JPS58125040A - ホトマスク - Google Patents
ホトマスクInfo
- Publication number
- JPS58125040A JPS58125040A JP57007625A JP762582A JPS58125040A JP S58125040 A JPS58125040 A JP S58125040A JP 57007625 A JP57007625 A JP 57007625A JP 762582 A JP762582 A JP 762582A JP S58125040 A JPS58125040 A JP S58125040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- sides
- photomask
- light
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/60—Substrates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体製造工程において使用されるホトマスク
に関するものである。
に関するものである。
半導体装置の製造工程の一つであるホ） ＩＪソゲラフ
イエ程に使用するホトマスクは、透明基板の表面に光不
透過材にて所要のパターンを形成した構成であるが、従
来ではこの基板の平面形状により方形マスク、円形マス
ク、円囲一部に面取を施した円形マスク等の種類がある
。しかしながら、方形マスクはホトレジスト塗布等の回
転処理にコーナ部が均一性を損う等の愚作用を及ぼし、
複たウェーハに相対しない部分、つまり有効エリア外の
部分の材料が無駄になるという問題がある。また、円形
マスクでは配列されたパターンの上下関係が判断し難（
、自動機等による位置合せが困難になるという間組があ
る。更に、−面取付円形マスクでは軸対称形状ではない
ためマスクの回転処理が困難になるという問題がある。
イエ程に使用するホトマスクは、透明基板の表面に光不
透過材にて所要のパターンを形成した構成であるが、従
来ではこの基板の平面形状により方形マスク、円形マス
ク、円囲一部に面取を施した円形マスク等の種類がある
。しかしながら、方形マスクはホトレジスト塗布等の回
転処理にコーナ部が均一性を損う等の愚作用を及ぼし、
複たウェーハに相対しない部分、つまり有効エリア外の
部分の材料が無駄になるという問題がある。また、円形
マスクでは配列されたパターンの上下関係が判断し難（
、自動機等による位置合せが困難になるという間組があ
る。更に、−面取付円形マスクでは軸対称形状ではない
ためマスクの回転処理が困難になるという問題がある。
したがって本発明の目的はマスク基板の平面形状を円形
を基準にしてその両側に平行な直線辺部な形成すること
により、材料歩留向−ヒによる低価格化２回転処理の品
質向上１位置合せ作業の合理化を達成することが↑きる
ホトマスクを提供することにある。
を基準にしてその両側に平行な直線辺部な形成すること
により、材料歩留向−ヒによる低価格化２回転処理の品
質向上１位置合せ作業の合理化を達成することが↑きる
ホトマスクを提供することにある。
以）、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
図は本発明のホトマスクｌを示し、透明基板２の表面に
クロム等の光不透過材３の薄膜を形成してこれを所定の
パターンに形成している。このホトマスクの平面形状は
円形を基準とし、その両側には互に平行な直線辺部４ａ
、４ｂを形成している。この場合、一方の直線辺部４ａ
はウェーハのオリフラに一致させ、他方の直線辺部４ｂ
は同一のものを反対側に形成すればよい。
クロム等の光不透過材３の薄膜を形成してこれを所定の
パターンに形成している。このホトマスクの平面形状は
円形を基準とし、その両側には互に平行な直線辺部４ａ
、４ｂを形成している。この場合、一方の直線辺部４ａ
はウェーハのオリフラに一致させ、他方の直線辺部４ｂ
は同一のものを反対側に形成すればよい。
したがって、このホトマスクによれば円形にしたことに
より、第２図に斜線で示すような周辺部のホトレジスト
等の材料が不要になり、材料歩留向上による低価格化が
実現できる。一方、両側に形成した直線辺部４ａ、４ｂ
を利用して第３図のように平行チャック５．５を用いれ
ば、ホトマスクの回転処理や上下方向の判断やその位置
決め設足な容易に行なうことができる。
より、第２図に斜線で示すような周辺部のホトレジスト
等の材料が不要になり、材料歩留向上による低価格化が
実現できる。一方、両側に形成した直線辺部４ａ、４ｂ
を利用して第３図のように平行チャック５．５を用いれ
ば、ホトマスクの回転処理や上下方向の判断やその位置
決め設足な容易に行なうことができる。
なお、直線辺部４ａ、４ｂの切欠量は本実施例のものに
限定されることなく適宜変更すること゛ができる。
限定されることなく適宜変更すること゛ができる。
以上のように本発明のホトマスクによれば、基板の平面
形状を円形を基準にしてその両側に互に平行な直線辺部
を形成しているので、材料歩留向上による低価格化１回
転処理の品質向上２位置合せ作業の合理化を達成するこ
とができろという効果を奏する。
形状を円形を基準にしてその両側に互に平行な直線辺部
を形成しているので、材料歩留向上による低価格化１回
転処理の品質向上２位置合せ作業の合理化を達成するこ
とができろという効果を奏する。
第１図は本発明のホトマスクの平面図、第２図および第
３図は効果な駈、明するための図である。 ｌ・・・ホトマスク、２・・・透明基板、３・・・光不
透過材、４ａ、４ｂ・・・直線辺部、５ °チャック。
３図は効果な駈、明するための図である。 ｌ・・・ホトマスク、２・・・透明基板、３・・・光不
透過材、４ａ、４ｂ・・・直線辺部、５ °チャック。
Claims (1)
- １、透明基板の表面に光不透過材にてパターンを形成し
てなるホトマスクにおいて、前記基板の平面形状は円形
を基準にしてその両側に平行な直線辺部を形成したこと
を特徴とするホトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57007625A JPS58125040A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | ホトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57007625A JPS58125040A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | ホトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58125040A true JPS58125040A (ja) | 1983-07-25 |
Family
ID=11671001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57007625A Pending JPS58125040A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | ホトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58125040A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0919875A1 (en) * | 1997-11-25 | 1999-06-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Mask blank and method of producing mask |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP57007625A patent/JPS58125040A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0919875A1 (en) * | 1997-11-25 | 1999-06-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Mask blank and method of producing mask |
| US6162564A (en) * | 1997-11-25 | 2000-12-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Mask blank and method of producing mask |
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