JPS58125295A - 集積化電源素子 - Google Patents
集積化電源素子Info
- Publication number
- JPS58125295A JPS58125295A JP57007592A JP759282A JPS58125295A JP S58125295 A JPS58125295 A JP S58125295A JP 57007592 A JP57007592 A JP 57007592A JP 759282 A JP759282 A JP 759282A JP S58125295 A JPS58125295 A JP S58125295A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory
- power source
- circuit
- electrolyte battery
- back bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/141—Battery and back-up supplies
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Power Sources (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Stand-By Power Supply Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はダイナミックRAMに係り、特にそのバックバ
イアス電源がRAMチップ上に集積化した固体電解質電
池によって支援されたダイナミックRAM CdRAM
)に関する。
イアス電源がRAMチップ上に集積化した固体電解質電
池によって支援されたダイナミックRAM CdRAM
)に関する。
従来のバックバイアス電圧Vmiは、dRA M中に内
蔵し九v■発生回路で行っていた。このvl!1発生回
路は大根幅で常時発振しており、実際には数μAしか必
要でないのに発振回路は数mA消費する。また電流容量
が不足気味なので、dl’LAMのリフレッシュ時の大
ピーク電流のため、メモリ動作も不安定になるなどの欠
点があった。
蔵し九v■発生回路で行っていた。このvl!1発生回
路は大根幅で常時発振しており、実際には数μAしか必
要でないのに発振回路は数mA消費する。また電流容量
が不足気味なので、dl’LAMのリフレッシュ時の大
ピーク電流のため、メモリ動作も不安定になるなどの欠
点があった。
第1図に示すように、Vmm=OVでもトランジスタの
しきい電圧Vyiが正(1の場合)の場合には電源投入
時に発振を開始するが、トランジスタが微細になってが
つ高性能なトランジスタを形成し叱場合には第1図2の
ような特性を示すことが多い。この場合にはts電源投
入時トランジスタのVtiは負であり、最早発振回路は
働かないばか抄か、メモリとしても動作しない。
しきい電圧Vyiが正(1の場合)の場合には電源投入
時に発振を開始するが、トランジスタが微細になってが
つ高性能なトランジスタを形成し叱場合には第1図2の
ような特性を示すことが多い。この場合にはts電源投
入時トランジスタのVtiは負であり、最早発振回路は
働かないばか抄か、メモリとしても動作しない。
したがってトランジスタを微細にし、かつ第1図の1の
特性のようなトランジスタを構成しなければならない場
合には、大幅にトランジスタ特性を犠牲にしなければな
らない。
特性のようなトランジスタを構成しなければならない場
合には、大幅にトランジスタ特性を犠牲にしなければな
らない。
本発明はこの従来の内蔵したVmm発生回路の欠点を根
本的罠除去し、第1図2の特性を許容しかつ外部からの
導入端子をもたない定電圧源としても安定なVmm電源
を提供することにある。
本的罠除去し、第1図2の特性を許容しかつ外部からの
導入端子をもたない定電圧源としても安定なVmm電源
を提供することにある。
上記目的を達成する次めに%dRAMチップ上に固体電
解質電池を集積化する。固体電解質電池の容量を十分大
きいものとすれば、充電なしに放電し続けることができ
るが、充電回路を内蔵すれば、容量の小さな固体電解質
電池で間に合うので、適宜選択することができる。
解質電池を集積化する。固体電解質電池の容量を十分大
きいものとすれば、充電なしに放電し続けることができ
るが、充電回路を内蔵すれば、容量の小さな固体電解質
電池で間に合うので、適宜選択することができる。
固体電解質電池は正確力’rt8t 、 vse、 V
ents *NiP3.等、負極はLi、Li−ht、
Li−8i等、電解質は、LiI、 Li、sio、−
Lt3po、 、 Li I−Az、o、等でそれぞれ
1つづつで構成できる。
ents *NiP3.等、負極はLi、Li−ht、
Li−8i等、電解質は、LiI、 Li、sio、−
Lt3po、 、 Li I−Az、o、等でそれぞれ
1つづつで構成できる。
以下、本発明の一実施例を第2図により説明する。
メモリパッケージ3は外部からVcc(+5V)とVs
s(GV、GND)の2電源端子をもち、メモリ回路4
には、vccとVssの他にVmm端子をもつ。このV
mm端子には負荷抵抗6を介して固体電解質電池5が1
つ以上直列に接続されている。
s(GV、GND)の2電源端子をもち、メモリ回路4
には、vccとVssの他にVmm端子をもつ。このV
mm端子には負荷抵抗6を介して固体電解質電池5が1
つ以上直列に接続されている。
Liを主体とする固体電解質電池の起電力は約2Vであ
るから、少くともv■として一3v必要なら2ヶ直列に
接続する必要があるが、−2vでよいときには一つのみ
でも足る。従って、直列接続数は設計によって最適化し
つるので、その数に限定はない。
るから、少くともv■として一3v必要なら2ヶ直列に
接続する必要があるが、−2vでよいときには一つのみ
でも足る。従って、直列接続数は設計によって最適化し
つるので、その数に限定はない。
正極と負極の面積と厚さをそれぞれ0.2 cwr ”
と0.4mとすれば5mAH程度の電力量となる。
と0.4mとすれば5mAH程度の電力量となる。
第3図に本発明の他の実施例を示す。第2図に示した実
施例に加えてVmmを充電するためK V asより低
い電位Vowを発生する充電回路7を加え、さらに逆流
防止回路8を加え、さらに負荷抵抗9を加えたものであ
る。この場合には、充電回路7が正常に動作するまで固
体電解質電池5が放電するのみなので、電池5の容量は
前実施例に比べて大幅に小さくてよく、電池5の集積化
の問題も軽減される。
施例に加えてVmmを充電するためK V asより低
い電位Vowを発生する充電回路7を加え、さらに逆流
防止回路8を加え、さらに負荷抵抗9を加えたものであ
る。この場合には、充電回路7が正常に動作するまで固
体電解質電池5が放電するのみなので、電池5の容量は
前実施例に比べて大幅に小さくてよく、電池5の集積化
の問題も軽減される。
第4図に固体電解質電池の集積化構造の一例をご
示す。メモリチップ上に〆VDやスパッタによる8 1
02、− P 8 G* S ’ @ N4に代表され
るメモリ保護膜を被着し、正極11をスパッタ法やCV
D法で選択的に被着する。さらに電解質12を選択的に
被着した後負極13を選択的に被着し、接続孔16を介
してl;’ e −pJ i −Cr合金、Ni、Cr
。
02、− P 8 G* S ’ @ N4に代表され
るメモリ保護膜を被着し、正極11をスパッタ法やCV
D法で選択的に被着する。さらに電解質12を選択的に
被着した後負極13を選択的に被着し、接続孔16を介
してl;’ e −pJ i −Cr合金、Ni、Cr
。
Ti、W、MO等に代表される電極15を被着してそれ
ぞれ子端子、一端子とする。選択的に被着する方法は公
知のホトエツチング法で行うこともできるし、不用な部
分をリフトオフ材で覆っておき、所望の膜を全面に被着
した後り7トオフ材を溶解すればこの上に被着された部
分は除去されるのでホトエツチングと同様のパターンを
得ることができる。
ぞれ子端子、一端子とする。選択的に被着する方法は公
知のホトエツチング法で行うこともできるし、不用な部
分をリフトオフ材で覆っておき、所望の膜を全面に被着
した後り7トオフ材を溶解すればこの上に被着された部
分は除去されるのでホトエツチングと同様のパターンを
得ることができる。
本発明によれば、安定したバックバイアス電圧Vmmを
供給でき、メモリの安定動作が可能なばかりでなく、v
ll=Ov時に負のしきい値電圧Vtnをもつトランジ
スタで構成される、あるいはVmm=Ovでは正常動作
しない回路にも用いることができる点でdRAMRAM
設計上白由度の拡大となり、ひいては高性能のdRAM
を実現できる。
供給でき、メモリの安定動作が可能なばかりでなく、v
ll=Ov時に負のしきい値電圧Vtnをもつトランジ
スタで構成される、あるいはVmm=Ovでは正常動作
しない回路にも用いることができる点でdRAMRAM
設計上白由度の拡大となり、ひいては高性能のdRAM
を実現できる。
第1図はトランジスタ特性を示す図、第2図。
第3図、および第4図は本発明の実施例を示す図である
。 1・・・トランジスタ特性、2・・・トランジスタ特性
、3・・・メモリパッケージ、4・・・メモリ回路、5
・・・固体電解質電池、6・・・負荷抵抗、7・・・充
電回路、8・・・逆流防止回路、9・・・負荷抵抗、1
o・・・メモリ保護膜、11・・・正極、12・・・電
解質%13・・・負極、第 1 図 市 3 図 %4[D II /υ 第1頁の続き 0発 明 者 工藤徹− 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
。 1・・・トランジスタ特性、2・・・トランジスタ特性
、3・・・メモリパッケージ、4・・・メモリ回路、5
・・・固体電解質電池、6・・・負荷抵抗、7・・・充
電回路、8・・・逆流防止回路、9・・・負荷抵抗、1
o・・・メモリ保護膜、11・・・正極、12・・・電
解質%13・・・負極、第 1 図 市 3 図 %4[D II /υ 第1頁の続き 0発 明 者 工藤徹− 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、チップ上に固体電解質電池を集積化し、これをバッ
クバイアス用電源としたダイナミックRAMから成るこ
とを特徴とする集積化電源素子。 2、上記ダイナミックRAMにおいて、上記固体電解質
電池に充電する回路を追加したことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の集積化電源素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57007592A JPS58125295A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 集積化電源素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57007592A JPS58125295A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 集積化電源素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58125295A true JPS58125295A (ja) | 1983-07-26 |
Family
ID=11670072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57007592A Pending JPS58125295A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 集積化電源素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58125295A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002058148A1 (en) * | 2001-01-16 | 2002-07-25 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for forming a battery in an integrated circuit |
JP2017097946A (ja) * | 2011-06-10 | 2017-06-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2019195088A (ja) * | 2014-08-08 | 2019-11-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020512663A (ja) * | 2017-03-30 | 2020-04-23 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 固体リチウム・ベースの電池および固体リチウム・ベースの電池を形成する方法 |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP57007592A patent/JPS58125295A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002058148A1 (en) * | 2001-01-16 | 2002-07-25 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for forming a battery in an integrated circuit |
US6650000B2 (en) | 2001-01-16 | 2003-11-18 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for forming a battery in an integrated circuit |
JP2004523860A (ja) * | 2001-01-16 | 2004-08-05 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 集積回路内に電池を形成する方法と装置 |
GB2399451A (en) * | 2001-01-16 | 2004-09-15 | Ibm | Apparatus and method for forming a battery in an integrated circuit |
GB2399451B (en) * | 2001-01-16 | 2005-08-17 | Ibm | Apparatus and method for forming a battery in an integrated circuit |
JP4726391B2 (ja) * | 2001-01-16 | 2011-07-20 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 集積回路内に電池を形成する方法と装置 |
JP2017097946A (ja) * | 2011-06-10 | 2017-06-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2019195088A (ja) * | 2014-08-08 | 2019-11-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2020512663A (ja) * | 2017-03-30 | 2020-04-23 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 固体リチウム・ベースの電池および固体リチウム・ベースの電池を形成する方法 |
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