JPS58146797A - 液化不活性ガスの流下量制御装置 - Google Patents
液化不活性ガスの流下量制御装置Info
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- JPS58146797A JPS58146797A JP57026459A JP2645982A JPS58146797A JP S58146797 A JPS58146797 A JP S58146797A JP 57026459 A JP57026459 A JP 57026459A JP 2645982 A JP2645982 A JP 2645982A JP S58146797 A JPS58146797 A JP S58146797A
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- F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
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- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は流下装置の槽内に貯溜されるたとえば液体窒
素等液化不活性ガスをライン上に配列されて搬送される
未封容器に連続的に流下させる場合の流下量を調節する
液化不活性ガスの流下量制御装置に関する。
素等液化不活性ガスをライン上に配列されて搬送される
未封容器に連続的に流下させる場合の流下量を調節する
液化不活性ガスの流下量制御装置に関する。
一般に、非炭配飲料やその他の缶詰製品において主とし
てコスト、重量の関係から薄肉の金属製缶（たとえば０
．１５ｆｆの厚さのアルミ缶）やプラスチック製缶等の
いわゆる軟質缶がよく使用される。
てコスト、重量の関係から薄肉の金属製缶（たとえば０
．１５ｆｆの厚さのアルミ缶）やプラスチック製缶等の
いわゆる軟質缶がよく使用される。
この種の軟質缶を使用する場合、保存、輸送における変
形や破損を避けるために窒素等液化不活性ガス（以下液
化ガスという）を封入して缶内圧を高めるようにしてい
る。このような液化ガスの缶への封入は第１図に示すよ
うに先ずフイーラ１で空缶に飲料を充填した後、ライン
２に載置して缶６を搬送し、搬送の途中で流下装置４よ
り液化ガスを缶乙に滴下し、さらにその後シーマ５で缶
己を密封して行なっている。そして流下装置４より缶６
への液化ガスの注入は従来流下装置４の弁を一定時間開
いて滴下させる間欠的注入法や液化ガスを小滴状に滴化
させる方法をとっていた。しかしながら間欠的注入や小
滴状注入では５間欠時間のズレや小滴の大小によりある
いは注入時の小滴の飛散によシ缶毎の注入量にバラツキ
が生じるという欠点がありこの欠点を解消するために、
この出願の発明者等は連続的に液化ガスを流下し注入す
る装置を案出しすでに提案した。
形や破損を避けるために窒素等液化不活性ガス（以下液
化ガスという）を封入して缶内圧を高めるようにしてい
る。このような液化ガスの缶への封入は第１図に示すよ
うに先ずフイーラ１で空缶に飲料を充填した後、ライン
２に載置して缶６を搬送し、搬送の途中で流下装置４よ
り液化ガスを缶乙に滴下し、さらにその後シーマ５で缶
己を密封して行なっている。そして流下装置４より缶６
への液化ガスの注入は従来流下装置４の弁を一定時間開
いて滴下させる間欠的注入法や液化ガスを小滴状に滴化
させる方法をとっていた。しかしながら間欠的注入や小
滴状注入では５間欠時間のズレや小滴の大小によりある
いは注入時の小滴の飛散によシ缶毎の注入量にバラツキ
が生じるという欠点がありこの欠点を解消するために、
この出願の発明者等は連続的に液化ガスを流下し注入す
る装置を案出しすでに提案した。
一方、たとえば飲料缶製品の需要の変化、生産計画等の
変化その他の事情に応じてライン速度を変えて生産量を
調整しだい場合がしばしば生じる。
変化その他の事情に応じてライン速度を変えて生産量を
調整しだい場合がしばしば生じる。
ところが、上記した連続流下の場合、液化ガスの流下量
が一定とすると、ライン速度の変化で缶が流下装置を通
過する時間が変化するため液化ガスの注入量も変化し、
！！た流下装置からシーマに達するまでの時間も変化し
その間における液化ガスの蒸発量も変化する。そのため
シーマで密封された時点での封入液化ガスの量が相違す
ることにな′る。したがってライン速度を変化させても
封入液化ガスを一定にするためには流下装置より流下さ
れる液化ガスの量を調整してやる必要がある。しかし手
動で流下装置の弁の開閉状態を最適に調節することは面
倒かつ困難なことである。
が一定とすると、ライン速度の変化で缶が流下装置を通
過する時間が変化するため液化ガスの注入量も変化し、
！！た流下装置からシーマに達するまでの時間も変化し
その間における液化ガスの蒸発量も変化する。そのため
シーマで密封された時点での封入液化ガスの量が相違す
ることにな′る。したがってライン速度を変化させても
封入液化ガスを一定にするためには流下装置より流下さ
れる液化ガスの量を調整してやる必要がある。しかし手
動で流下装置の弁の開閉状態を最適に調節することは面
倒かつ困難なことである。
この発明の目的は、上記の問題点を解消し、ライン速度
を変えても缶内に封入される液化ガスの缶内圧を一定に
なし得る液化不活性ガスの流下量制御装置を提供するに
ある。
を変えても缶内に封入される液化ガスの缶内圧を一定に
なし得る液化不活性ガスの流下量制御装置を提供するに
ある。
以上の目的を達成するためにこの発明の液化不活性ガス
の流下量制御装置は、ラインの速度を検出する手段と、
この速度検出手段によって検出されるライン速度に応答
して流下装置の弁を開閉制御する手段とを備えることを
特徴としている。
の流下量制御装置は、ラインの速度を検出する手段と、
この速度検出手段によって検出されるライン速度に応答
して流下装置の弁を開閉制御する手段とを備えることを
特徴としている。
以下図面に示す実施例によりこの発明の詳細な説明する
。
。
第２図はこの発明の一実施例を示す液化不活性ガヌの流
下量制御装置の構成を示すブロック図である。同図にお
いて１１は第１図に示す流下装置４に対応するものであ
って、この流下装置１１の槽内には液体窒素が満たされ
ていて、内蔵されるニードル弁の開閉状況に応じて流下
口１２より液体窒素が連続的に流下されるようになって
いる。
下量制御装置の構成を示すブロック図である。同図にお
いて１１は第１図に示す流下装置４に対応するものであ
って、この流下装置１１の槽内には液体窒素が満たされ
ていて、内蔵されるニードル弁の開閉状況に応じて流下
口１２より液体窒素が連続的に流下されるようになって
いる。
なお流下装置１１の一例の詳細は後述する。１己□
は液体窒素の貯蔵ボンベであって、流下装置１１内に貯
溜される液体窒素が空になると、電磁弁１４を介して流
下装置１１に液体窒素が補給される。
溜される液体窒素が空になると、電磁弁１４を介して流
下装置１１に液体窒素が補給される。
１５はライン制御部であって低速オンボタン１６゜高速
オンボタン１７．普通停止ボタン１８．緊急停止ボタン
１９を備えている。低速オンボタン１６はライン２（第
１図参照）を低速（たとえば５００（ＣＰＭ））で運転
する場合に操作される。高速オンボタン１７はライン２
を高速（たとえば１００１０００（ＣＰで運転する場合
に操作される。普通停止ボタン１８はライン２を停止さ
せる場合電源が断されてもライン２は暫時移動して停止
するが、このライン２の暫時の移動に合わして流下装置
１１の弁を閉じる時に操作される。緊急停止ボタン１９
はライン２の電源が切れればライン２が暫時移動してい
る段階でも即流下装置１１の弁を閉じる時に操作される
。これら各ボタン１６・・・１９よリノ操作信号は変換
器（デコーダ）２０を介してマイクロフロセッサ２１に
入力される。さらにライン制？ｌＪ 部１５はタコゼネ
レータ２２によってライン速度を交流信号で出力しタコ
ゼネ変換器２６に加える。タコゼネ変換器２３に加えら
れたライン速度に比例した交流電流は直流電流に変換さ
れて分流器２４に加えられさらに直流電圧に変換される
。
オンボタン１７．普通停止ボタン１８．緊急停止ボタン
１９を備えている。低速オンボタン１６はライン２（第
１図参照）を低速（たとえば５００（ＣＰＭ））で運転
する場合に操作される。高速オンボタン１７はライン２
を高速（たとえば１００１０００（ＣＰで運転する場合
に操作される。普通停止ボタン１８はライン２を停止さ
せる場合電源が断されてもライン２は暫時移動して停止
するが、このライン２の暫時の移動に合わして流下装置
１１の弁を閉じる時に操作される。緊急停止ボタン１９
はライン２の電源が切れればライン２が暫時移動してい
る段階でも即流下装置１１の弁を閉じる時に操作される
。これら各ボタン１６・・・１９よリノ操作信号は変換
器（デコーダ）２０を介してマイクロフロセッサ２１に
入力される。さらにライン制？ｌＪ 部１５はタコゼネ
レータ２２によってライン速度を交流信号で出力しタコ
ゼネ変換器２６に加える。タコゼネ変換器２３に加えら
れたライン速度に比例した交流電流は直流電流に変換さ
れて分流器２４に加えられさらに直流電圧に変換される
。
この直流電圧に変換されたライン速度信号はＡＤ変換器
２５でデジタル値に変換されてマイクロプロセッサ２１
に入力される。
２５でデジタル値に変換されてマイクロプロセッサ２１
に入力される。
２６はピニオンラックであってパルスモータ２７の回転
により、リニアヘッド２８中のピニオンに噛合して上下
されるようになっている。ピニオンラック２６の上下に
よって流下装置１１の弁が開閉され液化ガスの流下量が
調節される。ピニオンラック２６の位置はりニアゲーン
センサ２９で検出されデジタルリニアゲージ３０によっ
てデジタル値に変換されてマイクロプロセッサ２１に加
えるようになっている。
により、リニアヘッド２８中のピニオンに噛合して上下
されるようになっている。ピニオンラック２６の上下に
よって流下装置１１の弁が開閉され液化ガスの流下量が
調節される。ピニオンラック２６の位置はりニアゲーン
センサ２９で検出されデジタルリニアゲージ３０によっ
てデジタル値に変換されてマイクロプロセッサ２１に加
えるようになっている。
マイクロプロセッサ２１はＡＤ変換器２５より加えられ
るライン速度に基づいて液体窒素の最適流下量を求め、
この流下量に対応するピニオンラック２６の位置を算出
し、この算出されたピニオンラック位置とデジタルリニ
アゲージセンサより得られるピニオンラックの現位置と
より求められるパルスモータの回転数及び回転方向を示
す信号ヲハルスモータ駆動回路３１に加える。パルスモ
ータ駆動回路３１はマイクロプロセッサ２１より加えら
れる信号の回転方向で、その回転数だけパルスモータ２
７を回転駆動する。
るライン速度に基づいて液体窒素の最適流下量を求め、
この流下量に対応するピニオンラック２６の位置を算出
し、この算出されたピニオンラック位置とデジタルリニ
アゲージセンサより得られるピニオンラックの現位置と
より求められるパルスモータの回転数及び回転方向を示
す信号ヲハルスモータ駆動回路３１に加える。パルスモ
ータ駆動回路３１はマイクロプロセッサ２１より加えら
れる信号の回転方向で、その回転数だけパルスモータ２
７を回転駆動する。
ここでマイクロプロセッサ２１におけるライン速度に対
する液体窒素流下量の算出について説明する。第１図の
液化ガス注入装置において流下装置４より液体窒素を連
続流下させた場合のライン速度と一定缶内圧を得るだめ
の液体窒素流下量の関係の一例を示すと第５図に示す通
りとなる。同図においてな〕は流下装置４とシーマ５の
距離を０゜５１：ｍ）にした場合、 ＩＩ”）は同距離
を１．５岡にした場合である。なおいずれも缶に満たし
た飲料は２４３〔ｍｅ〕、敷料の温度を９５回としてい
る。またパラメータは目的とする窒素ガスの缶内圧であ
る。
する液体窒素流下量の算出について説明する。第１図の
液化ガス注入装置において流下装置４より液体窒素を連
続流下させた場合のライン速度と一定缶内圧を得るだめ
の液体窒素流下量の関係の一例を示すと第５図に示す通
りとなる。同図においてな〕は流下装置４とシーマ５の
距離を０゜５１：ｍ）にした場合、 ＩＩ”）は同距離
を１．５岡にした場合である。なおいずれも缶に満たし
た飲料は２４３〔ｍｅ〕、敷料の温度を９５回としてい
る。またパラメータは目的とする窒素ガスの缶内圧であ
る。
図から明かなようにライン速度の小なる範囲ではライン
速度が小さくなるほど極端に流下量が大となるがあるラ
イン速實（極承点Ａ）以上はライン速度の増大とともに
必要とする流下量も大となる。
速度が小さくなるほど極端に流下量が大となるがあるラ
イン速實（極承点Ａ）以上はライン速度の増大とともに
必要とする流下量も大となる。
そして流下装置４とシーマ５の距離が大なるほど極小点
Ａが右に移動するし同じライン速度で同じ缶内圧を得る
に必要とする液体窒素の流下量が犬となる。マイクロプ
ロセッサ２１に内蔵されるメモリには上記特性図のデー
タすなわち缶内圧毎にライン速度に対する流下量が記憶
されており、ＡＤ変換器２５よりマイクロプロセッサ２
１にライン速度が入力されるとそのライン速度に対応す
る流下量がメモリより読出される。このようにしてライ
ン速度に対する液体窒素の流下量が求められる。この流
下量はさらにピニオンラック位置信号に変換される。な
お第６図に示す缶内圧１．０（ｋｑ／ｄＬ １．５
Ｃｋｔｉ／ｃｄ〕、 ２．０ （ｋｇ／ｄ〕等の選定
ハワイクロプロセッサ２１内蔵のキー指定によってなさ
れる。
Ａが右に移動するし同じライン速度で同じ缶内圧を得る
に必要とする液体窒素の流下量が犬となる。マイクロプ
ロセッサ２１に内蔵されるメモリには上記特性図のデー
タすなわち缶内圧毎にライン速度に対する流下量が記憶
されており、ＡＤ変換器２５よりマイクロプロセッサ２
１にライン速度が入力されるとそのライン速度に対応す
る流下量がメモリより読出される。このようにしてライ
ン速度に対する液体窒素の流下量が求められる。この流
下量はさらにピニオンラック位置信号に変換される。な
お第６図に示す缶内圧１．０（ｋｑ／ｄＬ １．５
Ｃｋｔｉ／ｃｄ〕、 ２．０ （ｋｇ／ｄ〕等の選定
ハワイクロプロセッサ２１内蔵のキー指定によってなさ
れる。
第２図において３２は流下量＠１１の液面レベルを検出
するセンサであってこの液面センサ３２で検出される液
面レベルは液面計３６で読取られる。この液面計６３に
出力された液面レベル信号は電磁弁１４を開閉制御する
。また−Ｆ記液面レベル信号はＡＤ変換器３４を経てマ
イクロプロセッサ２１に加えられマイクロプロセッサ２
１は液面レベルがある値以下になると警報器３５を動作
させる。この警報器３５は液面計３３に付属するもので
あってもよい。
するセンサであってこの液面センサ３２で検出される液
面レベルは液面計３６で読取られる。この液面計６３に
出力された液面レベル信号は電磁弁１４を開閉制御する
。また−Ｆ記液面レベル信号はＡＤ変換器３４を経てマ
イクロプロセッサ２１に加えられマイクロプロセッサ２
１は液面レベルがある値以下になると警報器３５を動作
させる。この警報器３５は液面計３３に付属するもので
あってもよい。
以上のように構成される液体窒素の流下量制御装置はマ
イクロプロセッサ２１による制御のもと第４図に示すフ
ローにしたがって制御動作が実行される。
イクロプロセッサ２１による制御のもと第４図に示すフ
ローにしたがって制御動作が実行される。
次に第４図のフロー図を参照して第２図に示す装置の動
作について説明する。
作について説明する。
先ず動作のスタート時において、マイクロプロセンサ２
１自体がリセットされピニオンラック２６が下げられた
状態すなわち流下装置１１の弁が全閉状態とされる。す
なわち初期状態設定がなされる（ステップＳＴｉ ）。
１自体がリセットされピニオンラック２６が下げられた
状態すなわち流下装置１１の弁が全閉状態とされる。す
なわち初期状態設定がなされる（ステップＳＴｉ ）。
次にステップＳＴ（以下ＳＴと略す）２でｌｓＴ、ＯＰ
か」どうか判定する。
か」どうか判定する。
動作ノスタート時点では先ず低速°オンボタン１６が押
されるので、緊急停止ボタン１９等の立上シ信号が得ら
れずＳｒ１における判定はＮＯで次のＳｒ３に移る。こ
のステップでは「低速か」すなわち低速オンボタン１６
が押されたかを判定する。
されるので、緊急停止ボタン１９等の立上シ信号が得ら
れずＳｒ１における判定はＮＯで次のＳｒ３に移る。こ
のステップでは「低速か」すなわち低速オンボタン１６
が押されたかを判定する。
上記したように動作のスタートでは先ず低速オンボタン
１６が押されるのでこのボタンスイッチの立上りをマイ
クロプロセッサ２１で記憶していると判定ＹＥＳでＳｒ
４に移り低速立上り用プログラムを実行する。動作開始
直後ではライン速度が上昇しても流下装置１１より流下
される液体窒素の量が追随してゆかないので低速オンボ
タン１６の操作後一定時間はライン速度に対応する弁の
開度よりも大きく弁を開くという処理をこのステップで
行なう。その後はＳｉ２に移りライン制御部１５よシタ
コゼネ変換器２３９分流器２４．ＡＤ変換器２５を経て
加えられるライン速度を読込む。
１６が押されるのでこのボタンスイッチの立上りをマイ
クロプロセッサ２１で記憶していると判定ＹＥＳでＳｒ
４に移り低速立上り用プログラムを実行する。動作開始
直後ではライン速度が上昇しても流下装置１１より流下
される液体窒素の量が追随してゆかないので低速オンボ
タン１６の操作後一定時間はライン速度に対応する弁の
開度よりも大きく弁を開くという処理をこのステップで
行なう。その後はＳｉ２に移りライン制御部１５よシタ
コゼネ変換器２３９分流器２４．ＡＤ変換器２５を経て
加えられるライン速度を読込む。
そしてＳｒ８で入力されたライン速度に対応する流下量
を求めさらにこの流下量からピニオンラック位−を計算
する。そしてＳｒ９でリニアゲージ３０よりの現ピニオ
ンラック２６の位置と算出したピニオンラック位置より
パルスモータ２７の回転方向及び回転数を計算しその計
算値をパルスモータ駆動回路３１に出力する（ＳＴ１０
）。パルスモ−夕駆動回路３１はマイクロプロセッサ２
１よシ受けた回転方向及び回転数を示す信号に基づきパ
ルスモータ２７を回転駆動する。パルスモータ２７の回
転によりピニオンラック２６はと方に移動し。
を求めさらにこの流下量からピニオンラック位−を計算
する。そしてＳｒ９でリニアゲージ３０よりの現ピニオ
ンラック２６の位置と算出したピニオンラック位置より
パルスモータ２７の回転方向及び回転数を計算しその計
算値をパルスモータ駆動回路３１に出力する（ＳＴ１０
）。パルスモ−夕駆動回路３１はマイクロプロセッサ２
１よシ受けた回転方向及び回転数を示す信号に基づきパ
ルスモータ２７を回転駆動する。パルスモータ２７の回
転によりピニオンラック２６はと方に移動し。
流下装置１１の弁はライン速度にみあった液体窒素を流
下させるところまで開かれる。そして動作フローはＳｉ
２にもどるが、このステップでの判定は停止ボタンが押
されていないのでＮＯであすＳｒ１に移る。Ｓｒ１の判
定は「低速か」であるがすでに低速オンボタン１６の立
上りを読取り。
下させるところまで開かれる。そして動作フローはＳｉ
２にもどるが、このステップでの判定は停止ボタンが押
されていないのでＮＯであすＳｒ１に移る。Ｓｒ１の判
定は「低速か」であるがすでに低速オンボタン１６の立
上りを読取り。
Ｓｉ４での動作を経た後なのでこの段階での判定はＮＯ
となる。次にＳｉ５に移る。このステップでは「高速か
」の判定、すなわち高速オンボタン１７が押されたか否
か判定されるが、高速オ゛ンボタン１７が押されていな
いので判定はＮＯでＳｉ７に移る。そして上記したと同
様にＳｉ７→ＳＴ８→Ｓｉ９→５Ｔ１０→Ｓ、 Ｔ ２
の動作を行なう。
となる。次にＳｉ５に移る。このステップでは「高速か
」の判定、すなわち高速オンボタン１７が押されたか否
か判定されるが、高速オ゛ンボタン１７が押されていな
いので判定はＮＯでＳｉ７に移る。そして上記したと同
様にＳｉ７→ＳＴ８→Ｓｉ９→５Ｔ１０→Ｓ、 Ｔ ２
の動作を行なう。
以後高速オンボタン１７′が押されるまでＳＴ２→・・
・→ＳＴ５→ＳＴ７→・・・→ＳＴｉ［］→ＳＴ２の制
御動作がくシ返される。
・→ＳＴ５→ＳＴ７→・・・→ＳＴｉ［］→ＳＴ２の制
御動作がくシ返される。
続いて高速オンボタン１７が押されて、ライン速度が高
速となると高速オンボタン１７のオン立上りをとらえて
Ｓｉ５の判定がＹＥＳとなり動作フローはＳｒ１に移る
。ライン速度を低速から高速に切換えた頭初はやはりラ
イン速度の上昇に対して流下装置１１より流下される液
体窒素の量が追随することができないので高速オンボタ
ン１７の操作後一定時間はライン速度に対応する弁の開
度よシも大きく強制的に弁を開くという処理をこのステ
ップで行なう。その後はＳｉ７に移りライン速度を読込
み、以下低速時の動作と同様ＳＴ８で［ヒニオンラツク
位置針算Ｊ Ｓｉ９で「モータ回転数計算Ｊ、５Ｔ１０
で、算出された回転方向及び回転数を出力してパルスモ
ータ２７を駆動し。
速となると高速オンボタン１７のオン立上りをとらえて
Ｓｉ５の判定がＹＥＳとなり動作フローはＳｒ１に移る
。ライン速度を低速から高速に切換えた頭初はやはりラ
イン速度の上昇に対して流下装置１１より流下される液
体窒素の量が追随することができないので高速オンボタ
ン１７の操作後一定時間はライン速度に対応する弁の開
度よシも大きく強制的に弁を開くという処理をこのステ
ップで行なう。その後はＳｉ７に移りライン速度を読込
み、以下低速時の動作と同様ＳＴ８で［ヒニオンラツク
位置針算Ｊ Ｓｉ９で「モータ回転数計算Ｊ、５Ｔ１０
で、算出された回転方向及び回転数を出力してパルスモ
ータ２７を駆動し。
ライン速度に応じた弁の開度となるように調節し流下装
置１１よシ流下される液体窒素量を適正に保つ。以後高
速でライン運転が続けられる限り。
置１１よシ流下される液体窒素量を適正に保つ。以後高
速でライン運転が続けられる限り。
ＳＴ２→・・・→ＳＴ５→ＳＴ７→・・・→５ＴＩＯ→
ＳＴ２の動作がくり返し継続される。
ＳＴ２の動作がくり返し継続される。
緊急停止ボタン１９が押されると、この緊急停止ボタン
１９のスイッチオン立トリをとらえてＳｉ２での１ＳＴ
ＯＰか」の判定がＹＥＳとなり。
１９のスイッチオン立トリをとらえてＳｉ２での１ＳＴ
ＯＰか」の判定がＹＥＳとなり。
５Ｔ１１に移る。そしてライン２が徐々に停止する場合
でもライン速度０として処理し、流下装置１１の弁を即
全閉するように制御する。
でもライン速度０として処理し、流下装置１１の弁を即
全閉するように制御する。
普通停止ボタン１日が押された場合には特別の処理をな
さずにＳＴ２→・・・→ＳＴ５→ＳＴ７→・・・→５Ｔ
１０→ＳＴ２の動作を行ないライン速度の漸減に応答し
て流下量＠１１の弁を閉じることになる。
さずにＳＴ２→・・・→ＳＴ５→ＳＴ７→・・・→５Ｔ
１０→ＳＴ２の動作を行ないライン速度の漸減に応答し
て流下量＠１１の弁を閉じることになる。
次に第２図に示す装置に使用される液化ガスの流下装置
の具体例の１つを第５図を参照して説明する。同図は流
下装置の要部縦断面図を示している。同図において４０
は本体容器であって、外ケース４１と内容器４２及び保
冷のため外ケース４１と内容器４２間に形成される真空
層４５よシ構成されている。また本体容器４０の中央部
にはニードル弁支持筒４４が装着されており、このニー
ドル弁支持筒４４の筒内上方部には主軸４５．インナパ
ルプ４６とシートパルプ４７からなるニードル弁４８が
、筒内下方部には液体ガスバッファ部４９が設けられて
いる。ニードル弁４８の主軸４５は上方端で一端がスプ
リング固定支持枠５０に固定されるスプリング５１の他
端に支持枠５２によって固定され、駆動棒５５の上下動
により降下。
の具体例の１つを第５図を参照して説明する。同図は流
下装置の要部縦断面図を示している。同図において４０
は本体容器であって、外ケース４１と内容器４２及び保
冷のため外ケース４１と内容器４２間に形成される真空
層４５よシ構成されている。また本体容器４０の中央部
にはニードル弁支持筒４４が装着されており、このニー
ドル弁支持筒４４の筒内上方部には主軸４５．インナパ
ルプ４６とシートパルプ４７からなるニードル弁４８が
、筒内下方部には液体ガスバッファ部４９が設けられて
いる。ニードル弁４８の主軸４５は上方端で一端がスプ
リング固定支持枠５０に固定されるスプリング５１の他
端に支持枠５２によって固定され、駆動棒５５の上下動
により降下。
復帰自在に構成されている。シートバルブ４７は中央に
、テーパ状の開口部を有する貫通穴４７ａを有しており
、ニードル弁支持８＠４４の下方段部に固着されている
。このシートバルブ４７の貫通穴４７ａにはニードル弁
４８の主軸４５の上下動によりインナパルプ４６が抜差
され、その抜差具合によって液化ガスの流下量が調整さ
れるようになっている。
、テーパ状の開口部を有する貫通穴４７ａを有しており
、ニードル弁支持８＠４４の下方段部に固着されている
。このシートバルブ４７の貫通穴４７ａにはニードル弁
４８の主軸４５の上下動によりインナパルプ４６が抜差
され、その抜差具合によって液化ガスの流下量が調整さ
れるようになっている。
液体ガスバッファ部４９は、す状に形成される焼結金属
製受器５４．焼結金属製受器５４を支持する支持枠５５
．５６及び保冷用外筒５７で構成されている。支持枠５
５はニードル弁支持筒４４の下方開口部に挿着されてい
る。
製受器５４．焼結金属製受器５４を支持する支持枠５５
．５６及び保冷用外筒５７で構成されている。支持枠５
５はニードル弁支持筒４４の下方開口部に挿着されてい
る。
内容器４２内に貯溜されている液体ガスたとえば液体窒
素はニードル弁支持筒４４に設けられる貫通穴５Ｂを経
てシートパルプ４７の貫通穴４７８より焼結金属製受器
５４に流下されいったんこの焼結金属製受器５４に溜め
られる。そしてこの焼結金属製受器５４のす状部を液体
窒素が滲出して。
素はニードル弁支持筒４４に設けられる貫通穴５Ｂを経
てシートパルプ４７の貫通穴４７８より焼結金属製受器
５４に流下されいったんこの焼結金属製受器５４に溜め
られる。そしてこの焼結金属製受器５４のす状部を液体
窒素が滲出して。
整流され流下口５９よりさらに下方に流下して下方を搬
送される缶に注入される。この場合内容器４２より焼結
金属製受器５４に流下される液体窒素の流下量はシート
パルプ４７０貫通穴４７＆の開口度合によって決まる。
送される缶に注入される。この場合内容器４２より焼結
金属製受器５４に流下される液体窒素の流下量はシート
パルプ４７０貫通穴４７＆の開口度合によって決まる。
貫通穴４７＆の開口度合ハインナバルプ４６の挿入度合
によって決するがこのインチパルプ４６の挿入度合は駆
動棒５３の上下動によって調節される。駆動棒５ろは第
２図に示す装置のピニオンラック２６に連結されるので
、ピニオンラック２６の上下動により焼結金属製受器５
４への流下量が調整されることになる。
によって決するがこのインチパルプ４６の挿入度合は駆
動棒５３の上下動によって調節される。駆動棒５ろは第
２図に示す装置のピニオンラック２６に連結されるので
、ピニオンラック２６の上下動により焼結金属製受器５
４への流下量が調整されることになる。
一方焼結金属製受器５４への流下量が大になると、焼結
金属製受器５４に溜められる液体窒素の、霞 量も大となりそれだけ滲出して流下してゆく量も大とな
る。
金属製受器５４に溜められる液体窒素の、霞 量も大となりそれだけ滲出して流下してゆく量も大とな
る。
第５図に示した流下装置によれば焼結金属製受器を介し
て液化ガスを細い糸状に連続してゆるやかに缶に注入し
得るので、注入の際のショックが少なく、液化ガスの飛
散や蒸発が少なくしかも一定して注入できるので注入量
のバラツキがほとんど生じない。
て液化ガスを細い糸状に連続してゆるやかに缶に注入し
得るので、注入の際のショックが少なく、液化ガスの飛
散や蒸発が少なくしかも一定して注入できるので注入量
のバラツキがほとんど生じない。
この発明に使用される流下装置としては第５図に示すも
のと同様の原理のものが好ましいが、連続的に液化ガス
が流下されるもので他の原理のものを用いてもよい。
のと同様の原理のものが好ましいが、連続的に液化ガス
が流下されるもので他の原理のものを用いてもよい。
以上のようにこの発明の簾？ｔ、Ｔ渚ｉガス流下量制御
装置によれば、ライン速度を検出しそのライン速度に応
じて流下装置の弁を開閉制御して液化ガスの流下量を制
御するものであるから、ライン速度を変えあるいは変動
する場合でもつねに所望量の液化ガスを缶に注入するこ
とができる。
装置によれば、ライン速度を検出しそのライン速度に応
じて流下装置の弁を開閉制御して液化ガスの流下量を制
御するものであるから、ライン速度を変えあるいは変動
する場合でもつねに所望量の液化ガスを缶に注入するこ
とができる。
第１図は空缶に飲料等を充填しその後液化不活性ガヌを
注入して缶を密封するまでの注入装置の概略を示す図、
第２図はこの発明の一実施例を示すり糺＆、Ｆ−油性ガ
ス流下量制御装置のブロック図。 第６図は第１図に示す注入装置において、ライン速度と
液体窒素の流下量の関係を示す図、第４図は第２図に示
す実施例装置の処理フローを示す図。 第５図は第２図に示す実施例装置に使用−される流下装
置の一例を示す要部縦断面図である。 １：フイーラ、 ２ニライン、 ３：缶。 ４・１１：流下装置、 ５：シーマ、 １３：ボン
ベ、 １４：電磁弁、 １５ニライン制御部、
２１：マイクロプロセッサ、 ２２：タコゼネレータ
、 ２６：ピニオンラック。 ２７；パルスモータ、 ２８：リニアヘッド。 ２９：リニアゲージセンサ、 ３０＝デジタルリニア
ゲージ。 特許出願人 サントリー株式会社代理人 弁
理士 中 村 茂 信 纂／図
注入して缶を密封するまでの注入装置の概略を示す図、
第２図はこの発明の一実施例を示すり糺＆、Ｆ−油性ガ
ス流下量制御装置のブロック図。 第６図は第１図に示す注入装置において、ライン速度と
液体窒素の流下量の関係を示す図、第４図は第２図に示
す実施例装置の処理フローを示す図。 第５図は第２図に示す実施例装置に使用−される流下装
置の一例を示す要部縦断面図である。 １：フイーラ、 ２ニライン、 ３：缶。 ４・１１：流下装置、 ５：シーマ、 １３：ボン
ベ、 １４：電磁弁、 １５ニライン制御部、
２１：マイクロプロセッサ、 ２２：タコゼネレータ
、 ２６：ピニオンラック。 ２７；パルスモータ、 ２８：リニアヘッド。 ２９：リニアゲージセンサ、 ３０＝デジタルリニア
ゲージ。 特許出願人 サントリー株式会社代理人 弁
理士 中 村 茂 信 纂／図
Claims (1)
- （１） 槽内に液化不活性ガスを貯溜し、流下量調節
弁を有する流下装置より、所定速度で移動するライン上
に配列されて搬送される未封容器に前記液化不活性ガス
を連続的に流下する場合の流下量を制御する液化不活性
ガスの流下量制御装置であって。 前記ラインの速度を検出する手段と、この速度検出手段
によって検出されるライン速度に応答して前記流下装置
の前記弁を開閉制御する手段とを備えることを特徴とす
る液化不活性ガスの流下量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57026459A JPS58146797A (ja) | 1982-02-20 | 1982-02-20 | 液化不活性ガスの流下量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57026459A JPS58146797A (ja) | 1982-02-20 | 1982-02-20 | 液化不活性ガスの流下量制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58146797A true JPS58146797A (ja) | 1983-09-01 |
| JPS6330208B2 JPS6330208B2 (ja) | 1988-06-16 |
Family
ID=12194086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57026459A Granted JPS58146797A (ja) | 1982-02-20 | 1982-02-20 | 液化不活性ガスの流下量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58146797A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5934099A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-24 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス適下装置 |
| JPS59106799A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-20 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス滴下量の制御装置 |
| JPS6077826A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-02 | 全国食糧事業協同組合連合会 | 固形貯蔵物缶詰の製造方法 |
| JPS6160416A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-28 | 東洋製罐株式会社 | 液化不活性ガス滴下装置 |
| US4880041A (en) * | 1987-04-15 | 1989-11-14 | Tokyo Seikan Kaisha, Ltd. | Apparatus for flowing and filling liquified inert gas |
| US5385025A (en) * | 1994-03-04 | 1995-01-31 | Mg Industries | Apparatus and method for dispensing droplets of a cryogenic liquid |
| US5400601A (en) * | 1992-09-29 | 1995-03-28 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and device for the distribution of quantities of liquid, particularly liquefied gas |
| JP2014525017A (ja) * | 2011-07-26 | 2014-09-25 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 充填コネクタ、容器、充填方法、および充填ノズル |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6352606U (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-08 | ||
| KR102631177B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2024-01-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계 발광 조명장치 |
-
1982
- 1982-02-20 JP JP57026459A patent/JPS58146797A/ja active Granted
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5934099A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-24 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス適下装置 |
| JPS6244160B2 (ja) * | 1982-08-20 | 1987-09-18 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | |
| JPS59106799A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-20 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス滴下量の制御装置 |
| JPS6150200B2 (ja) * | 1982-12-10 | 1986-11-01 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | |
| JPS6077826A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-05-02 | 全国食糧事業協同組合連合会 | 固形貯蔵物缶詰の製造方法 |
| JPH0114089B2 (ja) * | 1983-09-26 | 1989-03-09 | Zenkoku Shokuryo Jigyo Kyodokumiai Rengokai | |
| JPS6160416A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-28 | 東洋製罐株式会社 | 液化不活性ガス滴下装置 |
| JPS6254689B2 (ja) * | 1984-08-22 | 1987-11-16 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | |
| US4880041A (en) * | 1987-04-15 | 1989-11-14 | Tokyo Seikan Kaisha, Ltd. | Apparatus for flowing and filling liquified inert gas |
| US5400601A (en) * | 1992-09-29 | 1995-03-28 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and device for the distribution of quantities of liquid, particularly liquefied gas |
| US5385025A (en) * | 1994-03-04 | 1995-01-31 | Mg Industries | Apparatus and method for dispensing droplets of a cryogenic liquid |
| JP2014525017A (ja) * | 2011-07-26 | 2014-09-25 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 充填コネクタ、容器、充填方法、および充填ノズル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330208B2 (ja) | 1988-06-16 |
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