JPS5814038A - 電子ビ−ムマクロアナライザを用いた鋼板分析装置 - Google Patents

電子ビ−ムマクロアナライザを用いた鋼板分析装置

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Publication number
JPS5814038A
JPS5814038A JP56112577A JP11257781A JPS5814038A JP S5814038 A JPS5814038 A JP S5814038A JP 56112577 A JP56112577 A JP 56112577A JP 11257781 A JP11257781 A JP 11257781A JP S5814038 A JPS5814038 A JP S5814038A
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JP
Japan
Prior art keywords
steel plate
electron beam
rays
sample steel
fluorescence
Prior art date
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Pending
Application number
JP56112577A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuyoshi Sato
佐藤 光義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP56112577A priority Critical patent/JPS5814038A/ja
Publication of JPS5814038A publication Critical patent/JPS5814038A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子ビームマクロアナライザを用いた鋼板分析
装置に関し、更に詳細に述べると、鋼板試料に電子ビー
ムを照射して試料から螢光X線を放出せしめ、この螢光
X線を分光することにより鋼板試料中に含有される元素
の分布状況を分析するようにした電子ビームマ、クロア
ナライザを用いた鋼板分析装置に関する。
従来のこの種の装置においては、試料から放出される螢
光X線を分光結晶に導びくため、及び分光結晶において
反射した分光X線をX線検出器へ導びくために、各々ソ
ーラスリットが用いられている。このソーラスリットは
、厚さ数十ミクロンの薄板を、厚さ百乃至二百ミクロン
のスペーサを介して百数十枚つみ重ねて成っており、各
薄板は相互に完全に平行であることが要求される。例え
ば、ソーラスリットにおいて重ね方向にむらがあると、
Xi検出器の出力における高次X線のレベルが増大する
ことになり、一方、スリットに積みむらがあると電子ビ
ームを試料の分析面上で走査した場合にスリン)t−介
して出力されるビームの強さが変動する等の不具合いを
生ずることになる。
更に、電子ビームを数ミクロンの微小ビーム径としり場
合にスリットの影ができるという問題点も有している。
これらの不具合いの1つを解消する1つの方法として、
X線検出器の出力における1次X線と高次Xaとの強度
比を取って、これによりスリットの重ね方向のむらによ
る不具合を解消するようにしたレシオ法と呼ばれる方法
があるがいずれにしても、ソーラスリットの製作には担
当高贋の組立技術を必要と踵手間が掛るという問題点を
有しており、完全なソーラスリットの製作は困難である
本発明の目的は、従って、ソーラスリットを設けること
なく、比較的細径に絞った電子ビームで試料片の所要の
分析面を走査することにより該分析面の元素分布を高分
解能で分析することができるようにした、電子ビームマ
クロアナライザを用いた鋼板分析装置を提供することに
ある。
本発明によれば、ビーム径を10〜200μmφ位に絞
った電子ビームを試料鋼板に照射する手段と、該試料鋼
板に電子ビームが照射されることにより該試料鋼板より
放出される螢光xa全分光検出する非平行ダブル結晶分
光装置と、該非平行ダブル結晶分光装置から得られた出
力データを処理するデータ処理装置とを備え、電子ビー
ムの試料鋼板に対する照射位置を2次元的に変化させる
ことにより試料鋼板中の元素分布の計測を行なう。
鋼板分析装置が提供される。
以下、図示の実施例により本発明の詳細な説明する。
第1図には、本発明による、電子ビームマイクロアナラ
イザを用いた鋼板分析装置の一実施例が示されている。
この鋼板分析装N1は、試料鋼板2を載置するテーブル
3と、試料鋼板20所賛の分析面2aに電子ビーム7を
照射する電子ビーム発生装N4とを備えている。電子ビ
ーム発生装置4は、電子銃5と、電子銃5から出力され
る電子を約10乃至200μmφ程度の比較的細径のビ
ーム状に集束させるための電子レンズ6とを備え電子レ
ンズ6により集束された電子ビーム7は、偏向コイル8
に供給される偏向電流に従ってその進行方向が制御され
、分析面2aはこの電子ビーム7により二次元的に走査
される。この結果、分析面2aから分析面2F!Lの含
有元素に関する情報をもった螢光X線が放出される。
分析面2aからの螢光xmを分光、検出するため、試料
鋼板2の近傍には、非平行ダブル結晶分光装N9が配設
されている。この分光装置9は、ハウジング10内に相
互に非平行状態となるように2枚の平板状分光結晶板1
1.12が設けられて成り、ハウジング10内に進入し
てきた螢光X線15は、平板状分光結晶板11.12に
より反射され、所要の決長の螢光X線がX線検出器14
に入射される。これらの分光結晶11.12は、例えば
グラファイト等の材料から成っており、試料鋼板2中に
含まれている分析すべき元素に応じて適宜選択すること
ができる。分光装置9は、上述の如く、ソーラスリット
を用いることなく、非平行状態に配置された2枚の平板
状分光結晶によって入射螢光X#の分光を行なえるので
、電子ビーム7を微小径(数ミクロン乃至200ミクロ
ン程度)にまで絞っても何らの悪影響を受けること 5
− かない上に、この非平行ダブル結晶分光装置は本来的に
比較的高分解能であるから、極めて良好なスペクトル分
析を行なうことができる。この結果、本発明の装置にお
いては、試料鋼板の構成元素の状態分析も可能である。
X線検出器14からの出力S1け、増幅器15により増
幅さiiた後、波高弁別器16に入力される。
電子ビーム7は試料鋼板2の分析面2a上を走査してい
るので、波高弁別器16に入力される信号はこの走査の
結果得られる時系列信号であり、この時系列信号を分析
面2a上の所定の元素の分布状況のデータに変換するた
め、波高弁別器16からの出力信号Sよけ演算回路17
に入力されている。
この演算回路17の回路構成は、従来のマクロアナライ
ザの構成と同じであり、演算回路17により得られた分
析データは、図示しない表示装置においてブラウン管上
に表示することができる。
第2図には、第1図に示した装置により得られたパルス
の波高値Hと、X線の強度工との関係が示されている。
H=HLK相当する部分が着目した 6− 元素による1次の螢光Xaの波高値であり、H−H6に
相当する部分が2次の螢光X線の波高値を示している。
第2図から判るように、2次のx#Jはほとんど零であ
ね、1次のX線を確実に検出することができる。また、
非平行ダブル結晶分光装置を用いているので、第2図の
ピークの値■。と、バックグラウンドよりとの比が大き
く、従って、検出限界が向上する。この結果、元素の含
有量が少ないため従来の分析装置では分析不可能であっ
たものでも分析が可能となる場合が多々生じ、極めて高
性能の鋼板分析装置を実現することができる。
本発明によれば、上述の如く、ソーラスリットが不要で
あるため製造上の煩雑さが解消され、またソーラスリッ
トの不使用と非平行ダブル結晶分光装置の採用とにより
細いビーム径の電子ビームで試料鋼板を細密に走査する
と共に螢光X線を高分解能で分光できるので、試料鋼板
の構成元素の状態分析も可能となる等の優れた効果を奏
する。
また、検出信号のピーク/パックグランド比カ大きくな
るので、検出限界が向上するという別の優れた利点をも
有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による鋼板分析装置の一実施例を示す概
略構成図、第2図は第1図に示した装置により検出され
f(ハルスの波高値HとX線強度■との関係の一例を示
すグラフである。 1・・・鋼板分析装置  2・・・試料鋼板2a・・・
分析面    3・・・ラープル7・・・電子ビーム 
  8・・・偏向コイル9・・・非平行ダブル結晶分光
装置 11.12・・・平板状分光結晶板 14・・・X@検出器 17・・・演算回路 以   上 出願人 株式会社第二精工舎

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 比較的細径の電子ビームを試料鋼板に照射する手段と、
    該試料鋼板に前記電子ビームが照射されることにより該
    試料鋼板より放出される螢光X線を分光検出する非平行
    ダブル結晶分光装置と、該非平行ダブル結晶分光装部か
    ら得られた出力データを処理するデータ処理装置とを備
    え、電子ビームの試料鋼板に対する照射位置を2次元的
    に変化させることにより試料鋼板中の元素分布の計測を
    行なうことを%徴とする電子ビームマクロアナライザを
    用いた鋼板分析装置。
JP56112577A 1981-07-17 1981-07-17 電子ビ−ムマクロアナライザを用いた鋼板分析装置 Pending JPS5814038A (ja)

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JPS5814038A true JPS5814038A (ja) 1983-01-26

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ID=14590197

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JP56112577A Pending JPS5814038A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 電子ビ−ムマクロアナライザを用いた鋼板分析装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108956658A (zh) * 2017-05-27 2018-12-07 上海西门子医疗器械有限公司 X射线系统和校准x射线管的偏转电流的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108956658A (zh) * 2017-05-27 2018-12-07 上海西门子医疗器械有限公司 X射线系统和校准x射线管的偏转电流的方法
CN108956658B (zh) * 2017-05-27 2021-10-22 上海西门子医疗器械有限公司 X射线系统和校准x射线管的偏转电流的方法

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