JPS6238899A - ねじ溝式真空ポンプ - Google Patents

ねじ溝式真空ポンプ

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JPS6238899A
JPS6238899A JP60179041A JP17904185A JPS6238899A JP S6238899 A JPS6238899 A JP S6238899A JP 60179041 A JP60179041 A JP 60179041A JP 17904185 A JP17904185 A JP 17904185A JP S6238899 A JPS6238899 A JP S6238899A
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JP
Japan
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rotor
gap
vacuum pump
stator
diameter
Prior art date
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Pending
Application number
JP60179041A
Other languages
English (en)
Inventor
Masa Sawada
沢田 雅
Tatsuji Ikegami
池上 達治
Masashi Iguchi
昌司 井口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
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Filing date
Publication date
Application filed by OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK, RIKEN Institute of Physical and Chemical Research filed Critical OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
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Priority to US06/896,470 priority patent/US4708586A/en
Priority to DE3627642A priority patent/DE3627642C3/de
Publication of JPS6238899A publication Critical patent/JPS6238899A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/044Holweck-type pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)産業上の利用分野 本発明はIC及び半導体の製造等における薄膜形成の使
用に好適なねじ溝式真空ポンプに関する。
(2)従来の技術 従来のねじ渦式ポンプは、元来モレキュラードラッグポ
ンプと呼ばれ、主として自由分子流領域において使用す
ることを目的として開発されたもので、第4図示の如く
固定子(1)内に間隙を存して回転するように設けた回
転子(2)の外周面に形成したねじ溝(4)の傾斜角α
を小さくすることにより周速Uの溝に沿う成分■をでき
るだけ大きくし、同時に回転子(2)の山部(5)と固
定子(1)との前記間隙δをできる限り小さくし、さら
に山部(5)の幅を広くして該間隙を通る漏れ流量を滅
らす事により高い圧縮比を得ようという考え方に基づい
て設計がなされており、前記間隙δについては例えばホ
ルベツクのねじ溝型の高真空分子ポンプに関する特開昭
49−128306号公報によればδが0.04mm、
又沢田のねじ溝付軸流分子ポンプに関する特公昭47−
33446号公報によればδが0.1mmと小さい。
これは上述の理由により、従来の考え方ではδが0.1
mm以下というような極めて小さなものでないと実用的
な性能を有する真空ポンプの製作が不可能であった為で
あった。
(3)発明が解決しようとする問題点 近年IC及び半導体の製造をはじめとする薄膜応用工業
の発展にともない、1 ” 1000 PcL程度の圧
力範囲で使用可能な、清浄で排気速度の大きい真空ポン
プの開発が望まれるようになった。
ところが従来のねじ構成ポンプによれば前記山部(5)
の幅が大であるため前記ねじ溝(4)の幅が小となり、
かくて排気速度は非常に小さく、前記広範囲の圧力(1
〜1000Pa)において多量のガスを排気する真空ポ
ンプとしては使用できない問題点があった。
又間隙δが前述のように小さいと、製造峙、加工寸法に
非常なる精密さが要求されるばかりでなく、固型物の吸
引や高速回転時に生じる遠心力による回転子(2)の伸
び、あるいは高温の気体や多量の気体を圧縮排気する際
に生じる回転子(2)その他者構成部品の熱膨張による
接触の危険があった。
たとえば第4図に示すねじ溝穴真空ポンプにて外径20
0mmのアルミニウム合金製円筒回転子を2400Or
pmで回転させた詩の遠心力による外径の伸びは直径で
0.4mmに及び、又回転子(2)の温度が80@C上
昇すると、その外径の熱膨張による伸びは直径で0゜4
mmである。
この様に寸法変化の大きな部品を用いながら運転中のδ
を0.1mm以下のある値に保つ事は非常に困難であり
、これによって回転子の材質や寸法、形状及び回転数が
大きな制限を受けていた。
又ねじ溝穴真空ポンプの軸受に磁気軸受を用いようとし
ても、タッチダウン軸受のクリアランスを数7100m
mと小さなねじ溝穴真空ポンプの間隙δより小さくしな
ければならず、磁気軸受の採用が不可能である等の種々
の問題点があった。
そこでねじ溝内の流れと山部分の流れを連立させて取り
扱うことにより、すきまを通る漏れ流量をも考慮に入れ
た回転子と固定子間の流路におけるガスの流れを1硫に
把握した結果、従来よりねじ溝傾斜角を大きく、山中を
小さくして吸込側のねじ溝の断面積を大きくすることに
より、軸方向流量すなわち排気速度を飛躍的に増大する
ことができ、これにより間隙をかなり大きくしても充分
な圧縮性能が得られる実用的な形状、寸法のねじ溝穴真
空ポンプの設計が可能なことが確められた。
本発明はこのようなねじ溝穴真空ポンプを提供すること
を目的とする。
(4)問題点を解決するための手段 この目的を達成すべく本発明は、回転子の静止時固定子
と回転子との間隙が該回転子の直径の0.0025〜0
.0055倍であることを特徴とする。
(5)作用 間隙を従来のポンプの間隙よりも拡げても、多量のガス
を排気でき、しかも広範囲 (l〜100OP^)の真空が得られる。
(6)実施例 本発明の実施例を第1図に従って説明する。
(1)はねじ溝穴真空ポンプの円筒状の固定子、(2)
は該固定子(1)内に間隙(3)を存して設けた回転子
を示し、該回転子(2)の外周面にねじ状溝(4)が形
成されている。
そこで、前記回転子(2)を回転させた場合の溝(4)
内の流れと数構(4)間の山部(5)の漏れ流れとを連
立させて解析すると、回転子(2)の軸方向(第1図の
更座標)の圧力勾配(以下、単に圧力勾配と記述)と該
軸方向流量の関係は。
で与えられる。
ここで、 K1:気体の平均自由行程λと、溝深さhと間隙δとの
和であるρとから算出される値に□=b/入で圧力に比
例する量であり、以下では無次元圧力と呼ぶ。
鈴無次元軸方向長さ、B=U/b、尚Ωは軸方向長さ。
6:無次元回転子周速、U=v/L[j−Fシ/臂−0
尚、Uは回転子の周速、Rは一般ガス定数、Tは給体温
度、Mは分子量。
W:無次元流量、W=Q乙F鉢に1.尚、Qは流量、川
は気体の粘度。
α:ねじ溝傾斜角。
β:すきま係数。β:(δ+h)/δ=b/δ。
ε:溝幅係数。ε=a/(a+d)、尚、aは溝幅、d
は山部幅。
ξ:溝断面係数、ξ=a/(δ+h)=a/b。
F =(1−ε)  (’j′P(Qv + ’i’v
  r+−)H−(1−ε)(q′F(も+q;、)十
r、(弄(、−297十rρ) し+ q、’、 + rp * % * ’l’p r
 ”f  は幾何学ノ々ラメータついては理化学研究所
発行の科学論文rSCIEN−TIFICPAPER9
OF THE lN5U↑ITUTE OF PHYS
ICALAND  CHEMICAL  RIJEAR
CH,ロecesber、  187B、Vol。
70、 No、4 Jの論文rRarefied Ga
s Flow in aRectangular Gr
oove Facing a Moving wall
 Jに示されている。
次に、式(i)をねじ溝の傾斜角αで微分となる。
ある無次元圧力KXの時、種々の幾何学パラメータξ、
ε、βの値に対して式(i i)より圧力勾配最大の最
適なα叩を求め、そのα’Pに対する圧力勾配を式(i
)により求めることができる。
第2図では2つの幾何学パラメータξ、ε及び圧力に!
を固定し、残りの1つの幾何学パラメータβを変化させ
た場合の圧力勾配の変化を種々の流量゛について示して
いる。第2図より圧力勾配はβが大きい程大きくなって
いる。この傾向はξ=4.ε=0.9.に1=40なる
組合せ以外の場合でも同様である。
基準長すを10mmとして第2図の横軸をβからすきま
δに変えて書きなおしたものを第3図に示す。
第3図よりδの減少に応じて圧力勾配は増加するが、少
しでも流量がある場合はδがある程度以下になると圧力
勾配の増加は顕著ではなくなる。
一方、前述の薄膜応用工業分野にて要求されるねじ溝式
真空ポンプの排気性能は、回転子直径200mm、回転
数2400Orpmの場合、排気速度50〜3oo1/
sである。この場合、吸入口のW/Uは0.32〜0.
18とと所望の真空度が得られない。従って第3図にか
0.2となる交点のδの値0.9mmが上限となる。
0.3mm以下にしたところで圧力勾配の増加は顕著で
なく、前述の回転子の熱膨張による回転子と固定子の接
触の危険が付加される。従ってδは0.3mmが下限と
なる。
ここで、これらδの値は運転中のものであり、前述の如
く外径200mmのアルミニウム合金製円筒の回転子を
2400Orpmで回転させたとき、遠心力による外径
の伸びは直径で0.4mm即ち半径で0.2mmに及ぶ
から、静止時のδ。は0.3+0.2=0.5から0゜
9+0.2=1.1の範囲内にあることが好ましい;従
って回転子の直径が200mmであるから、静止時の間
隙δ。は直径の0.57200−0,0025倍から1
.17200=0.0055倍の範囲内にあることが好
ましい。尚、前述では直径200mmの回転子の場合に
ついて示したが、回転子の直径が200mm以外のもの
についても該直径と間隙について相似関係にあり、静止
時の間隙δ。は前述と同様に直径の0.0025倍から
0.0055倍の範囲内にあることが好ましい。
(7)発明の効果 このように本発明によると回転子の静止時の間隙を該回
転子の直径の0.0025〜0.0055倍に拡げても
広範囲の圧力(1−1000Pユ)において多量のガス
排気が1き、しかも固型物の吸引や高速回転時に生じる
遠心力による回転子の伸び、あるいは高温の気体や多量
の気体を圧縮排気する際に生じる回転子他者構成部品の
熱膨張による接触の危険がなくなり、又製造時加工寸法
に非常なる精密さが要求されることがなくなり、薄膜応
用工業分野における好適な真空ポンプとなる効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のポンプの要部の断面図、第2図は種々
の流量における幾何学パラメータβと圧力勾配との関係
のグラフ、第3図は種々の流量における間隙δと圧力勾
配との関係のグラフ、第4図は従来のポンプの要部の断
面図である− (1)・・・固定子   (2)・・・回転子(3)・
・・間隙    (4)・・・ねじ状溝(5)・・・山
部 手続補正書 (自発) 昭和61年 4月24日 特許庁長官  宇 賀  道 部 殿 1、事件の表示 昭和60年特許願第179041号 2、発明の名称 ねじ溝式真空ポンプ 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 大阪府大阪市東区北浜3丁目6番地名称  株式
会社大阪真空機器製作所 代表者 笠 岡  亥 −部 4、代理人 〒103 住所  東京都中央区日本橋小伝馬町 16番8号  共同ビル 手交  (R+7R1mTm半  本  山  畑  
目湘(至)歇も5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面6、補正の内容 (1)明細書第6頁の下から第1行目のrノ」を「b」
に補正する。 (2)同書第9頁第4行目の「圧力KzJ  を「無次
元圧力KI」に補正する。 (3)同書第1O頁第1行目のro、32〜0.18」
をrO,032〜0.18Jに補正する。 (4)同書第11頁第8行目と第9行目との間に下記事
項を挿入する。 記 「尚、本発明は、前述したねじ構分子ポンプ部のみから
なるねじ溝式真空ポンプばかりでなく、ターボ分子ポン
プ部とねじ構分     □子ポンプ部とを一体化した
複合分子ポンプの該ねじ構分子ポンプ部にも適用可能で
ある。 (5)図面の第3図を別紙のとおり補正する。 (6)図面の第4図を別紙のとおり補正する。 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 円筒状の固定子と該固定子内にこれと間隙を存して設け
    た円柱状の回転子とからなり、該固定子の内周面又は回
    転子の外周面にねじ状溝が形成されており、該回転子を
    回転させることにより排気を行うねじ溝式真空ポンプに
    おいて、該回転子の静止時前記間隙が前記回転子の直径
    の0.0025〜0.0055倍であることを特徴とす
    るねじ溝式真空ポンプ。
JP60179041A 1985-08-14 1985-08-14 ねじ溝式真空ポンプ Pending JPS6238899A (ja)

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US06/896,470 US4708586A (en) 1985-08-14 1986-08-14 Thread groove type vacuum pump
DE3627642A DE3627642C3 (de) 1985-08-14 1986-08-14 Vakuumpumpe mit Gewindekanal

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49128306A (ja) * 1973-03-21 1974-12-09
JPS5358810A (en) * 1976-11-08 1978-05-27 Aisin Seiki Co Ltd High vacuum pump
JPS58155297A (ja) * 1981-12-14 1983-09-14 ユルトラ・ツエントリフユ−ゲ・ネ−デルランド・ナ−ムロ−ゼ・ヴエノ−トチヤツプ 高真空分子ポンプ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49128306A (ja) * 1973-03-21 1974-12-09
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JPS58155297A (ja) * 1981-12-14 1983-09-14 ユルトラ・ツエントリフユ−ゲ・ネ−デルランド・ナ−ムロ−ゼ・ヴエノ−トチヤツプ 高真空分子ポンプ

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