JPS5813215Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5813215Y2
JPS5813215Y2 JP1977167959U JP16795977U JPS5813215Y2 JP S5813215 Y2 JPS5813215 Y2 JP S5813215Y2 JP 1977167959 U JP1977167959 U JP 1977167959U JP 16795977 U JP16795977 U JP 16795977U JP S5813215 Y2 JPS5813215 Y2 JP S5813215Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
saucer
heater
heating
heating chamber
frequency
Prior art date
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Expired
Application number
JP1977167959U
Other languages
English (en)
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JPS5491760U (ja
Inventor
康司 岩淵
哲男 窪田
清宏 大島
Original Assignee
株式会社日立ホームテック
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Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立ホームテック filed Critical 株式会社日立ホームテック
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は高周波エネルギーとヒーターなどにより熱エネ
ルギーを加熱室内に供給することにより食品などの被加
熱物を加熱処理する高周波加熱装置に関するもので、特
にヒーターなどによる熱エネルギーを効率よく加熱室内
に供給し、かつ着脱自在なターンテーブルの構造に改良
を加えたものである。
第1図において食品などの被加熱物を処理する場合、初
め高周波エネルギーで加熱し、その後でヒーターで゛焦
げ目をつけたり、ヒーターだけで゛食品を加熱処理した
り、または高周波エネルギーだけで食品を加熱処理した
り、その地鳥周波エネルギーとヒーターなどによる熱エ
ネルギーを種々組み合わせることによって、従来高周波
エネルギーのみ、またはヒーターの熱エネルギーのみで
は得られなかった短時間でしかも調理効果のある加熱処
理の効果が期待できる。
受皿6を載せて回転する受皿載置台7は、高周波加熱か
らヒーター加熱またはヒーター加熱から高周波加熱への
加熱処理をスムーズに行うため、常時取りつけたままで
使用するのが使い勝手上便利である。
そのため、ヒーター加熱時では受皿載置台7はかなりの
高温になるため、ステンレスのような耐熱性のある金属
材料を使用している。
また高周波加熱とヒーター加熱によって加熱室内が食品
等で汚れた場合、清掃性をよくするため受皿載置台7は
着脱自在の構造となっている。
ところが、ヒーター加熱のとき下ヒータ−9bから発生
する熱エネルギーは受皿載置台7によってその熱エネル
ギーがさえぎられ、熱的損失が大である。
また、受皿載置台7は下ヒータ−9bの退居にあるため
熱変形を起し易い。
また、受皿6が金属製の場合、受皿6と受皿載置台7と
の間でスパークを発生し、両者を損傷する危険がある。
そこで本考案は上記欠点を除去するもので、ヒーター加
熱における熱効率のよいと同時に、熱変形に強くかつス
パークの発生し難い受皿載置台を提供するものである。
以下、添付図面を参照して本考案の実施例を説明する。
第1図において高周波加熱の場合、ヒーター加熱に使用
する角皿10は除去する。
高周波発振器1から発生した高周波エネルギーは導波管
2を介して導波管と加熱室との結合孔3を通って加熱室
4内へ放射される。
放射された高周波エネルギーは受皿6上の被加熱物5a
を加熱処理する。
受皿6は回転自在の受皿載置台7の上にのせられ、受皿
載置台7と共に回転する構造となっている。
また受皿載置台7は駆動モーター8に直結した突起物1
2に嵌合し、着脱自在の構造となっている。
次にヒーター加熱の場合は、受皿6を除去する。
加熱室4の上下に配設されたヒーター9 a 、9 b
によって皿受棚11に支持された角皿10上の被加熱物
5bを加熱処理する。
ヒーター加熱のとき下ヒータ−9bから発生した熱エネ
ルギーは受皿載置台7を介して角皿10上の被加熱物5
bに放射される。
従来の受皿載置台は単なる平板構造のため、下ヒータ−
9bからの熱エネルギーが受皿載置台でさえぎられ、熱
損失が大である。
そこで本考案は第2図に示すように受皿載置台7に複数
個の抜穴13をとっであるので、下ヒータ−9bからの
熱エネルギーは受皿載置台7にさえぎられることなく被
加熱物5bに放射され、その分だけ熱効率がよくなる。
また、第2図および3図のように抜き穴の縁に沿っであ
る程度の高さhoを有する切起し14(3mm以上の高
さがあるとき効果が瀝然である)を設けているので、熱
変形に対して強くすることができる。
またさらに、受皿載置台7の上面に、ステアタイトのよ
うに耐熱性がありしかも非導電性の材料からなる複数個
のスペーサ15を設けておくことにより、受皿6が金属
性である場合にも受皿載置台との間にスパークを発生す
ることもなくなり、両者の損傷防止において右投である
なお、スペーサ15の数は少なくとも3つその高さh2
は5mmは必要である。
また、この考案においては、抜き穴13があるために、
清掃等のために受皿載置台を取外した後再び突起12に
嵌合させる場合、抜穴13から突起12を見て確認しな
がら簡単確実に嵌合させることができる。
また、抜き穴の縁に沿っである程度の高さを有する切起
しを設けているので、熱変形に対して強くすることがで
きる。
また、受皿載置台の上面には耐熱性のしかも非導電性の
スペーサを取り付けているので、金属性の受皿を使用し
た場合にでも両者間にスパークを発生させずに済み、両
者の損傷防止および安全性の向上に効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る高周波加熱装置の断面図、第2図
は受皿載置台の平面図、第3図は第2図のA−A’断面
図である。 1・・・・・・高周波発振器、4・・・・・・加熱室、
6・・・・・・受皿、7・・・・・・受皿載置台、9a
・・・・・・上ヒータ−,9b・・・・・・下ヒータ−
,10・・・・・・角皿、13・・・・・・受皿載置台
の抜穴、14・・・・・・切起し、15・・・・・・ス
ペーサ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被加熱物を収納する加熱室と、この加熱室内に高周波エ
    ネルギーを供給する高周波発信器と、加熱室内に熱エネ
    ルギーを供給するヒーターと、高周波発振器が動作中に
    受皿を載せて回転する複数個の抜き穴を有する金属製の
    受皿載置台を具備し、この受皿載置台の抜き穴の縁をあ
    る程度の高さを有する切起しにするとともに、上面に複
    数個の非導電性スペーサを設けてなることを特徴とする
    高周波加熱装置。
JP1977167959U 1977-12-13 1977-12-13 高周波加熱装置 Expired JPS5813215Y2 (ja)

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JP1977167959U JPS5813215Y2 (ja) 1977-12-13 1977-12-13 高周波加熱装置

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JP1977167959U JPS5813215Y2 (ja) 1977-12-13 1977-12-13 高周波加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5491760U JPS5491760U (ja) 1979-06-28
JPS5813215Y2 true JPS5813215Y2 (ja) 1983-03-14

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ID=29168643

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JP1977167959U Expired JPS5813215Y2 (ja) 1977-12-13 1977-12-13 高周波加熱装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58210420A (ja) * 1982-05-31 1983-12-07 Toshiba Corp オ−ブンレンジの回転皿装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5829361Y2 (ja) * 1976-09-13 1983-06-28 シャープ株式会社 加熱調理装置のタ−ンテ−ブル

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JPS5491760U (ja) 1979-06-28

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