゜2
/、、2’7..2g、29)と、螺旋溝Sを設けらメ
イテータlの内側面3との間で、環状の気体供給室9内
であちこちに弾ね返える。このプロセスの間に、ロータ
コは、その回転方向に於ける速度成分を分子に与える。
環状の気体供給室を内に帆長する螺旋溝9の故に、環状
の気体供給室9内に捕捉された分子は、上述の如くポン
プスペース乙に向って移動する。
ポンプスペース6内でも分子は同様に移送されて、それ
らは最終的に環状スペースIO及び気体排出部gに到達
する。
本発明者は、上述の環状の気体供;白室デを組込むこと
によって、所与のロータ速度でのポンピング速度を顕著
に増大させ得ることを見出した。
矛′1図による具体例は、基本的にはオツ図による具体
例と同様である。従って同一の構成部分は同一の参照数
字で示されている。主たる差異は、ロータコが固定シャ
フト31のまわりで回転でき、固定軸3/はロータコに
よって全体に囲繞されていることである。フランジ32
によって、シャフト、3/は支持部/6に不動に結合さ
れている。口−タコはI真南なベアリング33及び3≠
によってシャフト3/上に回転可能に装着されている。
電動モータのロータ3Sは、ロータコに運動不能に結合
されている。例えば磁気ベアリングのような頂部ベアリ
ング3iIは、」・7図に示されている如くロータコに
よって完全に囲繞されている。これがトユ図に示された
具体例との主たる差異である。
オフ図による具体例の気体供給部が牙/及びコ図による
具体例の気体供給部7と異なる点は、スポーク23が放
射方向により薄(することによりもっと軽くすることが
出来ることである。その理由は、内偵1の同心リング−
/がロータベアリングを支持する必要がないので、スポ
ーク、23が受ける負荷がより少ないことである。この
場合には、素子2/は中実の截頭円錐形状であっても良
い。
【図面の簡単な説明】
1・7図は、本発明によるポイズの平面図、1・2図は
、気体供給室の1・/の具体例を設けたポンプの長手方
向断面図、 」・3図・・ま、気体供給室のA−一の具体列の畏−ト
方向d面図、 1・を図は、気体供給室の矛3の具体例の長手方向断面
図、 オS図は、気体供給室の矛tの具体例の長手方向断面図
、 矛6図は、気体供給室のa−3の具体例の長手方向断面
図、 オフ図は1.d−2図によるポンプの、幾分変形した具
体例の長手方向断面図である。 符号の説明 /:素子(ステータ又はケーシング)、2:素子(ロー
タ)、3:ステータの内1ull 、≠:ロータの外側
、S:螺旋溝、6:ポンプスペース、7:気5本供給部
(チャンネル)、ざ:気体排出部、9:環状の気体供給
室、10:環状のスペース、/2./J’、シャフト、
/l:ベアリング、/S:カバー、/6:支持tfls
、/ 7 : 亀dモータのステータ、7g:電動モー
タのロータ、/q:ベアリング、20二カバー、、2/
、2J:同心のリング、23ニスボーク、211,2!
;、21..2’7,21f、2ゾ:ロータの表向、3
/:固定シャフト、J2=7ランジ、J3,3’l:ベ
アリング、35:電動モータのロータ。 代理人1)代 黒 治

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  少な(とも二つの共軸の素子が互いに1かな
    距離だゆ離隔して互いに関して回転可能に装着されてお
    り、一方の素子の側部に対向する他方の素子の側部に少
    なくとも一つの螺旋溝が設けられており、それら素子の
    側部間にポンプスペースが設げられており、そのポンプ
    スペースが気体供給部と気体排出部と連通している高真
    空分子ポンプに於て、 一対の素子の一端に近接して実質的に環状の気体供給室
    が存在し、その気体供給室はこれら素子によって境界づ
    けられており、 上記環状の気体供給室は一方では気体供給部に連通し、
    他方では二つの°素子間のポンプスペースに連通してお
    り、 上記螺旋溝は環状の気体供給室内に延長しており、 譲状の気体供給室を境界づける素子は、環状の気体供給
    室が気体供給部近くで比較的広く2丁流に向って次矛に
    狭くなっていることを特徴とする高真空分子ポンプ。
  2. (2)  素子の隣接する側部が実質的に旋回面である
    ことを特徴とする特許請求の範囲1・7項記載の高真空
    分子ポンプ。
  3. (3)上記旋回面が円節及び/又は円錐の部分であるこ
    とを特徴とする特許請求の範四牙コ項記載の高真空分子
    ポンプ。
  4. (4)  一方の素子が運動不能に固定され、他方の素
    子が上記一方の素子内に回転可能に配置され、上記螺旋
    溝が上記一方の素子に設けられていることを特徴とする
    特許請求の範囲λ・7項乃至第3項の内、回れか7項記
    載の高真空分子ポンプ。
JP57217134A 1981-12-14 1982-12-13 高真空分子ポンプ Pending JPS58155297A (ja)

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NL8105614A NL8105614A (nl) 1981-12-14 1981-12-14 Hoog-vacuum moleculair pomp.
NL8105614 1981-12-14

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JPS58155297A true JPS58155297A (ja) 1983-09-14

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JP57217134A Pending JPS58155297A (ja) 1981-12-14 1982-12-13 高真空分子ポンプ

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